本发明提供一种化学气相沉积方法，包括步骤：1）提供键合片并放置于腔室内；2）于第一温度及第一压强下对键合片进行第一时长的第一阶段预热；3）于第二温度及第二压强下进行第二时长的第二阶段预热；4）于第三温度及第三压强下对进行第三时长的第三阶...

本发明提供一种物理气相沉积填孔设备，包括腔体、基座、金属罩、内挡板、绝缘筒、磁控溅射装置、射频电磁环、辅助射频电磁环及辅助磁场装置；基座位于腔体内；射频电磁环位于基座内；磁控溅射装置包括靶材承载盘及磁控管，靶材承载盘位于腔体顶部，磁控管...

本发明提供一种晶圆传输系统的监控装置及其监控方法，该监控装置包括：用于采集晶圆传输系统的实时视频信息的视频采集模块；用于存储所述晶圆传输系统的预设视频信息的预设视频数据存储模块；视频数据处理模块，用于获取预设视频信息及实时视频信息，将预...

本发明提供一种用于沉积绝缘膜的物理气相沉积设备，包括腔体、基座、挡板、靶材溅射装置及阳极环，基座、挡板及阳极环均位于腔体内；基座用于承载晶圆；靶材溅射装置包括靶材承载盘，靶材承载盘位于腔体顶部，用于承载靶材；挡板位于靶材溅射装置和基座之...

本发明提供一种用于反应溅射的物理气相沉积设备，该设备包括腔体、基座、沉积源装置及匀气装置；沉积源装置位于腔体上部；匀气装置位于腔体内且位于沉积源装置的下方；基座位于腔体内，用于承载晶圆；匀气装置包括网状匀气管路，用于向晶圆表面均匀供应反...

本发明提供一种改善薄膜均匀性的物理气相沉积设备，该设备包括腔体、沉积源装置及加热装置；所述沉积源装置位于所述腔体上部，所述加热装置位于所述腔体下部；所述加热装置包括上下叠置的晶圆承载层、加热层及磁场调节层，所述加热层包括多个加热区域，所...

本发明提供一种用于厚膜沉积的物理气相沉积设备，包括：永磁装置、靶材、晶圆基座、腔壁；还包括腔壁挡板，其一端固定在靶材与腔壁之间，另一端为自由端，腔壁挡板中设有容置冷却管的第一冷却管腔；晶圆遮蔽环，包括垂直部及与水平部，水平部呈环形设置于...

本实用新型提供一种物理气相沉积金属氧化物或氮化物薄膜的设备，在腔体内用永磁装置通过直流、交流或脉冲直流磁控溅射将金属氧化物或氮化物薄膜沉积到晶圆表面。其中，所述薄膜沉积所用的惰性气体和反应气体分别通过上下两个进气环（上下两个进气环之间有...

本实用新型提供一种物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置，该永磁装置包括百分表、转轴、挡板、上调节板、下调节板、波纹管、永磁装置、弹簧一、螺钉、永磁体和弹簧二。所述的上调节板和下调节板固定在挡板上方；所述转轴一端与上调节板相连，并通过波...

本实用新型提供一种物理气相沉积使用的晶圆旋转装置，包括支架、支杆、轴承、软磁体和永磁体。所述的支架与支杆相连，通过轴承与晶圆加热盘相连，所述轴承通过固定杆与腔体固定，所述的支杆末端与软磁体相连，所述软磁体和永磁体对应放置于腔体内外两侧，...

本实用新型提供一种物理气相沉积腔可调磁控线圈装置，包括电磁线圈，或者电磁线圈加软磁环的联合装置。所述的电磁线圈缠绕在线圈固定环内部；所述线圈固定环安装在腔体外侧，靶材下方；所述软磁环，安装在腔体内部或者外部。所述电磁线圈装置，产生次级磁...

本发明提供一种物理气相沉积设备，通过交流或脉冲直流磁控溅射将薄膜沉积到晶圆表面；包括腔体、永磁装置、靶材、腔体转接器、电磁线圈及晶圆托盘；晶圆托盘用于承载晶圆，晶圆托盘连接有射频电源以形成负偏压；腔体具有上腔部及下腔部，腔体转接器连接于...

一种薄膜沉积均匀进气装置，放置在靶材和晶圆加热盘之间，固定在靶材下方。本实用新型设计的进气装置包括气环和进气座。所述的气环由两个半圆环组成，所述的进气座有两个；气环与进气座相连，两两相固定，构成圆环状。通过增加进气装置，使反应气体均匀进...

一种水泵泵体的密封装置，它由泵盖的特殊密封面、泵座的特殊密封面和铜制密封圈组成。所述泵盖的特殊密封面和泵座的特殊密封面结构相同，装配时两个密封面为镜像配合，特殊密封面的结构是立体直角三角形，内圈垂直于平面，外圈则是斜面，特殊密封面的顶部...

一种晶圆定位传动装置，包括底座、气动法兰、同步齿轮一、轴承一、轴承垫片、轴承二、挡板、气动槽、托盘、压板、晶圆吸盘、同步齿轮二和气管隔板。所述的气动法兰与同步齿轮一相连，轴承一放置在同步齿轮一上；所述的轴承二与气动槽相连，紧密配合，气动...

一种监控支架，包括板体、监控安装板、水平仪。所述板体呈圆形金属板，板体中心设一正方形凸台，台内为正方形孔洞；所述板体的外缘设三个卡扣，卡扣可卡在圆形视窗上，作板体固定用；所述监控安装板是一阵列分布多个圆孔的正方形板，可以通过螺钉将监控摄...

一种相连真空腔体密封隔绝的装置，它由内置密封环和内密封圈组成。所述内密封圈装配于内置密封环后面的密封槽内，内置密封环前端有斜面向下45度角的斜面，内置密封环45度角斜面的表面为平整光滑面。

12英寸多功能扩展化学沉积制程腔设备，包括传送腔、准备腔、制程腔、冷却腔、晶圆承载台、工作台和机械手臂。所述的工作台呈长方形，与传送腔相连；所述的传送腔呈方形，中间有圆形孔洞，用于放置机械手臂，传送腔与工作台、冷却腔和制程腔相连；所述的...

一种晶圆末端执行器防碰撞装置，它包括晶圆末端执行器、微型激光测量头、控制器。所述晶圆末端执行器安装固定在机械手臂的末端，用作承载晶圆；所述微型激光测量头安装固定在晶圆末端执行器的末端，并通过光纤连接到控制器；所述控制器通过微型激光测量头...

一种超薄圆筒加工治具的装置，它由螺杆、螺母、卡销、支撑杆、支撑面板和连接板组成。所述装置由两块连接板装配在螺杆上，在连接板两边装配支撑杆，在两个支撑杆中间的关节处装配支撑面板，螺母锁在螺杆上，通过螺母在螺杆的位置调节支撑杆的延展位置来控...