本发明公开一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，所述溅射靶源包括靶源座、磁钢、密封板和安装环，所述靶源座远离所述载台的一侧设有腔体和密封所述腔体的密封板；所述溅射靶源的磁钢和靶在所述靶源座上靠近所述载台的一侧由近及远地固定设置；所述腔体...

本实用新型公开一种适用于磁控溅射镀膜的立式装片架，其包括主框架和至少两组横杆组件；主框架包括至少两根相互平行的竖杆和至少两根相互平行的横杆，各横杆两端分别固连两竖杆；各横杆组件包括平行于主框架横杆的装片横杆，装片横杆两端分别可拆卸连接主...

本发明公开一种适用于磁控溅射镀膜的立式装片架，其包括主框架和至少两组横杆组件；主框架包括至少两根相互平行的竖杆和至少两根相互平行的横杆，各横杆两端分别固连两竖杆；各横杆组件包括平行于主框架横杆的装片横杆，装片横杆两端分别可拆卸连接主框架...

本发明公开一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，所述溅射靶源包括靶源座、磁钢、密封板和安装环，所述靶源座远离所述载台的一侧设有腔体和密封所述腔体的密封板；所述溅射靶源的磁钢和靶在所述靶源座上靠近所述载台的一侧由近及远地固定设置；所述腔体...

本实用新型公开了一种防污染片式组合挡板，包括N个片式拼接件，片式拼接件包括平板，平板上位于第一方向上的两个侧部设有第一搭接结构，平板上位于第二方向上的两个侧部分别设有第二搭接结构和第三搭接结构，M个片式拼接件沿水平方向设置，前一片式拼接...

本发明公开了一种防污染片式组合挡板，包括N个片式拼接件，片式拼接件包括平板，平板上位于第一方向上的两个侧部设有第一搭接结构，平板上位于第二方向上的两个侧部分别设有第二搭接结构和第三搭接结构，M个片式拼接件沿水平方向设置，前一片式拼接件的...

本发明公开了一种大功率敏感陶瓷电极的制备方法，包括以下步骤：将敏感陶瓷基片进行清洗、甩干以及烘烤除气后，依次采用溅射工艺镀覆一层过渡层，在该过渡层上采用溅射工艺镀覆一层防过渡层氧化的保护层，然后再丝印一层较厚的银浆或铜浆进行烧结。与传统...

本发明公开了一种提高陶瓷表面金属化薄膜附着力的方法，包括以下步骤：（1）陶瓷基体前处理：对陶瓷基体依次用小极性至大极性溶剂进行清洗；随后在温度为250℃‑680℃的常压环境下烘烤1到3小时；（2）沉积金属层A：利用磁控溅射技术，抽至真空...

本实用新型公开了一种三维溅射镀膜装置，包括真空腔体、磁控溅射靶组件以及搅拌锅，磁控溅射靶组件设置在真空腔体的顶部，搅拌锅设置在真空腔体的底部，搅拌锅开口与磁控溅射靶组件相对，搅拌锅内设置有搅拌桨。本实用新型可实现圆珠、圆柱体、四面体、六...

本实用新型公开了一种对置靶座磁控溅射装置，包括磁控溅射靶座、磁控溅射基台座、夹持压片和挡板组件；所述磁控溅射靶座安装在真空室上方；所述磁控溅射基台座安装在真空室下方，其与所述磁控溅射靶座之间具有夹角，所述夹角为锐角；所述夹持压片设于磁控...

本发明公开了一种固体颗粒材料的镀膜方法，包括1)在传统镀膜装置的真空室内设置搅拌机；2)预处理需要镀膜的固体颗粒；3)将预处理后的固体颗粒放入搅拌机；4)给固体颗粒进行单层镀膜，同时开启搅拌机搅拌固体颗粒；5)重复步骤4，直至完成所有膜...

本发明公开了一种三维溅射镀膜装置，包括真空腔体、磁控溅射靶组件以及搅拌锅，磁控溅射靶组件设置在真空腔体的顶部，搅拌锅设置在真空腔体的底部，搅拌锅开口与磁控溅射靶组件相对，搅拌锅内设置有搅拌桨。本发明可实现圆珠、圆柱体、四面体、六面体等材...

本实用新型公开了一种分布式磁控溅射靶，包括自上而下设置的密封罩、真空安装环、绝缘环和阴极板，还包括靶材组件、固定组件和密封圈；在垂直于阴极板的方向上设有若干个安装靶材组件的磁芯孔，所述的磁芯孔的分布与所镀膜的三维产品相对应；所述的靶材组...

本实用新型公开了一种带膜厚修正功能的柱形靶旋转挡板，包括半环形挡板、两个条状件和膜厚修正板；所述的半环形挡板的横截面为半多边形或者半圆形；所述的两个条状件的延伸方向与半环形挡板的延伸方向相同，且分别与所述半环形挡板的两个端部相连；所述膜...

本发明公开了一种对置靶座磁控溅射装置，包括磁控溅射靶座、磁控溅射基台座、夹持压片和挡板组件；所述磁控溅射靶座安装在真空室上方；所述磁控溅射基台座安装在真空室下方，其与所述磁控溅射靶座之间具有夹角，所述夹角为锐角；所述夹持压片设于磁控溅射...

本发明公开了一种带膜厚修正功能的柱形靶旋转挡板，包括半环形挡板、两个条状件和膜厚修正板；所述的半环形挡板的横截面为半多边形或者半圆形；所述的两个条状件的延伸方向与半环形挡板的延伸方向相同，且分别与所述半环形挡板的两个端部相连；所述膜厚修...

本实用新型公开了一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，包括上掩膜板、样品定位板和下掩膜板；上掩膜板上设有上掩膜开孔、第一紧固孔；下掩膜板上设有下掩膜开孔、定位槽、弹性片、掩膜片和第二紧固孔；下掩膜开孔与定位槽连通；弹性片和掩膜片顺次设于定...

本发明公开了一种分布式磁控溅射靶，包括自上而下设置的密封罩、真空安装环、绝缘环和阴极板，还包括靶材组件、固定组件和密封圈；在垂直于阴极板的方向上设有若干个安装靶材组件的磁芯孔，所述的磁芯孔的分布与所镀膜的三维产品相对应；所述的靶材组件包...

本发明公开了一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，包括上掩膜板、样品定位板和下掩膜板；上掩膜板上设有上掩膜开孔、第一紧固孔；下掩膜板上设有下掩膜开孔、定位槽、弹性片、掩膜片和第二紧固孔；下掩膜开孔与定位槽连通；弹性片和掩膜片顺次设于定位槽...

本发明公开了一种真空镀膜衬底底座，包括衬底托盘、转轴和传动轴，所述传动轴与旋转机构连接，所述衬底托盘通过设置于中心处的转轴与传动轴相连，所述衬底托盘底部设置有以托盘中心为圆心的圆环形凹槽，所述衬底托盘底部还设置有角度调节杆，所述角度调节...