一种防污染片式组合挡板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种防污染片式组合挡板，包括N个片式拼接件，片式拼接件包括平板，平板上位于第一方向上的两个侧部设有第一搭接结构，平板上位于第二方向上的两个侧部分别设有第二搭接结构和第三搭接结构，M个片式拼接件沿水平方向设置，前一片式拼接件的第二搭接结构与后一片式拼接件的第三搭接结构相连；各沿水平方向设置的片式拼接件上位于第一方向的两侧分别设有拼接组件，拼接组件包括L个沿竖直方向上设置的片式拼接件，上一片式拼接件端部的第一搭接结构与下一片式拼接件端部的第一搭接结构相连。本实用新型专利技术能实现不同尺寸的镀膜腔体采用统一的挡板，降低制备成本，防止整片式挡板在镀膜时的过量形变导致设备无法正常工作。

A kind of anti pollution chip combination baffle

The utility model discloses an anti pollution chip combination baffle, which comprises N chip splices, the chip splices include a flat plate, two sides of the flat plate in the first direction are provided with a first overlapping structure, two sides of the flat plate in the second direction are respectively provided with a second overlapping structure and a third overlapping structure, m chip splices are arranged in the horizontal direction, and the front one is provided with a first overlapping structure The second lapping structure of the connector is connected with the third lapping structure of the later one; the two sides of each horizontal setting of the connector in the first direction are respectively provided with a splicing component, the splicing component includes l vertical setting of the splicing component, the first lapping structure at the end of the previous splicing component is connected with the first lapping structure at the end of the next splicing component Lian. The utility model can realize the use of uniform baffles for different sizes of coating cavities, reduce the preparation cost, and prevent the equipment from working normally due to the excessive deformation of the whole baffles during coating.

