提供了一种高效生产具有优异流动性的羟丙基甲基纤维素邻苯二甲酸酯(HPMCP)的方法，其中可减少经过洗涤和回收步骤的反应产物混合物中的醋酸。更具体而言，提供了一种生产HPMCP的方法，该方法包括在作为溶剂的醋酸中用邻苯二甲酸酐酯化羟丙基甲...

提供具有防污性、磨损耐久性、固定部的保持性优异的被膜的物品，其具有在基材的表面形成的在含有具有分支结构的氧亚烷基单元的重复结构的包含氟聚醚基的聚合物主链的两个末端具有水解性甲硅烷基或含羟基的甲硅烷基、主链氟聚醚基的摩尔质量为5000Da...

本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法及图案形成方法。本发明提供一种有机膜形成用组成物，其可形成基板上的成膜性与填埋特性优异、且EBR步骤时的隆起抑制性优异、用作多层阻剂用的有机膜时的处理裕度优异的有机膜。一种有机膜形成用组成物，...

本发明涉及聚合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供：含有具有优良的蚀刻耐性、有机溶剂溶解性、及适当的酸强度，且可产生扩散小的酸的聚合物键结型酸产生剂的化学增幅负型抗蚀剂组成物，以及使用该化学增幅抗蚀剂组成...

本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题提供：具有优良的蚀刻耐性、有机溶剂溶解性、及适当的酸强度，且可产生扩散小的酸的锍盐型单体，含有来自该鎓盐型单体的重复单元的聚合物，含有该聚合物的化学...

本发明提供一种树脂组合物，其在大面积封装时低翘曲性优异、且能够形成具有低介电损耗角正切的固化物。所述树脂组合物为包含(A)双马来酰亚胺化合物、(B)反应引发剂、以及(C)二氧化硅粉体的树脂组合物，其中，所述(C)二氧化硅粉体为在利用FT...

本发明是一种负极，其具有表面经粗糙化的负极集电体、以及设置于该负极集电体上的负极活性物质，其特征在于：所述负极活性物质包含负极活性物质粒子，该负极活性物质粒子具有锂、硅及氧的化合物，所述负极活性物质粒子能够以SiOxLiy表示，x的值为...

本发明的课题是提供能抑制对抗蚀剂图案的影响且能保管、输送光掩模坯基板的光掩模坯基板收纳容器。本发明提供光掩模坯基板收纳容器、保管方法及输送方法，该收纳容器具备：内部构件，具有内部盒体与保持构件；容器本体，具有下箱与上盖；及，密封带。容器...

本发明涉及清洗液、基板的清洗方法、及含金属的膜的形成方法。本发明的课题为：以提供在将含金属的膜形成用组成物涂布于基板上后的在基板的周缘部的含金属的膜的除去等清洗性、隆起抑制性及排出液稳定性优异的清洗液；使用其的半导体基板的清洗方法；以及...

本发明为一种喷嘴的清洗方法，其特征在于，其使用成膜装置进行清洗工序，所述成膜装置具备具有载物台与喷嘴的成膜部，所述载物台对所载置的基板进行加热，所述喷嘴将随同载气的包含镓的成膜原料的雾供给至所述基板，所述成膜装置通过使所供给的所述雾在经...

本发明涉及有机膜形成方法及半导体装置用基板的制造方法。本发明提供一种有机膜的形成方法，其在半导体装置等的制造步骤中，能够填埋基板上的凹凸的图案，以低成本使基板高程度平坦化。一种有机膜形成方法，其为在具有凹凸图案的基板上形成有机膜的方法，...

本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性良好，分辨性、LER、图案形状等光刻性能优异且于微细图案形成仍抗图案崩塌，蚀刻耐性也优良的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅...

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种用于化学增幅抗蚀剂组成物的新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法，该化学增幅抗蚀剂组成物在使用高能射线的光刻中，无论是正型还是负型，均为高感度，分辨性优异，能够改善...

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，不论是正型还是负型均高感度，且分辨性优异，能改善各种光刻性能、抑制抗蚀剂图案倒塌的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成...

本发明提供能够以良好的成品率制造结晶性优异的单晶锭的单晶锭的制造方法、和能够制造器件特性优异的晶片的单晶晶片的制造方法。本发明的单晶锭的制造方法包括：准备第一单晶锭的步骤；从第一单晶锭切出评价用基板102和晶种用锭103，在晶种用锭上形...

本发明为一种成膜方法，其通过对经过了雾化的原料溶液进行热处理并在基体上发生热反应，从而在所述基体上将结晶性金属氧化物膜进行成膜，所述成膜方法的特征在于，作为所述原料溶液，使用包含金属原料、羧酸的原料溶液，所述金属原料至少包含构成所述结晶...

本发明的技术问题在于，提供光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜及使用该组合物的图案形成方法，所述光敏树脂组合物具备屏蔽功能且在清漆中具有分散稳定性，膜中的聚集体得到抑制且能够形成微细的图案，并能够形成光敏树脂覆膜。解决手段为一种光敏树...

本发明涉及图案形成方法、及叠层体。本发明的课题是提供可保持抗蚀剂上层膜的LWR的同时有助于感度提升的图案形成方法、及叠层体。本发明的解决手段是一种图案形成方法，是具备下列步骤的使用EUV光刻的图案形成方法，于基板的至少一面侧形成抗蚀剂上...

本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光刻中，溶剂溶解性优异，为高感度、高对比度，曝光裕度、边缘粗糙度、尺寸均匀性、焦点深度等光刻性能优异，并且在微细图案形成中也耐图案崩塌且耐蚀刻性...

由下述式(1)表示的、界面张力降低能力优异的有机聚硅氧烷。R1aR2bR3cSiO(4‑a‑b‑c)/2 (1);R2为由下述式(2)表示的聚甘油基，R3为由下述式(3)表示的有机基团。