一种新型三靶磁控溅射镀膜机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种新型三靶磁控溅射镀膜机，包括基座上开设第二滑槽，第二滑槽内滑动连接有基柱，基柱的顶部开设有第二螺纹孔，第二螺纹孔与螺柱螺纹连接，螺柱的顶部与升降转轴连接，升降转轴顶端设有第二调节转轮；射离子源底部通过金属软管安装磁控溅射头，磁控溅射头的上设有固定块，磁控溅射头内侧的顶板上设有支撑板，支撑板上开设有第一滑槽，第一滑槽的内设置滑块，滑块的上开设有第一螺纹孔，第一螺纹孔与丝杠螺纹连接，丝杠顶端设置有第二调节转轮，滑块侧面与拉杆一端铰接，拉杆另一端与固定块铰接。本实用新型专利技术通过调节磁控溅射头的角度、基片与靶材之间的间距，实现镀膜厚度控制。

A new three target magnetron sputtering coater

The utility model discloses a new three target magnetron sputtering coating machine, which comprises a second sliding groove arranged on the base, a base column slidably connected in the second sliding groove, a second threaded hole arranged on the top of the base column, a second threaded hole connected with the thread of the stud, a top of the stud connected with the lifting shaft, a second adjusting runner arranged on the top of the lifting shaft, a metal hose installed at the bottom of the ion source A fixed block is arranged on the magnetron sputtering head, a support plate is arranged on the top plate inside the magnetron sputtering head, a first sliding groove is arranged on the support plate, a sliding block is arranged in the first sliding groove, a first threaded hole is arranged on the sliding block, the first threaded hole is connected with the screw thread, a second adjusting wheel is arranged on the top of the screw, the side of the sliding block is hinged with one end of the pull rod, and the other end of the pull rod Hinge with fixing block. The utility model realizes the control of coating thickness by adjusting the angle of the magnetron sputtering head and the space between the substrate and the target.

