有机聚硅氧烷和含有有机聚硅氧烷的化妆料制造技术

由下述式(1)表示的、界面张力降低能力优异的有机聚硅氧烷。R1aR2bR3cSiO(4‑a‑b‑c)/2 (1);R2为由下述式(2)表示的聚甘油基，R3为由下述式(3)表示的有机基团。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及有机聚硅氧烷和含有其的化妆料。此外，本专利技术中将化妆料用的组合物记载为化妆料。

技术介绍

1、目前为止，作为乳化剂，多使用有机硅系活性剂。其中，聚甘油改性有机硅有着聚甘油对皮肤的附着性和有机硅特有的轻快的感觉，广泛用于乳化化妆料等。

2、在专利文献1中，作为使具有至少两个羟基的多元醇取代烃基和有机硅化合物与有机氢聚硅氧烷加成反应而成的组合物，提出了聚甘油改性有机硅的合成方法。

3、另一方面，在配混紫外线吸收剂、荷荷巴籽油等与有机硅的相容性差的油剂的情况下，已知使用专利文献2、专利文献3中记载的特定的烷基分支型聚甘油改性有机硅。但是，即使在配混了上述有机硅的化妆料中，也需要大量的苯基有机硅、酯油等相容剂，具有配方设计的自由度降低、使用感沉滞的问题。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：日本特开2002-179798号公报

7、专利文献2：国际公开第2017/199732号

8、专利文献3：日本特开2007-269690号公报p>

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【技术保护点】

1.由下述式(1)表示的有机聚硅氧烷：

2.根据权利要求1所述的有机聚硅氧烷，其中，所述有机聚硅氧烷在采用威廉米法测定有机聚硅氧烷浓度0.01质量％的轻质液体石蜡溶液与水在25℃下的界面张力时，自界面形成8小时后的测定值为25mN/m以下。

3.化妆料，其含有根据权利要求1所述的有机聚硅氧烷。

4.根据权利要求3所述的化妆料，其还含有有机紫外线吸收剂。

5.根据权利要求3或4所述的化妆料，其还含有25℃下为液体的油性成分。

6.根据权利要求5所述的化妆料，其中，25℃下为液体的油性成分为选自烃油、天然油和酯中的成分。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.由下述式(1)表示的有机聚硅氧烷：

2.根据权利要求1所述的有机聚硅氧烷，其中，所述有机聚硅氧烷在采用威廉米法测定有机聚硅氧烷浓度0.01质量％的轻质液体石蜡溶液与水在25℃下的界面张力时，自界面形成8小时后的测定值为25mn/m以下。

3.化妆料，其含有根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：森谷浩幸，小西将幸，宫内大，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：