由下述式(1)表示的有机硅化合物可形成亲水性和防雾性的耐水性优异的涂布组合物。(式中，R1各自独立地表示氢原子、碳原子数1～10的烷基或碳原子数6～10的芳基，R2各自独立地表示碳原子数1～10的烷基或碳原子数6～10的芳基，X表示可介...

含有由下述通式(I)表示的单体的聚合物的拒水拒油剂虽然全氟烷基的碳原子数不到6(5以下)但不仅在初期而且在耐热条件下也显示良好的拒水拒油性。(式中，R为氢原子、卤素原子、烷基或芳基，X为单键、或可含有选自氧原子、氨基键、酰胺键、尿烷键和...

本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供一种抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法，该抗蚀剂组成物在使用了高能射线的光刻中，为高对比度且极限分辨率会提升，又感度、LWR亦优良。本发明的解决手段是一种抗蚀剂组成物...

本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物，以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：超原子价铋化合物、羧酸化合...

本发明涉及抗蚀剂组成物、叠层体、及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及分辨度优良的非化学增幅抗蚀剂组成物、具备得自该抗蚀剂组成物的抗蚀剂膜的叠层膜、以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一...

包含(A)在分子中具有至少两个与硅原子结合的烯基的有机聚硅氧烷：100质量份、(B)在分子中具有至少两个与硅原子结合的氢原子的直链状有机氢聚硅氧烷：0.1～10质量份、(C)具有亚芳基骨架且具有与硅原子结合的氢原子的有机硅化合物：0.1...

本发明的目的是通过省略石英玻璃棒的制造过程中的应变去除过程来提高生产率，以及提供一种留下应变的方法，该方法在装运之后由于残余应变的作用而在石英玻璃棒中发生开裂的情况下不造成实质性损害。根据本发明的石英玻璃棒的制造方法包括通过经由多个拉制...

提供涂料组合物，其包含：(A)丙烯酸系多元醇等多元醇，(B)在1分子中具有2个以上的异氰酸酯基的化合物，和(C)由下述式(I)表示的含有羟基的有机聚硅氧烷(SiO4/2)a(R1SiO3/2)b(R12SiO2/2)c(R13SiO1/...

通过热固化能形成10GHz下的相对介电常数为2.5以下、10GHz下的介电损耗角正切为0.005以下的树脂固化物的树脂组合物，其包含：(A)在主链中包含硅亚苯基骨架、含有环氧基的异氰脲酸骨架和降冰片烷骨架的聚合物、和(B)环氧固化促进剂。

本发明涉及多价铵盐化合物、含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明的课题在于提供一种含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物、该组成物中所含的多价铵盐化合物、及使用该组成物的图案形成方法，该含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物在多层抗蚀剂...

提供洗涤剂组合物，其为用于将半导体用临时粘接剂除去的洗涤剂组合物，包含季铵盐和有机溶剂，所述有机溶剂包含在同一环内包含两种以上的杂原子的杂环式化合物。

本发明涉及图案形成方法及抗蚀剂材料。本发明的课题是提供可形成高深宽比且微细的图案而不发生图案崩塌的图案形成方法。该课题的解决手段为一种图案形成方法，包含如下步骤：准备含有键结于聚合物主链的羧基被酸不稳定基团保护的聚合物的抗蚀剂材料，使用...

本发明涉及负型抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供使用非化学增幅抗蚀剂组成物的负型抗蚀剂图案形成方法，该非化学增幅抗蚀剂组成物在使用高能射线的光学光刻中，感度及分辨率优良。该课题的解决手段为一种负型抗蚀剂图案形成方法，包含下列步骤：(...

本发明涉及负型抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种负型抗蚀剂图案形成方法，其在使用高能射线的光刻中，使用感度和分辨性优异的非化学增幅抗蚀剂组成物。一种负型抗蚀剂图案形成方法，其包括：(i)使用包含高价碘化合物、含羧基的聚合物和溶剂的抗蚀剂...

本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种含有能够产生扩散小的酸的鎓盐的化学增幅正型抗蚀剂组成物、以及使用该抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，其包含：(A)光酸产生剂，其由下述式...

提供由下述式(I)表示的含有羟基的有机聚硅氧烷。(SiO4/2)a(R1SiO3/2)b(R12SiO2/2)C(R13SiO1/2)d(R2O1/2)e(R3O1/2)f (I)(式中，R1为一价饱和烃基等，R2为甲基等，R3为由下述...

本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题提供：可改善图案形成时的分辨度，且可获得LER及图案忠实性良好的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物，及抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段是一种化学增幅负型抗蚀剂组成...

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供：在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，为高感度，且为高对比度，且曝光宽容度(EL)、LWR等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的鎓盐，含有该鎓盐作为光酸...

本发明是一种高导热性有机硅组合物，其以特定比例特定量调配如下成分：(A)有机聚硅氧烷；(B)球状氧化镁粉末，其平均球形度为0.8以上，平均粒径为80～150μm，纯度为98质量％以上；(C)导热性填充剂，其包含(C‑I)与(C‑II)，...

提供导电性硅橡胶组合物，其包含：(A)在1分子中含有2个以上与硅原子结合的烯基的有机聚硅氧烷，(B)导电性炭黑，(C)由下述式(1)表示的3‑缩水甘油氧基丙基硅烷醇低聚物，#imgabs0#(式中，R1为碳原子数1～10的一价烃基，R2...