【技术实现步骤摘要】
一种防污染片式组合挡板
本技术具体涉及一种防污染片式组合挡板，其能够适用于磁控溅射设备的腔体内实现防污染。
技术介绍
立式磁控溅射镀膜设备无论是使用平面靶还是柱形靶，由于均存在一定的发散角，会有一定比例的溅射靶材料沉积到设备的腔体上，如若不对腔体的内表面进行污染防护，沉积的材料会影响磁控溅射镀膜设备的性能。现有技术中常见的防污染挡板根据设备腔体的形状做成几大片挡板并固定在设备的腔体上以实现设备防护，但是由于溅射的粒子轰击会导致挡板变形，可能会碰到靶材或产品，很容易引起设备故障，另外大片挡板除去沉积的材料也不是很方便。
技术实现思路
针对上述问题，本技术提出一种防污染片式组合挡板，不仅能够实现不同尺寸的镀膜腔体采用统一的挡板组件，从而降低制备成本，同时由于其拼接属性，可以防止整片式挡板在镀膜时的过量形变导致设备无法正常工作。实现上述技术目的，达到上述技术效果，本技术通过以下技术方案实现：一种防污染片式组合挡板，包括N个片式拼接件，各片式拼接件均包括平板，所述平板上位于第一方向上的两个侧部均设有第一搭接结构；所述平板上位于第二方向上的两个侧部分别设有第二搭接结构和第三搭接结构，所述第二方向与第一方向为垂直关系其中，M个片式拼接件沿水平方向顺次设置，前一个片式拼接件的第二搭接结构与后一个片式拼接件的第三搭接结构相配合，实现连接；各沿水平方向设置的片式拼接件上位于第一方向的两侧分别设有拼接组件，所述拼接组件包括L个沿竖直方向上顺次设置的片式拼接件，上一个片式拼接件端部的第一搭接结构与下一个片式拼接件端部的第一搭接结构相配合，实现连接；所述L、M和N满足下列公式：(2L+1)*M＝N。作为本技术的进一步改进，所述平板两端处的第一搭接结构朝向相对，且所述第一搭接结构为L型，包括第一段和第二段；所述第一段垂直于所述平板设置，其一端与所述平板相连，另一端与所述第二段的一端相连；所述第二段平行于平板设置，第二段上远离第一段的一端处于自由状态。作为本技术的进一步改进，所述第二搭接结构位于所述平板之外，其包括顺次相连的第三段、第四段和第五段；所述第三段垂直于所述平板设置，其一端与所述平板相连；所述第四段平行于所述平板设置，其一端与所述第三段的另一端相连；所述第五段垂直于所述平板设置，其一端与所述第四段的另一端相连，另一端处于自由状态；所述第三搭接结构包括第六段，所述第六段垂直于所述平板设置，一端与所述平板相连，另一端处于自由状态。作为本技术的进一步改进，各第一搭接结构上均设有两个通孔，所述平板上与各第一搭接结构上通孔对应位置处也设有通孔。作为本技术的进一步改进，所述平板上各通孔的中心顺次相连构成的图形为梯形。作为本技术的进一步改进，所述平板上各通孔的中心顺次相连构成的图形为等腰梯形。作为本技术的进一步改进，所述平板、第一搭接结构、第二搭接结构和第三搭接结构为一体成型。作为本技术的进一步改进，所述平板、第一搭接结构、第二搭接结构和第三搭接结构均由不锈钢或铝合金制成。作为本技术的进一步改进，所述平板的厚度为0.5mm-5mm。作为本技术的进一步改进，所述平板为正方形结构，其边长为50mm-500mm。与现有技术相比，本技术的有益效果：本技术提出了一种防污染片式组合挡板，不仅能够实现不同尺寸的镀膜腔体采用统一的挡板组件，从而降低制备成本，同时由于其拼接属性，可以防止整片式挡板在镀膜时的过量形变导致设备无法正常工作。附图说明图1是本技术的一种实施例的片式拼接件的俯视图；图2是图1中片式拼接件沿着A方向的剖面图；图3是图1中片式拼接件沿着B方向的剖面图；图4是本技术一种实施例的片式拼接件在水平方向上的拼接示意图；图5是本技术一种实施例的片式拼接件在竖直方向上的拼接示意图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。下面结合附图对本技术的应用原理作详细的描述。现有技术中的防污染挡板根据腔体设备的形状做成几大片挡板并固定在设备的腔体上以实现设备防护，但是由于溅射的粒子轰击会导致挡板变形，可能会碰到靶材或产品，很容易引起设备故障，另外大片挡板除去沉积的材料也不是很方便，为此，本技术提出了一种防污染片式组合挡板，不仅能够实现不同尺寸的镀膜腔体采用统一的挡板组件，从而降低制备成本，同时由于其拼接属性，可以防止整片式挡板在镀膜时的过量形变导致设备无法正常工作。具体地，如图1-3所示，所述防污染片式组合挡板，包括：N个片式拼接件，N的具体值由镀膜设备的腔体尺寸来决定；各片式拼接件均包括平板1，优选地，所述平板1厚度为0.5mm-5mm，其横截面呈正方形，边长为50mm-500mm；所述平板1上位于第一方向(即图1中的A方向)的两个侧部均设有第一搭接结构2，各第一搭接结构2上均设有两个通孔，所述平板1上与各第一搭接结构2上通孔对应位置处也设有通孔5；为了提高本技术组合挡板的结构稳定性，所述平板1上各通孔5的中心顺次相连构成的图形为梯形；进一步优选地，所述平板1上各通孔的中心顺次相连构成的图形为等腰梯形；在本技术的一种具体实施例中，所述平板1两端处的第一搭接结构2朝向相对，且所述第一搭接结构2为L型，包括第一段201和第二段202；所述第一段201垂直于所述平板1设置，其一端与所述平板1相连，另一端与所述第二段202的一端相连；所述第二段202平行于平板1设置，第二段202上远离第一段201的一端处于自由状态；所述平板1上位于第二方向(即图1中的B方向)上的两个侧部分别设有第二搭接结构3和第三搭接结构4，所述第二方向与第一方向为垂直关系；在本技术的一种具体实施例中，所述第二搭接结构3位于所述平板1之外，其横截面呈U型，包括顺次相连的第三段301、第四段302和第五段303；所述第三段301垂直于所述平板1设置，其一端与所述平板1相连；所述第四段302的延伸方向与平板1的延伸方向相反，其平行于所述平板1设置，一端与所述第三段301的另一端相连；所述第五段303垂直于所述平板1设置，其一端与所述第四段302的另一端相连，另一端处于自由状态；所述第三搭接结构4包括第六段，所述第六段垂直于所述平板1设置，一端与所述平板1相连，另一端处于自由状态；优选地，所述第六段的长度与所述第五段303的长度相等；其中，如图4所示，M个片式拼接件沿水平方向顺次设置，且各沿水平方向设置的片式拼接件均采用螺钉安装，各沿着水平方向设置的片式拼接件的摆放朝向均相同，前一个片式拼接件的第二搭接结构3与后一个片式拼接件的第三搭接结构本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防污染片式组合挡板，其特征在于，包括N个片式拼接件，各片式拼接件均包括平板，所述平板上位于第一方向的两个侧部均设有第一搭接结构；所述平板上位于第二方向上的两个侧部分别设有第二搭接结构和第三搭接结构，所述第二方向与第一方向为垂直关系；/n其中，M个片式拼接件沿水平方向顺次设置，前一个片式拼接件的第二搭接结构与后一个片式拼接件的第三搭接结构相配合，实现连接；/n各沿水平方向设置的片式拼接件上位于第一方向的两侧分别设有拼接组件，所述拼接组件包括L个沿竖直方向上顺次设置的片式拼接件，上一个片式拼接件端部的第一搭接结构与下一个片式拼接件端部的第一搭接结构相配合，实现连接；/n所述L、M和N满足下列公式：/n(2L+1)*M＝N。/n

【技术特征摘要】
1.一种防污染片式组合挡板，其特征在于，包括N个片式拼接件，各片式拼接件均包括平板，所述平板上位于第一方向的两个侧部均设有第一搭接结构；所述平板上位于第二方向上的两个侧部分别设有第二搭接结构和第三搭接结构，所述第二方向与第一方向为垂直关系；
其中，M个片式拼接件沿水平方向顺次设置，前一个片式拼接件的第二搭接结构与后一个片式拼接件的第三搭接结构相配合，实现连接；
各沿水平方向设置的片式拼接件上位于第一方向的两侧分别设有拼接组件，所述拼接组件包括L个沿竖直方向上顺次设置的片式拼接件，上一个片式拼接件端部的第一搭接结构与下一个片式拼接件端部的第一搭接结构相配合，实现连接；
所述L、M和N满足下列公式：
(2L+1)*M＝N。


2.根据权利要求1所述的一种防污染片式组合挡板，其特征在于：所述平板两端处的第一搭接结构朝向相对，且所述第一搭接结构为L型，包括第一段和第二段；
所述第一段垂直于所述平板设置，其一端与所述平板相连，另一端与所述第二段的一端相连；
所述第二段平行于平板设置，第二段上远离第一段的一端处于自由状态。


3.根据权利要求2所述的一种防污染片式组合挡板，其特征在于：所述第二搭接结构位于所述平板之外，其包括顺次相连的第三段、第四段和第五段；
所述第三段垂直于所述平板设置，其一端与所述平板相连；
所述第四段平行于所述平板设...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯斌，王德苗，金浩，顾为民，顾骏，
申请(专利权)人：苏州求是真空电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32