本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度且曝光裕度、边缘粗糙度、尺寸均匀性、焦点深度等光刻性能优异，并且即使在微细图案形成时仍抗图案崩塌的化...

本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种在使用高能射线的光刻法中感度和分辨性优异的非化学增幅抗蚀剂组成物、以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种抗蚀剂组成物，包含下述式(1)所示的超价碘化合物、含羧基的聚合物和溶剂，该含...

一种干式粘合剂微纤维阵列，包括多个纤维，所述多个纤维具有适于与表面接触的尖端，其中干式粘合剂能够在升高的温度下粘合到所述表面。干式粘合剂的结合强度保持恒定或者随着衬底/干式粘合剂/载体的温度升高而增大。可剥除所述干式粘合剂而不在衬底的表...

化妆料，其含有由下述式(1)表示的有机聚硅氧烷，在配混了有机硅、烃油和酯等各种油剂、有机紫外线吸收剂、25℃下为固体状的油性成分的情况下，也具有优异的历时稳定性、化妆持续性。

本发明涉及含硅的锍盐化合物、含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明提供能够形成在多层抗蚀剂法中具有适当的蚀刻速度、在超微细图案中能够改善LWR、CDU的含硅的抗蚀剂下层膜的含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物、前述组成物中包含...

本发明涉及含金属的膜形成用组成物、图案形成方法。本发明的课题是以提供对比已知的有机下层膜材料具有优良的干蚀刻耐性，且同时具有高水准的填埋/平坦化特性的含金属的膜形成用组成物、使用该组成物于抗蚀剂下层膜材料的图案形成方法为目的。本发明的解...

本发明涉及密合膜形成用组成物、图案形成方法。本发明提供一种密合膜形成用组成物，其是含硅中间膜与抗蚀剂上层膜之间形成的密合膜的密合膜形成材料，用于形成有效抑制图案崩塌同时有助感度提升的密合膜而使用；其包含(A)有机聚合物、(B)金属源及(...

本发明涉及含金属的膜形成用组成物、图案形成方法。本发明的课题目的为提供用以形成可在保持上层抗蚀剂的LWR的情况下对感度改善有贡献的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组成物、及使用该组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种含金属的膜形成...

本发明是一种含有量子点组合物，该组合物含有响应激发光而发出荧光的量子点，其特征在于，所述含有量子点组合物为所述量子点和聚合性高分子组合物的混合物，所述量子点的表面含有具有硅氧烷键的表面被覆层，所述表面被覆层中所含的游离硫醇基的含量为每1...

含有含氟涂布剂组合物的表面处理剂能够形成拒水拒油性、耐磨损性优异的固化覆膜，该含氟涂布剂组合物包含由下述通式(1)表示的含有氟聚醚基的聚合物和/或其部分(水解)缩合物、和(B)聚硅氮烷，(A)成分与(B)成分的混合质量比为0.1：99....

本发明提供一种用于半导体清洁的清洁剂组合物，该清洁剂组合物包含季铵盐、及由化学式1所表示的酸酰胺化合物。此处，R<subgt;1</subgt;～R<subgt;3</subgt;为有机基团，R<subgt...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有经碘原子取代的苯氧化物阴离子结构及和该苯氧...

本发明为一种结晶性氧化物半导体膜，其为包含作为主成分的α‑Ga<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;的经过了单轴取向的膜，该结晶性氧化物半导体膜为包含α‑Ga<subgt;2&l...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论为正型或负型皆为高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料，以及提供使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：双鎓盐，含有具有被碘原子取代的苯氧化物阴离子结构...

本发明涉及含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明提供对比已知的抗蚀剂下层膜材料有优良的干蚀刻耐性且兼顾高水准的填埋/平坦化特性的含金属的膜形成用化合物、使用了该化合物的含金属的膜形成用组成物、及使用了该组...

本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为超过已知的正型抗蚀剂材料的高感度且尺寸变异小，曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料、含有该材料的正型抗蚀剂组成物及使用该组成物的图案形成方法、以及作为正型抗蚀剂材料的高分子化合...

本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂。本发明提供可形成成膜性、填埋特性及隆起抑制性优异而且作为有机膜使用时的处理裕度优异的有机膜的组成物。有机膜形成用组成物，包含：有机膜形成用材料、具有通式(B1)表...

本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法。本发明提供能形成基板上的成膜性、填埋特性、隆起抑制性、及作为多层抗蚀剂用的有机膜使用时的处理裕度优异的有机膜的组成物。一种有机膜形成用组成物，含有：(A)有机膜形成用材料、(...

本发明为一种防水剂组合物，其含有：100质量份的(A)下述平均组成式(1)所表示的在25℃下的粘度为5~1,000mPa·s的有机氢聚硅氧烷；10~100质量份的(B)下述平均组成式(2)所表示的在25℃下的粘度为300,000mPa·...

本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂。本发明提供能形成成膜性、填埋特性及隆起抑制性优异而且作为多层抗蚀剂用的有机膜时的处理裕度优异的有机膜的有机膜形成用组成物。一种有机膜形成用组成物，包含(A)有机膜...