本发明的目的在于提供光敏树脂组合物、使用该光敏树脂组合物得到的光敏树脂覆膜、光敏干膜及使用该光敏树脂组合物和光敏干膜的图案形成方法以及使用所述光敏树脂组合物得到的显示装置，所述光敏树脂组合物能够容易地形成光刻分辨率高、具有良好的发光特性...

含有由下述式(1)表示的有机聚硅氧烷的剥离片用轻剥离添加剂。(式中，R1独立地为未取代或取代的碳原子数1～3的烷基，R2独立地为具有羟基、氨基或羧基、可介入杂原子的碳原子数1～10的一价有机基团，R3独立地为未取代或取代的碳原子数4～2...

本发明提供一种反射型光掩模坯，其包括：基板，在该基板上的反射作为极紫外光范围内光的曝光光的多层反射膜，在该多层反射膜上的保护膜，与保护膜接触的吸收曝光光的吸光膜，以及与该吸光膜接触的硬掩膜。所述保护膜由设在基板侧的第一层和设在离基板远的...

本发明提供了一种药物溶解性更高的复合物，该复合物至少包括包含药物和聚乙烯吡咯烷酮以外的载体的固体分散体，以及固体分散体外的HPMCAS。更具体地说，提供了一种复合物，其至少包括固体分散体，所述固体分散体至少包含药物和载体，所述载体选自由...

本发明提供一种临时粘合材料组合物，其为将基板与支撑体以能够剥离的方式粘合的临时粘合材料组合物，其含有(A)通过硅氢化反应进行交联的有机聚硅氧烷混合物、(B)不会引发硅氢化反应的有机聚硅氧烷、(C)催化剂及(D)有机溶剂，使所述临时粘合材...

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度，且EL、LWR、CDU、MEF、EL、DOF等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的鎓盐；包含该鎓盐...

本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物。本发明的目的是提供可形成基板(晶圆)上的成膜性(面内均匀性)及填埋特性优良，且EBR步骤时的隆起抑制性优良，且作为多层抗蚀剂用的有机膜使用时的制程宽容度优良的有机膜的...

本发明的技术问题在于提供可以不分开进行而是一并进行含量子点的光致抗蚀剂的工艺与吸收蓝色LED的光的抗蚀剂材料的工艺的材料、及使用了该材料的图案形成方法及显示装置。其解决手段为一种多层结构型的光敏干膜，其特征在于，其具备：支撑膜；形成在所...

提供了一种具有在纵向上抑制特性波动的光纤用多孔玻璃基材的制造方法。通过气相轴向沉积法的光纤基材的制造方法包括以下步骤：在沉积过程中检测多孔玻璃基材的尖端位置；控制上拉速度以保持尖端位置恒定；在沉积早期阶段，对每个沉积时间设置目标上拉速度...

本发明涉及负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜、及电子零件。本发明提供了一种感光性树脂组成物，其使用了聚酰亚胺前驱物，能够在低温下进行酰亚胺闭环反应，组成物的稳定性优良，能够形成精细图案，且硬化后...

本发明涉及一种电磁波屏蔽部件，其具有：含有电磁波吸收填料和粘合剂树脂的电磁波吸收层、和在该电磁波吸收层的电磁波入射面的相反面侧设置的反射层，其中，所述电磁波吸收层具有4～30的介电常数和0.1～2.0的介电损耗角正切，所述电磁波吸收填料...

提供由下述式(1)表示的三嗪化合物。[式中，R1～R3各自独立地为氢原子、烷基、由下述式(2)表示的基团或由下述式(3)表示的基团，至少一个为由下述式(3)表示的基团。(式中，R4各自独立地为氢原子或碳数1～7的烷基。R5为碳数1～12...

本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，感度、分辨率及LWR优良、稳定且操作也容易的抗蚀剂组成物，以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有锌四核团簇。

本发明是一种无机锡乳剂组合物，其特征在于，包含：100质量份的(A)无机锡化合物；5~100质量份的(B)烃油；5~50质量份的(C)表面活性剂；50~2000质量份的(D)水。由此，可提供一种保存稳定性良好的无机锡乳剂及其制备方法。

本发明提供一种成膜用喷嘴及成膜装置，该成膜用喷嘴，将包含使液体原料雾化所获得的原料雾和载气的混合气体供给到基体表面；具备：供所述混合气体流入的供给口以及、与所述供给口空间地连接并供所述混合气体流出的吐出口；从所述成膜用喷嘴的所述供给口到...

本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度，在EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能优异的同时，于微细图案形成时抗图案崩塌亦强，蚀刻耐性亦...

本发明涉及加成反应固化型有机硅乳液组合物，其特征在于，包含选自在分子内具有至少1个脲基的非聚合物的有机化合物中的至少1种脲基化合物(I)、在一分子中具有至少2个烯基的有机聚硅氧烷(II)以及水(VI)，相对于所述有机聚硅氧烷(II)10...

本发明涉及在其侧链具有羧基基团和(甲基)丙烯酰基基团的硅氧烷改性的聚酯树脂。

本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物，以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：下式(1)表示的超原子价碘...

本发明涉及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供抗蚀剂图案形成方法；使用非化学增幅抗蚀剂组成物，将曝光后的抗蚀剂膜用干蚀刻进行显影形成正型或负型的抗蚀剂图案，该非化学增幅抗蚀剂组成物在使用高能射线的光学光刻中，感度及极限分辨率优良。一种抗蚀剂图...