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信越化学工业株式会社专利技术
信越化学工业株式会社共有3967项专利
热和光固化型有机硅组合物及其固化物的制造方法技术
对下述的热和光固化型有机硅组合物能够分别且简便地管理第一阶段的固化和第二阶段的固化,其含有(A)在1分子中具有至少三个(甲基)丙烯酰基的有机聚硅氧烷、(B)在1分子中具有至少两个烯基、不具有(甲基)丙烯酰基的有机聚硅氧烷、(C)在1分子...
含有氟聚醚基的聚合物制造技术
由式(1)表示的含有氟聚醚基的聚合物在导入了反应性官能团后,可成为在氟聚醚基与反应性官能团的连接基中含有聚硅氧烷结构(特别是分支状或环状的聚硅氧烷结构)的聚合物,可成为能够对固化物表面赋予优异的特性的拒水拒油处理剂。(式中,Rf为一价或...
固化性全氟聚醚压敏胶粘剂组合物、使用了该组合物的固化物的压敏胶粘剂以及压敏胶带制造技术
本发明为一种固化性全氟聚醚压敏胶粘剂组合物,其含有:(A)直链状全氟聚醚化合物,其1分子中具有至少2个烯基且主链中具有包含‑CaF2aO‑所表示的重复单元的全氟聚醚结构,其中,a表示1~6的整数,所述(A)直链状全氟聚醚化合物为100质...
反射型掩模坯料及反射型掩模的制造方法技术
本发明的反射型掩模坯料,用于将EUV光作为曝光光的EUV光刻中使用的反射型掩模的原材料,其特征在于,包括:基板10;在所述基板10的一个主表面上形成的反射曝光光的多层反射膜20;与所述多层反射膜20相接地形成的保护膜50;以及用于吸收在...
加成反应固化型有机聚硅氧烷组合物及其制造方法技术
本发明提供一种加成反应固化型有机聚硅氧烷组合物,其含有:(A)中的(A‑1)1分子中具有与硅原子键合的烯基且不具有(甲基)丙烯酰基的有机聚硅氧烷、(A)中的(A‑2)1分子中具有烯基和(甲基)丙烯酰基的有机聚硅氧烷、(B)1分子中具有平...
热固性马来酰亚胺树脂组合物制造技术
本发明提供一种热固性马来酰亚胺树脂组合物。所述热固性马来酰亚胺树脂组合物在加热时的熔融粘度低,作为其固化物的固化膜的可挠性优异,相对介电常数和介电损耗角正切均低,玻璃化转变温度高,热膨胀系数低,且即使长期放置其耐热性和耐湿性也均优异。所...
光纤母材的制造方法、光纤母材、及光纤技术
本发明提供一种光纤母材的制造方法,包括:沉积工序,通过使SiO<subgt;2</subgt;微粒子附着在起始母材上而获得灰粒母材,所述起始母材包含石英玻璃且具有折射率较高的纤芯部及折射率低于所述纤芯部的包层部;烧结工序,在...
油包水型化妆料制造技术
本发明是鉴于上述情况而完成的,其目的在于提供在稳定性、妆容、涂敷时的延展性优异,在叠加涂抹的彩妆化妆料的持续性优异的审美性高的化妆料。一种油包水型化妆料,含有油剂、下述(A)成分、(B)成分以及(C)成分的油包水型化妆料,水相成分含有下...
光和热固化型有机硅组合物以及其固化物的制造方法技术
下述的有机硅组合物能够分别且简便地管理第一阶段固化和第二阶段固化,其含有(A)在一分子中具有至少三个(甲基)丙烯酰基的有机聚硅氧烷、(B)在一分子中具有至少两个烯基、不具有(甲基)丙烯酰基的有机聚硅氧烷、(C)在一分子中具有至少两个氢甲...
抗蚀剂材料及图案形成方法技术
本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论为正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:酸产生剂,含有被碘原子取代的芳基磺酸的锍盐或錪盐。
光固化性涂布组合物和被覆物品制造技术
光固化性涂布组合物,其含有(A)由式(1)表示的有机聚硅氧烷(R1相互独立地表示氢原子、或可介入氧原子等的1价的烃基,X相互独立地表示可介入氧原子等的2价的饱和烃基,Q相互独立地表示可介入氧原子等的(a+1)价的饱和烃基,P相互独立地表...
抗蚀剂材料及图案形成方法技术
本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论为正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:基础聚合物,具有被碘原子取代的芳基磺酸阴离子键结于主链...
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物技术
本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物。本发明的课题是提供基板上的成膜性及填埋特性优良,会抑制EBR步骤时的隆起,且作为多层抗蚀剂用的有机膜使用时的处理容忍度优良的有机膜形成用组成物、使用该组成物的有机膜形...
抗蚀剂下层膜形成用组成物、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂下层膜的制造方法、图案形成方法、及半导体装置的制造方法制造方法及图纸
本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂下层膜的制造方法、图案形成方法、及半导体装置的制造方法。本发明的课题为提供一种可形成会表现优异的加工耐性及优异的气体穿透性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组成物。本发明的解决手段...
抗蚀剂下层膜形成用组成物、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂下层膜的制造方法、图案形成方法、及半导体装置的制造方法制造方法及图纸
本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂下层膜的制造方法、图案形成方法、及半导体装置的制造方法。本发明的课题为提供一种可形成会表现优异的加工耐性及优异的气体穿透性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组成物。其解决手段为一种...
被覆物品及其制造方法技术
提供被覆物品,其具有树脂基材、在所述树脂基材上设置的底漆层、在所述底漆层上设置的硬涂层、和在所述硬涂层的表层部形成的光改性层,所述底漆层为包含(A)乙烯基系(共)聚合物和(B)具有规定的中值直径的无机粒子的底漆组合物的固化被膜,(A)乙...
鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法技术
本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种鎓盐型单体,其在化学增幅抗蚀剂组成物中使用,该化学增幅抗蚀剂组成物于使用高能射线的光学光刻中,溶剂溶解性优异、高感度、高对比度且曝光裕度(EL)、LWR、C...
混炼型硅橡胶复合物、混炼型硅橡胶组合物及混炼型硅橡胶组合物的制备方法技术
本发明中提供一种混炼型硅橡胶复合物,其包含:(A)有机聚硅氧烷生胶;(B)比表面积为50~450m2/g的强化性二氧化硅;(C)下述通式(1)所示的有机烷氧基硅烷的部分水解物;及(D)选自下述(D1)~(D3)中的一种以上的缩合反应用催...
抗蚀剂材料及图案形成方法技术
本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供边缘粗糙度、尺寸偏差小、分辨度优良、且耐热性良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料,含有:包含含有下式(a1)或(a2)表示的反应性基团的重复单元(A)及...
导热性双面接着带及其制造方法技术
本发明的目的在于提供一种导热性复合体及其制造方法,其因是片状而处理性良好,进而强度及绝缘性优异,且可容易地将自身固定于元件或放热构件,进而与放热构件的接着强度优异。一种导热性复合体,具有:第一导热性接着层;增强层(A),层叠于所述第一导...
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