一种光刻胶收集装置自动清洗系统，包括清洗液罐、收集装置、集液箱、导液管、第一泵体、超声波清理装置、滤网、循环管、PLC控制系统、触摸屏和喷嘴，所述清洗液罐顶端设置有进液口，清洗液罐右侧上设置有导液管，所述导液管一端与清洗液罐相通，另一端设置有第一泵体，所述第一泵体一端设置有输送管，输送管穿过收集装置外壳设置在收集装置内部，所述输送管上设置有通管，所述通管底端设置有喷嘴，所述收集装置内部两侧设置有超声波清理装置，收集装置底端设置有导流板，PLC控制系统可以使整个清洗系统进行编程控制的，使各个单元的运转时间可以根据要求增减，清洗的顺序可以改变，方便操作。方便操作。方便操作。
【技术实现步骤摘要】
光刻胶收集装置自动清洗系统
[0001]本技术涉及光刻胶
，具体为一种光刻胶收集装置自动清洗系统。
技术介绍
[0002]光刻技术是集成电路中利用光学
‑
化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术；随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级(从毫米级到亚微米级)，已成为一种精密的微细技工技术，因此，现有技术中通常利用匀胶机进行对单晶表面或介质层进行涂胶以满足其精度要求。
[0003]例如公开号为“CN201921497382.8”专利名称为：“一种光刻胶清洗装置”的专利，其公开了“包括第一安装架，所述第一安装架的顶部固定安装有数量两个的连接杆，两个所述连接杆的顶部均与第二安装架的底部固定连接，所述第二安装架内腔的顶壁固定安装有放射灯，所述第一安装架内腔的左右侧壁均固定安装有安装块，所述安装块的内部滑动连接有活动块，所述安装块的顶壁内部固定安装有螺纹圈，所述螺纹圈的内表面活动连接有贯穿安装块且与活动块活动连接的螺丝杆，所述连接杆的外表面套接有与连接杆转动连接的转动杆，两个所述转动杆的相离面均固定安装有第一固定箱，所述第一固定箱的内部滑动连接有贯穿第一固定箱的滑动杆，两个所述滑动杆的相离面均固定安装有固定架，所述固定架的内部固定安装有贯穿并延伸至固定架底部的喷枪，所述喷枪的顶部连通有位于固定架顶部的进水漏斗，所述喷枪的外表面固定安装有连通至喷枪内部的控制阀，所述喷枪的底部固定安装有导流杆，所述第二安装架的左右两侧均固定安装有齿槽块，所述第一固定箱的顶部固定安装有第二固定箱，所述第二固定箱的内部滑动连接有贯穿第二固定箱的插杆，两个所述插杆的相对面均固定安装有插块，所述第二固定箱内腔的顶壁和底壁句固定安装有数量为两个的弹簧，所述弹簧远离第二固定箱的一侧固定安装有与插杆活动连接的卡块”。
[0004]但是现有的光刻胶收集装置在清洗时了需要人工进行清洗光刻胶收集装置，容易出现清洗不彻底、效率低、影响产能等问题。
技术实现思路
[0005](一)解决的技术问题
[0006]针对现有技术的不足，本技术提供了一种使用方便的光刻胶收集装置自动清洗系统。
[0007](二)技术方案
[0008]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种光刻胶收集装置自动清洗系统，包括清洗液罐、收集装置、集液箱、导液管、第一泵体、超声波清理装置、滤网、循环管、PLC控制系统、触摸屏和喷嘴，所述清洗液罐顶端设置有进液口，清洗液罐右侧上设置有导液管；所述导液管一端与清洗液罐相通，另一端设置有第一泵体，所述第一泵体一端设置有
输送管，输送管穿过收集装置外壳设置在收集装置内部，所述收集装置顶端设置有箱盖，箱盖底部设置有密封垫，所述箱盖上左侧设置有合页，箱盖上设置有电磁锁，所述输送管上设置有通管，所述通管底端设置有喷嘴；所述收集装置内部侧壁设置有超声波清理装置；所述收集装置右侧设置有排液管，排液管一端与收集装置相通，另一端与集液箱相通；所述集液箱内部设置于滤网，集液箱底端左侧设置有循环管，所述循环管上设置有第二泵体。
[0009]为了实现更好的观察使用，本技术改进有，所述收集装置上设置有观察口，观察口一侧设置有PLC控制系统。
[0010]为实现更好的人机交互，方便使用，本技术的改进有，所述PLC控制系统上设置有触摸屏，所述PLC控制系统与触摸屏电性连接，所述电磁锁与PLC控制系统电性连接。
[0011]为实现更好的导流效果，本技术改进有，收集装置底端设置有导流板。
[0012]技术为了实现更好的清理，本技术改进有，所述超声波清理装置设置在所述收集装置内部的至少两侧侧壁。
