本发明为非水电解质二次电池用负极活性物质，其具有负极活性物质颗粒，所述负极活性物质颗粒含有硅化合物颗粒，所述硅化合物颗粒含有硅化合物（SiO<subgt;x</subgt;：0.5≤x≤1.6），所述硅化合物颗粒包含Li化合...

本发明涉及含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明的课题为提供用于形成具有优异的干式蚀刻耐性，且兼具高程度的填埋/平坦化特性的含金属的膜的化合物；包含该化合物的含金属的膜形成用组成物；使用该组成物的图案形成...

本发明涉及含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明的课题是，以提供在半导体装置制造步骤中的微细图案化流程中，可获得良好的图案形状，且给予具有与抗蚀剂上层膜的高密接性且抑制微细图案的崩塌的抗蚀剂中间膜的含金属...

本发明涉及含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明的课题为提供相对于已知的有机下层膜材料具有优异的干式蚀刻耐性，且兼具高程度的填埋/平坦化特性的金属化合物；使用该化合物的含金属的膜形成用组成物；将该组成物使...

本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可改善图案形成时的分辨率且可获得LER及图案忠实性良好的抗蚀剂图案化学增幅负型抗蚀剂组成物、及抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，...

能够由能够通过使用含有氧(O)的气体的干法蚀刻图案化的吸收膜通过反射型掩模坯料形成细微且良好的吸收膜的图案，该反射型掩模坯料包括基板、在基板的一个主表面上形成的反射曝光光的多层反射膜、在多层反射膜上形成的吸收曝光光的吸收膜、和在吸收膜上...

由等离子体照射显示优异的耐干式蚀刻性、膜厚均匀性的抗蚀剂下层膜形成方法、图案形成方法。抗蚀剂下层膜形成方法包括(i)涂布含(A)聚合物和(B)有机溶剂的组合物进行热处理的工序；(ii)进行等离子体照射形成抗蚀剂下层膜的工序，(A)聚合物...

作为包括含有钌(Ru)的保护膜的反射型掩模坯料，通过包括基板、多层反射膜、保护膜、吸收膜和在保护膜和吸收膜之间的含有铌(Nb)且不含钌(Ru)的蚀刻阻止膜的反射型掩模坯料来提供反射型掩模坯料，其中保护膜难以受损并可抑制厚度的降低。

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供：在远紫外线光刻、EUV光刻及电子束(EB)光刻等使用高能射线的光学光刻中，LWR、分辨性优异，又，可抑制抗蚀剂图案的倒塌的化学增幅抗蚀剂组成物；使用于其中的鎓盐；以...

本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可以形成能够形成具有极高的分辨率、LER小、矩形性优良、对显影液的残渣缺陷的影响受到抑制的图案的抗蚀剂膜的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该组成物的抗蚀剂图案形成...

本发明提供一种环氧树脂组合物，其特征在于，其包含(A)一分子内包含2个以上的环氧基的环氧树脂、(B)下述通式(1)所表示的聚有机硅氧烷化合物及(C)环氧树脂固化剂，相对于100质量份的所述(A)成分，所述环氧树脂组合物包含1~40质量份...

本发明为一种防护膜框架，构成光刻用的防护膜，所述防护膜框架为纯钛或钛合金制，且对表面实施了机械性研磨处理、电解脱脂处理以及化学性研磨处理。由此，提供一种减少了残存于表面的粉尘粒子的防护膜框架及防护膜框架的制造方法。

[课题]提供一种负型感光性树脂组合物、图案形成方法、固化覆膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜和电子部件，所述负型感光性树脂组合物可溶于碱水溶液，能够形成微细的图案且能够得到高分辨率，并且，即便在低温下进行固化的情况下，断裂伸长率、拉伸强...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度，且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料以及使用该抗蚀剂材料的图案形成方法。该课题的解决手段是一种抗蚀剂材料，含有：基础聚合物，具有三氟甲氧基苯磺酰胺阴离子、二氟甲氧基苯磺酰胺阴...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论为正型或负型皆为高感度，且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料以及使用该抗蚀剂材料的图案形成方法。该课题的解决手段是一种抗蚀剂材料，含有：淬灭剂，包含选自N‑羰基三氟甲氧基苯磺酰胺、...

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供：在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度，且高对比度，又曝光裕度、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的鎓盐；包含该鎓盐作为光酸产生剂的化...

本发明为一种LED安装基板的制造方法，具有利用碱性清洗液对通过激光剥离而自蓝宝石基板上移载至受体基板上的LED芯片进行清洗的工序。由此，提供一种能够选择性地将通过激光剥离而自蓝宝石基板上移载至受体基板上的LED芯片上所附着的金属Ga在不...

包含在分子中的至少一个末端具有至少一个由下述式(1)表示的基团的含有氟聚醚基的聚合物和/或其部分(水解)缩合物的表面处理剂可形成拒水拒油性、滑动性且卡紧性优异的固化被膜。(式中，Y为包含邻、间或对亚苯基的二价的有机基团，R为碳原子数1～...

本发明提供一种光固化性氟聚醚系弹性体组合物及其粘接方法。所述组合物包含100质量份的(A)直链多氟化合物、(B)含氟有机氢聚硅氧烷、(C)光活性型硅氢化反应催化剂和0.1～20质量份的(D)沸石。所述(A)成分在1分子中具有2个以上的烯...

本发明提供一种固化性全氟聚醚粘着剂组合物，其含有下述(A)~(C)成分且通过固化形成具有小于0.5N/25mm的粘着力的粘着剂；100质量份的(A)直链状全氟聚醚化合物，其一分子中至少具有两个烯基且主链中具有包含‑CaF2aO‑所示的重...