12-inch multi-functional extended chemical deposition process chamber equipment, including conveyor chamber, preparation chamber, process chamber, cooling chamber, wafer bearing table, worktable and mechanical arm. The worktable is rectangular and connected with the conveying chamber; the conveying chamber is square with a circular hole in the middle for placing a manipulator arm, and the conveying chamber is connected with the worktable, the cooling chamber and the process chamber; the cooling chamber is between the conveying chamber and the preparation chamber, and contains a wafer bearing table inside, which is used for the transmission of the wafer between the conveying chamber and the preparation chamber. The utility model is connected with a cooling chamber and a process chamber. The utility model can carry out up to 10 process reactions, greatly improve the overall production efficiency of the equipment, and optimize the process configuration.
【技术实现步骤摘要】
12英寸多功能扩展化学沉积制程腔设备
本技术涉及半导体晶圆制造领域，尤其涉及12英寸多功能扩展化学沉积制程腔设备。
技术介绍
晶圆制造产业是是高新技术行业，产业链长，技术含量高，生产控制难度大。半导体制造行业代表着国家核心技术竞争力。现阶段，高端芯片制造业、高端半导体设备均有少数欧美日国家垄断，我国半导体制造业亟待提高;晶圆制造已由6英寸晶圆生产，逐渐发展到12英寸晶圆生产。我国必须抓住12英寸晶圆制造关键点，实现集成电路制造行业超车。如果设计制造自主的12英寸晶圆制成设备尤为关键，其中典型代表设备之一，即晶圆化学沉积设备。现有的国外12英寸化学沉积设备，多数均采用单个主体腔，外挂三个制程腔，由于腔体较少，为了提高生产效率，本专利技术设计特设计一款12寸晶圆化学沉积多腔体设备，优化制程配置，提高生产效率。
技术实现思路
本技术专利所要解决的技术问题是提供12英寸多功能扩展化学沉积制程腔设备，通过设计多个制程腔相配合，改造传送冷却腔，优化制程配置，提高生产效率;为实现上述目的，本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：12英寸多功能扩展化学沉积制程腔设备，包括传送腔、准备...
【技术保护点】
1. 12英寸多功能扩展化学沉积制程腔设备，其特征在于：传送腔、准备腔、制程腔、冷却腔、晶圆承载台、工作台和机械手臂组成；所述的工作台与传送腔相连，传送腔与冷却腔和制程腔相连，所述的冷却腔在传送腔和准备腔之间，内部含有晶圆承载台，所述的准备腔与冷却腔和制程腔相连。
【技术特征摘要】
1.12英寸多功能扩展化学沉积制程腔设备，其特征在于：传送腔、准备腔、制程腔、冷却腔、晶圆承载台、工作台和机械手臂组成；所述的工作台与传送腔相连，传送腔与冷却腔和制程腔相连，所述的冷却腔在传送腔和准备腔之间，内部含有晶圆承载台，所述的准备腔与冷却腔和制程腔相连。2.根据权利要求1所述的12英寸多功能扩展化学沉积制程腔设备，其特征在于：所述的传送腔呈方形，中间有圆形孔洞，四面均有开孔，一端与工作台相连，一端与冷却腔相连，两侧开孔用于安装制程腔，左右可同时外接两个工艺制程腔。3.根据权利要求1所述的12英寸多功...
【专利技术属性】
技术研发人员：张德培，
申请(专利权)人：上海陛通半导体能源科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。