本发明公开了集群批处理式基板处理系统。本发明涉及的集群批处理式基板处理系统，其特征在于，具备：基板搬入部(1)，用于搬入基板(40)；基板搬运机器人(7)，围绕旋转轴进行旋转，用于装载或卸载基板(40)；以及多个批处理式基板处理装置(9...

公开了一种批处理式基板处理装置。本发明涉及的批处理式基板处理装置，能够处理多个基板(50)，其特征在于，包括：本体(100)，其具备腔室(110)，所述腔室(110)用于提供处理多个基板(50)的空间；以及多个加热器单元(200)，配置...

本发明涉及直列式热处理装置。本发明的直列式热处理装置的特征在于，具备：多个加热炉（110a、120a、130a、140a、150a），连续地配置，并且分别提供对基板（50）进行热处理的空间；基板搬运部（370），设置在各个加热炉（110...

本发明涉及批处理式基板处理装置。本发明的批处理式基板处理装置的特征在于，具备：基板处理部（100），收容层叠在基板装载部（500）上的多个基板（40）并进行处理；供气部（200），其形成在基板处理部（100）的一侧外周面上，收容有供基板...

公开了基板处理装置。本发明涉及的基板处理装置，气氛气体通过设置在本体内部的供气管的吐气孔均匀地供给到本体的内部，并且，气氛气体通过设置在本体内部的排气管的吸气孔流经本体内部的所有部位后向外部排出。这样，气氛气体均匀地分布于本体内部的不同...

公开一种批处理式基板处理装置。本发明的一实施方式的批处理式基板处理装置（100），具备以上下层叠方式加载多个基板（10）的晶舟（200），其特征在于，包括：环状支架（ring holder；300），支撑基板（10）的底部，以载置基板（...

公开了一种基板处理装置。本发明涉及的基板处理装置中，用于强制冷却基板的冷却单元支撑并设置在形成腔室的本体的外表面上。因此，能够容易地在本体上设置冷却单元，且容易进行维修。

本发明公开了一种串联式热处理装置。本发明的串联式热处理装置，在多个加热炉中分别设置多个加热器，而多个加热器分别独立地控制。因此，各加热炉的温度及彼此相邻的加热炉之间的温度，沿着基板的移送方向以缓慢的梯度发生线性变化，所以不存在基板因热冲...

本发明公开了一种基板支撑用的支撑板以及使用该支撑板的基板处理装置。本发明的基板支撑用的支撑板以及使用该支撑板的基板处理装置，基板接触并支撑在可拆卸地结合于托板的支撑销上，而支撑销对基板的升温或冷却带来微小的影响，因此基板的升温或冷却所需...

公开了一种基板支撑用支撑单元，其防止在基板处理过程中基板因弯曲而发生变形的现象。本发明的基板支撑用支撑单元，在基板处理过程中，由于基板的整体面被多个支撑销均匀地支撑，因此不会发生基板因自重而弯曲变形的现象。由此，能够提高平板显示器的可靠性。

本发明公开了一种基板支撑用的晶舟以及使用该晶舟的支撑单元。本发明的基板支撑用的晶舟以及使用该晶舟的支撑单元，均匀地支撑基板的整体面，从而防止在处理基板时基板因自重而下垂的现象。因此，处理基板也不会引起基板特性的变化，从而提高基板处理工艺...

本发明公开了一种基板支撑用的晶舟以及使用该晶舟的支撑单元。本发明的基板支撑用的晶舟以及使用该晶舟的支撑单元，通过多个第一支撑销和第二支撑销均匀地支撑基板的整体面，从而防止在处理基板时基板因自重而导致的下垂的现象。因此，处理基板也不会引起...

公开了一种基板处理装置。本发明涉及的基板处理装置，在用于开闭出入口的门的内侧门上设置有多个第二加热器。因此，用门封闭出入口之后进行基板处理，则腔室所有部位的温度均匀，从而具有基板被均匀处理的效果。

公开了一种密封件及使用该密封件的基板处理装置。根据本发明涉及的密封件及使用该密封件的基板处理装置，当门挤压密封件时，与门接触的密封件部位向门的外缘部侧滑动的同时被挤压到本体的前表面侧。这样，门与密封件之间的接触面积变宽，所以即使门的一侧...

本发明公开了一种基板处理装置。本发明涉及的基板处理装置，将存在于下部主体内部的下侧部位和内部上侧部位的异物分别从下部主体内部的下侧部位和内部的上侧部位通过第一排出管和第二排出管排出，所以有效地向外部排出存在于下部主体内部的异物。从而，能...

公开了一种批处理式基板处理装置。本发明的一实施例涉及的批处理式基板处理装置（1），包括：基板处理部（400），用于处理基板（10）；移送部（200、300），用于移送基板（10）；以及冷却部（500），用于冷却完成基板（10）处理的基板...

本发明公开了一种批处理式热处理装置的加热器，适用于可同时对多个基板进行热处理的批处理式热处理装置，其特征在于，所述加热器包括：第一管；第二管，与所述第一管具有规定间隔且围绕所述第一管；以及发热体，插入到所述第一管的内部，并且，使冷却用气...

公开了一种用于防止气体混合的大面积沉积装置。本发明涉及的用于防止气体混合的大面积沉积装置使用了多重管结构的喷嘴，将每种气体供给到不同的喷嘴，因此气体从腔室喷出时，均匀混合之后，向腔室内部均匀喷出。即，能够利用简单结构来防止气体在流入腔室...

本发明公开了一种等离子体处理装置。等离子体处理装置（1）包括：反应室（100）；上部电极（200），配置在反应室（100）的内部，被施加电源以产生等离子体；多个调节部（400），与上部电极（200）连接，用于调节上部电极（200）的形状...

公开了一种直列式基板处理装置。本发明涉及的直列式基板处理装置包括：第一腔室（100），用于预热基板（10）；第二腔室（200），从第一腔室（100）接收经预热的基板（10），并在进行加热的同时进行等离子体处理；以及第三腔室（300），从...