一种磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架制造技术

本实用新型专利技术公开了一种磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架，属于磁控溅射装置技术领域。包括至少两个样品托，样品托为空心圆柱形，样品托的一端固定有固定杆，另一端固定有齿轮垫管，固定杆套接第一轴承，第一轴承的一侧设有轴承压板，第一轴承的顶部设有轴承板，第一轴承的外侧设有端垫，齿轮垫管套接第二轴承，第二轴承外侧嵌套设有支撑座，齿轮垫管的端部活动连接齿轮。本实用新型专利技术中的样品台转架，保证了球体零件沉积装置可实现球体零件的动态沉积，所得涂层具有均匀性高，且省去多次沉积所带来的时间耗费等优点。

A kind of side rotating sample stand for magnetron sputtering deposition

The utility model discloses a side rotating sample table frame for magnetron sputtering deposition, which belongs to the technical field of magnetron sputtering device. It includes at least two sample holders, the sample holder is hollow cylindrical, one end of the sample holder is fixed with a fixed rod, the other end is fixed with a gear cushion tube, the fixed rod is sleeved with a first bearing, one side of the first bearing is provided with a bearing pressing plate, the top of the first bearing is provided with a bearing plate, the outer side of the first bearing is provided with an end cushion, the gear cushion tube is sleeved with a second bearing, and the outer side of the second bearing is nested with a support The end of the gear liner is movably connected with the gear. The sample table rotating frame of the utility model ensures that the deposition device of the ball parts can realize the dynamic deposition of the ball parts, and the obtained coating has the advantages of high uniformity, and the time consumption caused by multiple deposition is saved.

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架
本技术涉及磁控溅射装置领域，特别涉及一种磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架。
技术介绍
磁控溅射沉积技术是物理气相沉积的一种，具有低温、高速、设备简单、易于控制和附着力强等优点。球状零件表面的涂层沉积一直是磁控溅射制备技术的难题，目前常用的球体沉积方法为静止零件，通过多次翻面沉积来实现零件表面的涂层沉积，该方法存在耗费时间长、沉积均匀性差等缺点，因此，急需一种磁控溅射沉积装置能使球体零件表面涂层沉积均匀。
技术实现思路
本技术提供一种磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架，可以解决现有技术中球状零件表面的涂层沉积方法存在耗费时间长、沉积均匀性差等问题。具体的，磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架，包括：至少两个样品托，样品托为空心圆柱形，样品托的一端固定有固定杆，另一端固定有齿轮垫管，固定杆套接第一轴承，第一轴承的一侧设有轴承压板，第一轴承的顶部设有轴承板，第一轴承的外侧设有端垫，齿轮垫管套接第二轴承，第二轴承外侧嵌套设有支撑座，齿轮垫管的端部活动连接齿轮。优选的，样品托设有3个，任意相邻样品托的中心夹角为120°。优选的，样品托的两端还分别设有限位垫。优选的，第一轴承和第二轴承均为深沟球轴承60000型。优选的，样品台转架还包括支撑网，支撑网套设于样品托上，支撑网两端设有侧固定圈，侧固定圈与样品托焊接固定连接。本技术中，提供的磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架，整体设计合理，使用方便，保证了球体零件沉积装置可实现球体零件的动态沉积，所得涂层具有均匀性高，且省去多次沉积所带来的时间耗费等优点。附图说明图1为本技术提供的磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架结构示意图；图2为本技术提供的磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架侧视图；图3为本技术提供的磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架中支撑网结构示意图。附图标记说明：1-端垫，2-轴承压板，3-轴承板，4-限位垫，5-样品托，6-支撑座，7-齿轮垫管，8-齿轮，9-第二轴承，10-支撑网，11-侧固定圈。具体实施方式下面结合附图，对本技术的一个具体实施方式进行详细描述，但应当理解本技术的保护范围并不受具体实施方式的限制。如图1-图3所示，本技术实施例提供的磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架包括3个样品托5，任意相邻样品托5的中心夹角为120°，样品托5为空心圆柱形，样品托5的一端固定有固定杆，另一端固定有齿轮垫管7，固定杆套接第一轴承，第一轴承的一侧设有轴承压板2，第一轴承的顶部设有轴承板3，第一轴承的外侧设有端垫1，齿轮垫管7套接第二轴承9，第二轴承9外侧嵌套设有支撑座6，齿轮垫管7的端部活动连接齿轮8。其中，样品托5的两端还分别设有限位垫4；第一轴承和第二轴承9均选用深沟球轴承60000型；样品台转架还包括支撑网10，支撑网10套设于样品托5上，支撑网10两端设有侧固定圈11，侧固定圈11与样品托5焊接固定连接，支撑网10用于包裹磁控溅射沉积零件。使用时，将需要加工的零件分别放置在样品托5中，外部动力带动整个样品台转架开始转动，同时，齿轮8通过第一轴承和第二轴承9带动齿轮垫管7和固定杆形成样品托5的自传，实现样品托5内零件的转动，且套设于样品托5上的支撑网10能够防止样品托5内的零件脱落，并且在转动的过程中镂空的支撑网10能够实现样品托5内的零件实现动态沉积，所得零件涂层均匀性高，且省去多次沉积所带来的时间耗费。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架，其特征在于，包括：至少两个样品托（5），所述样品托（5）为空心圆柱形，所述样品托（5）的一端固定有固定杆，另一端固定有齿轮垫管（7），所述固定杆套接第一轴承，所述第一轴承的一侧设有轴承压板（2），所述第一轴承的顶部设有轴承板（3），所述第一轴承的外侧设有端垫（1），所述齿轮垫管（7）套接第二轴承（9），所述第二轴承（9）外侧嵌套设有支撑座（6），所述齿轮垫管（7）的端部活动连接齿轮（8）。/n

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架，其特征在于，包括：至少两个样品托（5），所述样品托（5）为空心圆柱形，所述样品托（5）的一端固定有固定杆，另一端固定有齿轮垫管（7），所述固定杆套接第一轴承，所述第一轴承的一侧设有轴承压板（2），所述第一轴承的顶部设有轴承板（3），所述第一轴承的外侧设有端垫（1），所述齿轮垫管（7）套接第二轴承（9），所述第二轴承（9）外侧嵌套设有支撑座（6），所述齿轮垫管（7）的端部活动连接齿轮（8）。


2.根据权利要求1所述的磁控溅射沉积用侧向旋转样品台转架，其特征在于，所述样品托（5）设有3个，任意相邻所述样品托（5）的中...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋成燕，
申请(专利权)人：兰州工业学院，
类型：新型
国别省市：甘肃;62