【技术实现步骤摘要】
一种新型三靶磁控溅射镀膜机
本技术属于镀膜
，具体为一种新型三靶磁控溅射镀膜机。
技术介绍
真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜。溅射现象于1870年开设用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。在镀膜技术中一般把需要镀膜的称为基片，镀的材料称为靶材，溅射镀膜是将靶材，固定在阴极上，基片置于正对靶面的阳级上，距离靶材移动距离，系统抽真空后充入氩气，在阴极和阳极间加高电压，两级产生辉光放电，放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶面原子碰撞，受碰撞的靶原子称为溅射原子，溅射原子在基片表面沉积成膜。现有的三靶磁控溅射镀膜机在调节镀膜厚度时，通常是改变真空室内的气压，改变镀膜厚度与沉积率，这种改变压强的方法控制率低，当需要调节磁控溅射头的角度时，通常需要拆卸才能完成，不仅复杂，还会影响磁控射头的精度。
技术实现思路
针对
技术介绍
中存在的问题，本技术提出了一种新型三靶磁控溅射镀膜机，通过调节磁控溅射头的角度、基片与靶材之间的间距，实现镀膜厚度控制。为实现上述目的，本技术采用如下技术方案：所述三靶磁控溅射镀膜机包括底座，底座的顶部设有真空罩，真空罩的顶面为顶板，底座内还设有气泵和真空泵，气泵和真空泵分别通过进气管和真空管与真空罩内部空间连通，所述底座顶面中部设置极板，所述顶板底面对应极板的位置上设置基座，顶板顶部设有两个射离子源，对称设置在基座两侧，基座上开设第二滑槽，第二滑槽内滑动连接有基柱，基柱的顶部开设有第二螺纹孔，第二螺纹孔与螺柱螺纹连接，螺柱的顶部与升降转轴连接，升降转轴通过轴承安装在顶板上，升降转轴顶端伸出顶板外侧，升降转轴顶端设有第二调节转轮；所述射离子源底部通过金属软管安装磁控溅射头，磁控溅射头的上设有固定块，磁控溅射头内侧的顶板上设有支撑板，支撑板上开设有第一滑槽，第一滑槽的内设置滑块，滑块的上开设有第一螺纹孔，第一螺纹孔与丝杠螺纹连接，丝杠通过轴承安装在顶板上，丝杠顶端伸出顶板外侧，丝杠顶端设置有第二调节转轮，滑块侧面与拉杆一端铰接，拉杆另一端与固定块铰接。作为优选，磁控溅射头12与支撑板14通过转轴活动连接。作为优选，所述磁控溅射头的设置有3个，3个磁控溅射头以基柱中心轴为轴心呈圆形阵列布置。综上所述，由于采用了上述技术方案，本技术的有益效果是：本技术中，通过设置支撑板、第一滑槽、滑块、第一螺纹孔、丝杠、第一调节转轮、拉杆、金属软管、第二调节转轮、第二滑槽、基座、基柱、第二螺纹孔、螺柱、升降转轴、基片等结构，旋转第一调节转轮，使丝杠旋转带动滑块移动，滑块带动拉杆移动，拉杆带动磁控溅射头在支撑板的表面转动，方便调节磁控溅射头的角度，通过旋转第二调节转轮，第二调节转轮带动升降转轴旋转，升降转轴通过螺柱与第二螺纹孔螺纹连接，使基柱带动基片移动，从而便于调节基片与靶材之间的间距来达到控制镀膜厚度的效果。附图说明图1为本技术正剖示意图；图2为本技术中A处放大示意图；图3为本技术中B处放大示意图。图中标记：1、底座；2、真空罩；3、顶板；4、进气管；5、真空管；6、气泵；7、真空泵；8、极板；9、靶材；10、射离子源；11、金属软管；12、磁控溅射头；13、固定块；14、支撑板；15、第一滑槽；16、滑块；17、第一螺纹孔；18、丝杠；19、第一调节转轮；20、拉杆；21、基座；22、第二滑槽；23、基柱；24、第二螺纹孔；25、螺柱；26、升降转轴；27第二调节转轮；28、基片。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。如图1-3所示，所述三靶磁控溅射镀膜机包括底座1，底座1的顶部设有真空罩2，真空罩2的顶面为顶板3，底座1内还设有气泵6和真空泵7，气泵6和真空泵7分别通过进气管4和真空管5与真空罩2内部空间连通，所述底座1顶面中部设置极板8，用于设置靶材9，所述顶板3底面对应极板8的位置上设置基座21，用于设置基片28，顶板3顶部设有两个射离子源10，对称设置在基座21两侧，基座21上开设第二滑槽22，第二滑槽22内滑动连接有基柱23，基柱23的顶部开设有第二螺纹孔24，第二螺纹孔24与螺柱25螺纹连接，螺柱25的顶部与升降转轴26连接，升降转轴26通过轴承安装在顶板3上，升降转轴26顶端伸出顶板3外侧，升降转轴26顶端设有第二调节转轮27；所述射离子源10底部通过金属软管11安装磁控溅射头12，磁控溅射头12的上设有固定块13，磁控溅射头12内侧的顶板3上设有支撑板14，支撑板14上开设有第一滑槽15，第一滑槽15的内设置滑块16，滑块16的上开设有第一螺纹孔17，第一螺纹孔17与丝杠18螺纹连接，丝杠18通过轴承安装在顶板3上，丝杠18顶端伸出顶板3外侧，丝杠18顶端设置有第二调节转轮27，滑块16侧面与拉杆20一端铰接，拉杆20另一端与固定块13铰接。磁控溅射头12通过转轴安装在支撑板14上，支撑板14作为支承且能够相对支撑板14转动，使得磁控溅射头12结构更加稳定。所述磁控溅射头12的设置有3个，3个磁控溅射头12以基柱23中心轴为轴心呈圆形阵列布置，增加镀膜效率。本技术的工作过程：本技术在镀膜工作时，通过旋转第一调节转轮19，第一调节转轮19带动丝杠18转动，丝杠18通过滑块16表面的第一螺纹孔17带动滑块16在第一滑槽15的表面移动，滑块16带动拉杆20移动，拉杆20带动磁控溅射头12在支撑板14的表面转动，调节磁控溅射头12的角度，旋转第二调节转轮27，第二调节转轮27带动升降转轴26旋转，升降转轴26带动螺柱25旋转，螺柱25通过第二螺纹孔24带动基柱23在第二滑槽22的表面移动，基柱23带动基片28移动，调节基片28与靶材9之间的间距，从而便于调节磁控溅射头12的角度、基片28与靶材9之间的间距来达到控制镀膜厚度的效果。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型三靶磁控溅射镀膜机，包括底座（1），底座（1）的顶部设有真空罩（2），真空罩（2）的顶面为顶板（3），底座（1）内还设有气泵（6）和真空泵（7），气泵（6）和真空泵（7）分别通过进气管（4）和真空管（5）与真空罩（2）内部空间连通，所述底座（1）顶面中部设置极板（8），所述顶板（3）底面对应极板（8）的位置上设置基座（21），顶板（3）顶部设有两个射离子源（10），对称设置在基座（21）两侧，其特征在于：基座（21）上开设第二滑槽（22），第二滑槽（22）内滑动连接有基柱（23），基柱（23）的顶部开设有第二螺纹孔（24），第二螺纹孔（24）与螺柱（25）螺纹连接，螺柱（25）的顶部与升降转轴（26）连接，升降转轴（26）通过轴承安装在顶板（3）上，升降转轴（26）顶端伸出顶板（3）外侧，升降转轴（26）顶端设有第二调节转轮（27）；所述射离子源（10）底部通过金属软管（11）安装磁控溅射头（12），磁控溅射头（12）的上设有固定块（13），磁控溅射头（12）内侧的顶板（3）上设有支撑板（14），支撑板（14）上开设有第一滑槽（15），第一滑槽（15）的内设置滑块（16），滑块（16）的上开设有第一螺纹孔（17），第一螺纹孔（17）与丝杠（18）螺纹连接，丝杠（18）通过轴承安装在顶板（3）上，丝杠（18）顶端伸出顶板（3）外侧，丝杠（18）顶端设置有第二调节转轮（27），滑块（16）侧面与拉杆（20）一端铰接，拉杆（20）另一端与固定块（13）铰接。/n...

