本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供无论正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：酸产生剂，包含将具有碘原子或溴原子的2个芳香族基连接而成...

将在保护膜上形成的能够通过离子束蚀刻或甲醇蚀刻从而进行蚀刻的反射型掩模坯料的吸收膜图案化，其中，通过设有与保护膜和吸收膜两者接触的蚀刻阻止膜和吸收膜上的第一硬掩模膜，并使用第一硬掩模膜的图案作为蚀刻掩膜，通过离子束蚀刻或甲醇蚀刻将吸收膜...

本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法。本发明的课题是提供基板上的成膜性及填埋特性优良，且EBR步骤时的隆起抑制性优良的有机膜形成用组成物。本发明的解决手段是一种有机膜形成用组成物，其特征在于包含：(A)具有下述通...

本发明是一种自由基硬化型硅氧组成物，其特征在于，含有：(A)三维网状有机聚硅氧烷，其由式(1)：(R13SiO1/2)m1(R2R12SiO1/2)m2(R3R12SiO1/2)m3(SiO4/2)q(R1各自独立地为不具有脂肪族不饱和...

本发明提供一种通过光等的外部刺激而具有高降解特性且具有聚酯结构和聚醚结构的共聚物、优选为在一分子中具有至少2个能自由基聚合的不饱和基团的聚酯‑聚醚共聚物和具有来源于该共聚物的结构单元的弹性体球形粒子及其制造方法。该共聚物为具有聚酯结构和...

本发明为一种油墨组合物，其为包含量子点的油墨组合物，其特征在于，其包含使所述量子点与倍半硅氧烷共聚而成的倍半硅氧烷聚合物、或使所述量子点及烷氧基硅烷共聚而成的倍半硅氧烷聚合物。由此，提供一种能够使量子点在高浓度下分散而不凝聚从而包含可靠...

本发明为一种固化性全氟聚醚粘着剂组合物，其含有：100质量份的(A)直链状全氟聚醚化合物，其在一分子中具有至少两个烯基，且在主链中具有包含‑CaF2aO‑所表示的重复单元的全氟聚醚结构；(B)有机硅化合物，其在一分子中具有至少两个键合于...

氨基改性有机硅乳液组合物，其含有：(A)为特定的氨基当量、八甲基环四硅氧烷含量为5000ppm以下的氨基改性有机硅：100质量份；(B)25℃下的粘度为10～230mPa·s、氨基当量为500～3000g/mol的氨基改性有机硅，八甲基...

本发明涉及鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可产生扩散小的酸的鎓盐、含有其的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种鎓盐，以下式(A)表示。

本发明提供一种固化性马来酰亚胺树脂组成物，其能够避免使用非质子性极性溶剂中的NMP等具有高沸点或毒性等缺点的溶剂，且能够在低温条件下进行固化，并能够赋予对半导体元件材料的粘合性优异的固化物。所述固化性马来酰亚胺树脂组合物包含(A)数均分...

提供由下述式(1)表示的、具有磺酸酯结构和烯丙基的芴化合物。(式中，R1各自独立地为氢原子或甲基。R2各自独立地为碳原子数1～20的烃基，其氢原子的一部分或全部可被卤素原子、硝基或氰基取代，酯键或醚键可介于其碳‑碳键间。)。

剥离剂组合物，其包含：(A)硬度为8～30MPa的醇酸树脂、(B)氨基树脂、及(C)在1分子中具有2个以上的可与选自(A)成分和(B)成分中的一个以上的树脂化学地键合的官能团的有机聚硅氧烷，剥离性和反复使用性良好，剥离剂的涂布被膜的表面...

提供由下述式(1)表示的、具有卤素原子和烯丙基的芴化合物。(式中，R各自独立地为氢原子或甲基。X各自独立地为氟原子、氯原子、溴原子或碘原子。)。

本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供具有超过已知的正型抗蚀剂材料的感度及分辨率，边缘粗糙度、尺寸偏差小，且曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料，以及提供图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料，含有：含下...

本发明提供一种有机硅树脂溶解剂，其包含：1~90质量%的(A)下述通式(1)和/或(2)所示的硅酸盐化合物；及99~10质量%的(B)相对介电常数为10.0以下的非质子性有机溶剂。由此，能够提供一种有机硅树脂溶解剂，其用以使有机硅树脂从...

导热性有机硅组合物，其含有(A)运动粘度为10～10000mm2/s的有机聚硅氧烷、(B)运动粘度为10～100000mm2/s的有机聚硅氧烷、(C)含氧量为0.5质量％以下、BET比表面积为1.0m2/g以下、平均粒径为3～40μm、...

提供底漆组合物，其含有：(A)(A‑1)包含由下述式表示的结构单元、不含规定的紫外线吸收性基团的共聚物(R1表示氢原子等，R2表示一价烃基等，R4表示氢原子等，R5和R6表示烷基等，X2表示亚烷氧基羰基等，n表示1～3的整数，＊表示与邻...

提供光固化性组合物，其包含：(A)相对于无机粒子100质量份，1～30质量份的由下述式(1)表示的有机硅化合物、其水解物和缩合物的至少一种化学键合而成、体积基准的粒度分布中的中值直径为1～60nm的表面改性无机粒子；(B)二官能(甲基)...

本发明提供了一种8‑(酰氧基)烷醛化合物(1)及其制备方法，其中n表示0或1，R1表示具有1至10个碳原子的直链或支链烷基、苯基或其中一个或多个氢原子被卤素原子取代的苯基。所述方法包括以下步骤：使上述8‑(酰氧基)烷醛化合物(1)与亲核...

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在远紫外线光刻、EUV光刻及电子束(EB)光刻等使用高能射线的光学光刻中，LWR、分辨率优良，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的化学增幅抗蚀剂组成物、使用其的鎓盐、及使用该化...