[0013]为了实现更好的清洗，本技术改进有，所述喷嘴设置有多个，并等间距的通过通管设置在输送管上。
[0014]为了实现更好的控制，本技术改进有，所述第一泵体、第二泵体和超声波清理装置与PLC控制系统电性连接。
[0015]为了实现更好的排液，本技术改进有，所述导流板采用倾斜设置，并与排液管相对应。
[0016]为了提高清洗装置的使用寿命，本技术改进有，所述清洗液罐、收集装置和集液箱内部均设置有防锈涂层。
[0017]为了实现更好的循环，本技术改进有，所述循环管的一端与集液箱相通，另一端与清洗液罐相通。
[0018](三)有益效果
[0019]与现有技术相比，本技术提供了一种光刻胶收集装置自动清洗系统，具备以下有益效果：
[0020]该光刻胶收集装置自动清洗系统，在于所述的清洗液罐与收集装置通过导液管相通，在使用时，通过第一泵体将清洗液在导液管内输送至喷嘴，喷嘴设置有多个，并等间距的通过通管设置在输送管上，喷嘴对收集装置内部进行喷水清洗；
[0021]在收集装置内部侧壁设置的超声波清理装置，可以对收集装置内部的不易冲洗的光刻胶进行清理，提高装置的清理效果；
[0022]在收集装置底端设置的导流板设置为斜面，并与排液管相对应，斜面的设计可以方便清洗液快速、干净的排至集液箱内部，在集液箱内部设置的滤网可以对清洗液进行过滤，使清洗液掺杂的胶粒进行过滤，在通过循环管和第二泵体将清洗液再导入清洗液罐内部，使清洗液进行循环使用，减低成本，提高实用性；
[0023]在收集装置外设置的观察口可以方便人员对内部进行实时观察，所述收集装置上设置的PLC控制系统与触摸屏电性连接，第一泵体、第二泵体和超声波清理装置与PLC控制系统电性连接，通过触摸屏可以控制整体的清洗系统，使其能够实现自动清洗，不需要人工清洗光刻胶收集装置，避免出现清洗不彻底、效率低等问题，并且PLC控制系统可以使整个清洗系统进行编程控制的，使各个单元的运转时间可以根据要求增减，清洗的顺序可以改
变，方便操作。
附图说明
[0024]图1为本技术结构示意图；
[0025]图2为本技术图1中A处的局部放大结构示意图；
[0026]图3为本技术图1的2处的外部结构示意图；
[0027]图4为本技术图1的2处的俯视结构示意图；
[0028]图中：1.清洗液罐；2.收集装置；3.集液箱；4.进液口；5.导液管；6.第一泵体；7.输送管；8.超声波清理装置；9.排液管；10.滤网；11.循环管；12.第二泵体；13.PLC控制系统；14.触摸屏；15.通管；16.喷嘴；17.观察口；18.导流板；19.箱盖；20.合页；21；密封垫；22.电磁锁。
具体实施方式
[0029]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶收集装置自动清洗系统，其特征在于：包括清洗液罐(1)、收集装置(2)、集液箱(3)、导液管(5)、第一泵体(6)、超声波清理装置(8)、滤网(10)、循环管(11)、PLC控制系统(13)、触摸屏(14)和喷嘴(16)，所述清洗液罐(1)顶端设置有进液口(4)，所述清洗液罐(1)右侧上设置有所述导液管(5)；所述导液管(5)一端与所述清洗液罐(1)相通，另一端设置有第一泵体(6)；所述第一泵体(6)一端设置有输送管(7)，所述输送管(7)穿过所述收集装置(2)外壳以设置在所述收集装置(2)内部，所述收集装置(2)顶端设置有箱盖(19)，箱盖(19)底部设置有密封垫(21)，所述箱盖(19)上左侧设置有合页(20)，箱盖上设置有电磁锁(22)，所述输送管(7)上设置有通管(15)，所述通管(15)底端设置有喷嘴(16)；所述收集装置(2)内部侧壁设置有超声波清理装置(8)；所述收集装置(2)右侧设置有排液管(9)，所述排液管(9)一端与所述收集装置(2)相通，另一端与所述集液箱(3)相通；所述集液箱(3)内部设置于滤网(10)，集液箱(3)底端左侧设置有所述循环管(11)，所述循环管(11)上设置有第二泵体(12)。2.根据权利要求1所述的光刻胶收集装置自动清洗系统，其特征在于：所述收集装置(2)上设置有观察口(17)，观察口一侧设置有PLC控制系统(13)。3.根据权利要求2所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴永利，
申请(专利权)人：芯米厦门半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。