【技术特征摘要】
1.一种新型三靶磁控溅射镀膜机，包括底座（1），底座（1）的顶部设有真空罩（2），真空罩（2）的顶面为顶板（3），底座（1）内还设有气泵（6）和真空泵（7），气泵（6）和真空泵（7）分别通过进气管（4）和真空管（5）与真空罩（2）内部空间连通，所述底座（1）顶面中部设置极板（8），所述顶板（3）底面对应极板（8）的位置上设置基座（21），顶板（3）顶部设有两个射离子源（10），对称设置在基座（21）两侧，其特征在于：基座（21）上开设第二滑槽（22），第二滑槽（22）内滑动连接有基柱（23），基柱（23）的顶部开设有第二螺纹孔（24），第二螺纹孔（24）与螺柱（25）螺纹连接，螺柱（25）的顶部与升降转轴（26）连接，升降转轴（26）通过轴承安装在顶板（3）上，升降转轴（26）顶端伸出顶板（3）外侧，升降转轴（26）顶端设有第二调节转轮（27）；所述射离子源（10）底部通过金属软管（11）安装...

【专利技术属性】
技术研发人员：司圣和，杨晶晶，潘楠，孙佳晨，
申请(专利权)人：昆明理工大学，
类型：新型
国别省市：云南;53