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信越化学工业株式会社专利技术
信越化学工业株式会社共有3967项专利
生物体电极组成物、生物体电极、及生物体电极的制造方法技术
本发明涉及生物体电极组成物、生物体电极、及生物体电极的制造方法。本发明的目的在于提供能够形成导电性及生物体适合性优异、轻量且能够以低成本制造、即使被水润湿即使干燥而导电性仍不会大幅下降、柔软而伸缩性及粘着性优异的生物体电极用的生物体接触...
含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法、及含金属的膜形成用化合物的制造方法技术
本发明涉及含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法、及含金属的膜形成用化合物的制造方法。本发明提供给予在半导体装置制造步骤的微细图案化处理中,可获得良好的图案形状且和抗蚀剂上层膜有高密合性并会抑制微细图案崩塌的含金属...
成膜方法及成膜装置制造方法及图纸
本发明为一种使雾自喷嘴喷出至经加热的基板上并通过雾化CVD法形成晶体氧化物膜的成膜方法,其特征在于,作为所述喷嘴,使用至少包含2个以上的相对的进气口、具备所述进气口的气体混合部及喷出所述雾的出气口的喷嘴,将所述气体混合部的体积设为V(c...
抗蚀材料和图案形成方法技术
一种抗蚀材料和图案形成方法。[课题]提供灵敏度高且LWR、CDU得以改善的抗蚀材料和使用其的图案形成方法。[解决手段]一种抗蚀材料,其包含含有重复单元a的基础聚合物,所述重复单元a由取代或非取代的芳基磺酸阴离子和鎓阳离子形成,所述取代或...
鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法技术
本发明涉及鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供能够产生扩散小的酸的鎓盐、含有此鎓盐的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。一种鎓盐,以下式(1)表示。
抗蚀剂下层膜形成用组成物、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法技术
本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法。本发明的课题为提供对比已知的有机下层膜材料能形成显示极优良的干蚀刻耐性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组成物。一种抗蚀剂下层膜形成用组成物,其特征为:含有具有下...
抗蚀剂下层膜形成方法和图案形成方法技术
提供能形成显示出优异的耐干式蚀刻性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成方法和图案形成方法。抗蚀剂下层膜形成方法的特征在于,为在基板上形成抗蚀剂下层膜的方法,包括如下工序:(i)在前述基板上涂布包含(A)聚合物和有机溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组...
绝缘性热传导片材制造技术
本发明提供一种厚度方向的热传导性优异且柔软的绝缘性热传导片材。所述绝缘性热传导片材为热传导性有机硅树脂组合物的固化物,其包含:(A)含有下述(A1)~(A3)的热固性有机硅树脂:100质量份,其中,(A1)有机聚硅氧烷,其在1分子中具有...
有机聚硅氧烷和粉体处理剂以及用该粉体处理剂所处理的处理粉体和化妆料制造技术
本发明提供一种适合作为长期保存稳定性高、与粉体表面的反应性高的粉体处理剂的有机聚硅氧烷。一种以下述平均结构式(1)表示的有机聚硅氧烷。[化学式1]〔在式(1)中,R为烷基等,R10为在末端具有水解性甲硅烷基的聚氧亚烷基且为在1分子中存在...
缩醛修饰剂、聚合物、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法技术
本发明涉及缩醛修饰剂、聚合物、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物,并提供用于制造该抗蚀剂组成物使用的基础聚合物的缩醛修饰剂、经该缩醛修饰剂修饰的聚合物、及使用该化学增幅正型抗蚀剂组成物的...
耐热性硅油组合物制造技术
本发明提供一种即使在长期保管时也不会引起分离、沉淀等的耐热性优异的硅油组合物。所述耐热性硅油组合物包含:(A)依照JISZ 8803:2011中记载的方法,通过坎农‑芬斯克粘度计测定了的在25℃条件下的运动粘度为50~5000mm2/s...
含有硫代环氧基和(甲基)烯丙基的芴化合物及其制造方法技术
提供由下述式(1)表示的含有硫代环氧基和(甲基)烯丙基的芴化合物。(式中,R1~R4各自独立地为氢原子或甲基)。
音圈电机、用于音圈电机的磁路配置组件及其制造方法技术
用于VCM的磁路配置组件包括一对轭、设置在所述轭的内表面上的一对磁体、以及支撑构件或支撑柱,所述支撑构件或支撑柱在所述磁体之间保持间隙以使所述轭彼此固定,所述磁体是具有在其上进行涂覆的表面的稀土烧结磁体,所述磁体的成分按重量计由以下组成...
化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法技术
本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供一种可获得改善图案形成时的分辨度,且LER及图案忠实性良好的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物,以及提供一种抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅负...
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法技术
本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供:可形成能形成具有极高的分辨性、LER小、矩形性优异、显影负载的影响及显影残渣缺陷经抑制的图案的抗蚀剂膜的化学增幅正型抗蚀剂组成物,以及使用该化学增幅正型抗蚀剂组...
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法技术
本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法。本发明的课题为提供基板(晶圆)上的成膜性(面内均匀性)及填埋特性优良且抑制了EBR步骤时的隆起的有机膜形成用组成物、使用了该组成物的有机膜形成方法及图案形成方法。解决该课题的...
氟聚醚系固化性组合物和固化物以及电气电子部件制造技术
含有(A)在1分子中具有2个以上的烯基的全氟聚醚化合物、(B)特定结构的具有2个以上的氢甲硅烷基的含氟有机氢硅烷化合物、(C)铂族金属系催化剂、和(D)选自有机树脂粉末和炭黑粉末中的至少一种的填充剂的特定量的氟聚醚系固化性组合物可成为给...
含有氟聚醚基的聚合物、表面处理剂和物品制造技术
本发明的表面处理剂包含含有氟聚醚基的聚合物和/或其部分(水解)缩合物,该聚合物为主链的含有氟代氧亚烷基的聚合物残基的数均分子量为6000~30000的高分子量聚合物,其在分子链的两末端具有硅烷醇基或水解性甲硅烷基、并且在主链的含有氟代氧...
活性剂组合物和化妆料制造技术
提供低粘度、处理性优异的活性剂组合物、和含有其的使用感良好的化妆料,该活性剂组合物含有:(A)具有每一个亲水基团两个以上羟基的非离子性表面活性剂、和(B)只具有一个羟基的25℃下为液体的油性成分,该活性剂组合物的25℃下的粘度为不到(A...
具有含有硫代环氧基和(甲基)烯丙基的芴基的有机硅化合物及其制造方法技术
提供由下述式(1)表示的具有含有硫代环氧基和(甲基)烯丙基的芴基的有机硅化合物。(式中,R1~R8各自独立地为氢原子或甲基。R9~R12各自独立地为氢原子或碳原子数1~10的烃基。R13为碳原子数1~10的亚烃基)。
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