本实用新型为多尺寸基板晶圆装载机构，包括主装载装置、从装载装置、支撑杆、支撑柱以及转动机构，所述转动机构位于所述支撑杆的底端中心位置，所述支撑柱位于所述支撑杆的顶端，且所述支撑柱靠近所述支撑杆的两侧，所述支撑柱设有多个，所述主装载装置位...

一种液体涂覆装置，包括机架、驱动电机、旋转杆以及喷涂箱，所述机架内置工作空腔，所述工作空腔前端设置密封门，所述机架顶端设置驱动电机，所述旋转杆顶端与驱动电机输出端连接，所述旋转杆底端穿过机架侧壁伸入工作空腔内，所述旋转杆底端设置定位板，...

本实用新型为显影液分类回收处理设备，包括壳体，所述壳体包括进料口、进料斗、成分检测器、第一收集罐、第二收集罐、第一排水管、第二排水管以及控制器，所述进料斗位于所述壳体的顶端，所述进料口位于所述壳体的顶端，所述进料口连通所述进料口的内部，...

一种化学液处理回收装置，包括预处理罐、进液装置、导管、泵体、第一输送管、第一容器、第二容器、第一滤网、回收池、罐盖、连接件、卡块和导流板，所述预处理罐顶端设置有进液装置，预处理罐右侧设置有导管，所述导管上设置有泵体，导管一端与预处理器相...

一种光刻胶收集装置自动清洗系统，包括清洗液罐、收集装置、集液箱、导液管、第一泵体、超声波清理装置、滤网、循环管、PLC控制系统、触摸屏和喷嘴，所述清洗液罐顶端设置有进液口，清洗液罐右侧上设置有导液管，所述导液管一端与清洗液罐相通，另一端...

本发明提供了一种卡榫及具有其的真空马达式晶圆吸盘，具有卡榫的真空马达式晶圆吸盘包括卡榫、动力单元和吸盘本体，动力单元设置有容置凹槽，空心轴上设置有安装孔。卡榫的中部设置有避让轴段，沿着避让轴段的两端延伸设置有固定轴段，固定轴段与避让轴段...

本实用新型涉及半导体领域，具体为一种半导体基板烘烤装置，包括箱体，所述箱体包括烘烤槽、烘烤板、基板固定装置、门板、烘烤机以及转动机，所述烘烤槽位于箱体内部，且所述烘烤槽设有多个，所述烘烤板设置在箱体内部，且位于烘烤槽的上端以及下端，所述...

晶圆表面干燥吹扫设备，包括机架、干燥架、氮气供应装置、清洗箱以及夹持块，所述机架内置工作空腔，工作空腔前端设置密封门，所述机架顶端设置驱动电机，所述驱动电机输出端设置旋转杆，所述旋转杆远离驱动电机一端穿过机架侧壁伸入工作空腔内，所述旋转...

本实用新型为显影液恒温管路系统，包括恒温箱、出水管、回水管和显影液管，所述恒温箱下方一端与所述出水管连接，所述恒温箱下方另一端与所述回水管连接，所述恒温箱正面固定有补水阀，所述出水管一端固定有第一分液开关，所述第二分液开关与所述出水管相...

本实用新型涉及基板处理技术领域，具体为一种基板冷热处理装置，包括支撑杆、下支撑板、上支撑板、框架、水箱、加热器以及空调，所述支撑杆位于下支撑板的下端，所述上支撑板位于下支撑板的上端，所述下支撑板上设有第二电热管、支撑部以及冷凝管，并且所...

本实用新型公开了一种晶圆烘烤装置，其包括壳体和设置在壳体内的密封机构、加热器和顶出机构，本实用新型通过在壳体表面设置升降导轨，顶出机构和密封机构均与该升降导轨滑动连接，从而可以通过顶出机构的升降运动配合稳定不动的加热器实现顶出晶圆或顶针...

本实用新型公开了一种晶圆加热器，其包括加热盘组件和用于固定该加热盘组件的固定基座，固定基座具有供所述加热盘组件容置的容置腔，加热盘组件包含金属盘和连接加热源的陶瓷盘，该金属盘的下表面与陶瓷盘的上表面相连接，陶瓷盘的下方设有隔热件。本实用...

本实用新型为晶圆吸附装置，包括吸盘、密封圈、固定环和环形槽，所述吸盘上固定有固定环，所述密封圈内部设置有安装腔，所述安装腔与所述固定环相匹配，所述密封圈下方设置有环形槽，所述吸盘内固定有密封罩，所述密封罩下方与所述固定环连接，所述密封罩...

本实用新型公开了一种光刻胶保湿系统，其结构包括盒体，本实用新型通过设置辅助机构于盒盖上端中部，电机输出轴带动第一旋转轴，从而使得固定在旋转板右端的搅拌装置开始对承装斗内的光刻胶进行搅拌，达到了防止光刻胶凝结，且便于使用者进行使用的优点，...

本实用新型公开了一种组装辅助装置，该组装辅助装置包括底座和装夹辅助机构，装夹辅助机构设置有两组，两组装夹辅助机构分别设置在底座上，每组装夹辅助机构包括：旋转盘，旋转盘转动装接于底座上；支撑轴，支撑轴安装于旋转盘上；夹批组件，夹批组件转动...

本实用新型公开了一种晶圆生产时用微环境控制系统，包括内置显示屏、左抓把、面板、按键、开关钮、控制座、右抓把、顶嵌口、散热机构和拧动圈，本实用新型通过优化设置了散热机构，在控制座内部侧端加设配合散热的整体结构，大散热硅胶、小散热硅胶本体具...

本实用新型公开了一种晶圆传递装置，其利用第一机械臂传递处于高温状态的晶圆，利用第二机械臂传递处于冷却状态的晶圆，这样避免了同一个机械臂既传递处于高温状态的晶圆又传递处于冷却状态的晶圆，进而提高晶圆在各工艺步骤过程中的温度稳定性和均一性；...

本实用新型公开了一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，其结构包括收集斗、支撑脚、出料口、控制按钮、电源线和开合机构，本实用新型的一种防止晶圆污染的光刻胶收集结构，通过在出料口底部设置了开合机构，按动控制按钮使汽缸底部向上收缩，汽缸带动连接条...

一种双缓冲型光阻液喷涂系统，其特征在于，包括：第一储液罐，第一过滤器；第一缓冲器；所述第一过滤器设置于所述第一储液罐与所述第一缓冲器之间；所述第一缓冲器连接有第一回抽管；所述第一回抽管安装有第一回抽泵；第二储液罐；第二过滤器；第二缓冲器...

一种节约光阻液的光阻液喷涂系统，包括：储液罐，用于储存和供应光阻液；第一过滤器，用于过滤光阻液的杂质；缓冲器，用于排除光阻液的微气泡，并用于缓存和提供光阻液；所述第一过滤器设置于所述储液罐与所述缓冲器之间；光阻液泵，用于将所述缓冲器内的...