本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的芳基...

包含在数均分子量1000～40000的直链状全氟聚醚基的一个或两个末端经由连接基团具有在分子中合计1～20个由下述通式(1)表示的一价的基团的新型的含有氟聚醚基的化合物的光交联性氟聚醚组合物即使没有配混光聚合引发剂或阻聚剂，保存稳定性也...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位...

本发明为一种衬底基板的制造方法，其为用于单晶金刚石层叠基板的衬底基板的制造方法，其具有：准备初始基板的工序；及在所述初始基板上形成由至少包含单晶Ir膜或单晶MgO膜的单层膜或层叠膜构成的中间层的工序，使用雾化CVD法形成构成所述中间层的...

含有以特定比例包含(A)下式(1)的聚合物和/或其部分(水解)缩合物和(B)下式(2)的聚合物和/或其部分(水解)缩合物的含氟组合物的表面处理剂能够形成拒水拒油性、耐磨损性优异、并且滑动性、耐化学品性、耐热性优异的固化覆膜。[Rf为式(...

本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度、且曝光裕度(EL)、LWR、CDU、焦点深度(DOF)等光刻性能优异，同时在微细图案形成中...

本发明提供一种导热性可混练型硅橡胶组合物，其包含：(A)(A‑1)仅在分子链的两末端具有烯基的生胶状有机聚硅氧烷、(A‑2)在分子链的两末端及侧链具有烯基的生胶状有机聚硅氧烷、及(A‑3)1分子中具有2个以上的烯基的液状有机聚硅氧烷；(...

本发明涉及含有芴骨架的聚合物。一种聚合物，其在主链中具有硅亚苯基骨架、聚硅氧烷骨架和芴骨架，并且在侧链中含有多元醇结构。

本发明涉及含金属的膜形成用组成物、图案形成方法。本发明的课题是提供相对于以往的有机下层膜材料具有优良的干蚀刻耐性、且兼具高程度的填埋/平坦化特性的含金属的膜形成用组成物、及使用了该组成物的图案形成方法。本发明的解决手段是一种含金属的膜形...

本发明是一种成膜方法，其特征在于，包括以下步骤：将原料溶液雾化以形成原料雾气的步骤；将所述原料雾气与载气混合以形成混合气体的步骤；将基板载置在基座的载置部的步骤；从雾化手段向所述基板供给所述混合气体并通过热反应在所述基板上进行成膜的步骤...

本发明提供加成固化型自粘接性硅橡胶组合物和硅橡胶固化物。该加成固化型自粘接性硅橡胶组合物分别含有规定量的(A)在1分子中具有至少2个与硅原子键合的烯基的含有烯基的有机聚硅氧烷、(B‑1)在1分子中具有至少1个亚苯基骨架并且具有至少1个与...

本发明涉及单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种单体，是化学增幅抗蚀剂组成物使用的单体，该化学增幅抗蚀剂组成物在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、且感度高/对比度高，曝光裕度(EL)、LWR等光刻性能、...

本发明为一种成膜方法，其为在被隔壁包覆的成膜部内，对已加热的基板供给载气以及雾，从而利用雾CVD法进行成膜的结晶性氧化物膜的成膜方法，其特征在于，至少在所述基板的加热中，对所述成膜部内输送除所述载气以外的气体。由此，提供一种形成膜表面的...

交联型有机硅树脂，其为作为下述(A)成分与(B)成分的加成反应产物的交联型有机硅树脂，由该交联型有机硅树脂产生的单位质量的氢气量在标准状态下为1.5mL/g以下，(A)在1分子中具有1个以上的烯基的含有烯基的有机硅树脂，(B)在1分子中...

提供太阳能电池元件涂布组合物，其含有(A)由下述平均单元式(1)表示的有机聚硅氧烷(R1R32SiO1/2)2(Ar2SiO2/2)a(R22SiO2/2)b(1)[式中，R1为烯基，R2为一价饱和烃基，R3为一价饱和烃基或芳基，Ar为...

本发明为一种衬底基板，在用于单晶金刚石层叠基板的衬底基板中，具有：单晶Si{111}基板、单晶α‑Al<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;{0001}基板等中的任意一种的初始基板与在...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供无论正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：酸产生剂，包含将具有碘原子或溴原子的2个芳香族基团连接而...

感光性树脂组合物包括：(A)在主链具有硅亚苯基结构、聚硅氧烷结构和芴结构并且在侧链具有丙烯酰基基团或甲基丙烯酰基基团的有机硅树脂；和(B)光致自由基产生剂。