信越化学工业株式会社专利技术

信越化学工业株式会社共有3967项专利

  • 本发明涉及图案形成方法。本发明提供可形成边缘不粗糙的微细图案的图案形成方法。一种图案形成方法,包括下列步骤:在被加工基板上,按顺序叠层有机下层膜、含硅硬掩膜、含硅抗反射膜、及光致抗蚀剂膜,于光致抗蚀剂膜形成抗蚀剂图案,形成硬掩膜中间膜图...
  • 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供具有优于已知的正型抗蚀剂材料的感度及分辨率,边缘粗糙度、尺寸变异小,曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料及图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料,含有:基础聚合物,含...
  • 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论正型或负型皆为高感度,且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:经碘化的苯酚化合物的锍盐。
  • 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论正型或负型皆为高感度,且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:双鎓盐,含有具有直接键结于被碘原子取代的芳香族基团的磺酸...
  • 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论正型或负型皆为高感度,且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:双鎓盐,含有具有直接键结于被碘原子取代的芳香族基团的磺酸...
  • 一种涂层剂,包含:(A)具有皮膜形成性的树脂;(B)硅酮橡胶粒子,为包含下述成分的硬化性液状硅酮组合物的加成反应产物;以及水,(B‑1)二有机聚硅氧烷,一分子中具有两个以上的烯基;(B‑2)有机聚硅氧烷树脂,含有R13SiO1/2单元及...
  • 本发明提供一种光敏树脂组合物,其特征在于,包含:(A)具有酚羟基的有机硅树脂、(B)光致产酸剂及(C)量子点,所述量子点具有含有硅氧烷的表面包覆层。由此,可提供能够容易形成具有高光刻分辨率、良好的发光特性的覆膜的光敏树脂组合物,使用该光...
  • 本发明提供一种光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜及使用该光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜的图案形成方法,所述光敏树脂组合物能够在无铜变色的状态下容易地形成为厚膜且微细的图案,并且能够形成抗铜迁移性、对基材的密合性、可靠性优异的...
  • 本发明为一种环氧树脂组合物,其包含(A)在一分子内包含2个以上环氧基的环氧树脂、(B)下述式(1)所表示的含介晶基团的聚有机硅氧烷、(C)环氧树脂固化剂。可提供一种包含具有介晶基团的聚有机硅氧烷的环氧树脂组合物。在式(1)中,R1彼此独...
  • 本发明提供一种含量子点组合物,其为使通过激发光发出荧光的量子点分散于树脂组合物而得到的含量子点组合物,其特征在于,所述量子点具有配位于其表面的配体与同所述配体键合并含有硅氧烷键的表面包覆层,所述表面包覆层含有所述树脂组合物中包含的高分子...
  • 本发明提供一种覆膜形成性有机聚硅氧烷的乳液组合物,其特征在于,其由含有下述成分而成:(A)有机聚硅氧烷,其为下述平均组成式(1)所表示的在25℃下的粘度为300,000mPa·s以上且1分子中含有至少2个键合于硅原子的烷氧基或羟基的有机...
  • 本发明的第一方案提供一种加成固化型氟硅酮组合物,其特征在于,其含有:(A)下述通式(1)所示的25℃下的黏度为100~500,000mPa·s的含乙烯基有机聚硅氧烷;(B)一分子中具有3个以上的硅原子键合氢原子的下述式(3)所示的支链状...
  • 本发明提供一种光敏树脂组合物,其特征在于,其包含(A)具有(甲基)丙烯酰基的树脂、(B)光自由基产生剂及(C)量子点,所述量子点具有含有硅氧烷的表面包覆层。由此,提供能够容易形成具有高光刻分辨率、良好的发光特性的覆膜的光敏树脂组合物、使...
  • 本发明涉及聚合物、正型及负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜、及电子零件。本发明课题为提供可溶于碱水溶液、可形成微细图案且可获得高分辨率且即使于低温硬化时其机械特性仍良好的可使用作为正型及负型感光...
  • [问题]本发明的目的在于提供一种强度及伸长率高、凝聚粒子的量少的硅酮橡胶粒子及硅酮橡胶粒子的水分散体。[解决手段]一种硅酮橡胶粒子,为包含下述(A‑1)成分、(A‑2)成分及(A‑3)成分的硬化性液状硅酮组合物的加成反应产物,具有0.5...
  • 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供超过已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨率,且边缘粗糙度、尺寸偏差小,曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种正型抗蚀剂材料,包含基础聚合物,...
  • 本发明的反射型掩模坯料包括:基板10;以及形成在基板10的一个主表面上并反射曝光光的多层反射膜50。所述多层反射膜50具有周期性地层叠含有钌(Ru)的低折射率层30、含有硅(Si)的高折射率层20、以及防止钌(Ru)和硅(Si)相互扩散...
  • 提供一种仅散布含有HPMCAS的粉末,且仅通过单一层叠工序就能够被包衣的固体制剂的制造方法。一种在无溶剂条件下被包衣的固体制剂的制造方法,至少包含:预备混合工序,将粉末状的醋酸羟丙基甲基纤维素琥珀酸酯、粉末状的增塑剂和粉末状的湿润剂进行...
  • 本发明涉及含叔酯的芳香族乙烯单体的制造方法。本发明的课题是提供尤其适于EB光刻用抗蚀剂组成物及波长13.5nm的EUV光刻用抗蚀剂组成物的含叔酯的乙烯基芳香族单体的制造方法,其是比起已知配方更高效率且高品质的新颖制造方法。该课题的解决手...
  • 本发明的由式(1)表示的新型的含有氟聚醚基的丙烯酸系化合物通过在紫外线、电子束等活性能量射线固化性组合物中添加,从而能够对得到的固化覆膜赋予优异的拒液性、防污性、耐磨损性。(A为H、F、一价烃基、或‑CH(X‑Y‑Z(Y2‑V)m)2,...