本发明提供一种即使在利用光取向法的取向处理中的光照射量少的情况下，也抑制AC残像的液晶取向膜。此外，提供一种能减小在液晶取向膜面内的液晶的扭曲角的不均(不均匀性)的液晶取向膜。一种液晶取向剂，其含有选自由使用四羧酸成分和二胺成分得到的聚...

一种用于去除异物的涂布膜形成用组合物，其包含聚合物及溶剂，所述组合物能够形成能通过去除液去除的涂布膜，所述聚合物为包含下述式(1)所示结构的聚合物。[式(1)中，R<supgt;1</supgt;表示氢原子、能够通过碱进行脱...

一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，包含聚合物(A)、具有疏水性取代基的化合物(B)和溶剂(C)。

本发明提供一种液晶取向剂、下述液晶取向膜以及使用了下述液晶取向膜的液晶显示元件，所述液晶取向剂能得到以比以往高的水平抑制AC残像的液晶取向膜。一种液晶取向剂，其特征在于，含有选自由具有由下述式(1)表示的重复单元(a1)的聚酰亚胺前体和...

本发明提供一种液晶取向剂、由该液晶取向剂得到的液晶取向膜以及具备该液晶取向膜的高性能的液晶显示元件及其所用的聚合物和二胺，所述液晶取向剂使能得到液晶取向膜面内的液晶的扭转角度的偏差(不均匀性)小的液晶取向膜的光照射量的范围扩大，并且用于...

一种耐半导体用湿蚀刻液的保护膜形成用组合物，其包含：成分(A)：膜形成成分；成分(B)：三唑化合物(B‑1)、四唑化合物(B‑2)、具有2个以上酚性羟基的化合物(B‑3)、和具有2个以上非酚性羟基的化合物(B‑4)中的至少任一者；和成分...

本发明提供一种液晶取向剂、由该液晶取向剂得到的液晶取向膜以及具备该液晶取向膜的高性能的液晶显示元件及其所用的聚合物和二胺，所述液晶取向剂使能得到液晶取向膜面内的液晶的扭转角度的偏差(不均匀性)小的液晶取向膜的光照射量的范围扩大，并且用于...

一种玻璃表面处理膜形成用组合物，其含有导电性物质和溶剂，所述玻璃表面处理膜形成用组合物被用于通过静电吸附方式来保持玻璃基材。

提供即使使用含有氮原子的基板也不损害抗蚀剂的分辨率，在抗蚀剂膜形成后经过长时间后进行显影的情况下也可以获得良好的抗蚀剂形状的、适合于形成抗蚀剂下层膜的涂布剂组合物。包含酚醛清漆树脂和溶剂的用于含有氮原子的基板的涂布剂组合物，该酚醛清漆树...

本发明涉及半导体基板的清洗方法、经加工的半导体基板的制造方法以及剥离和溶解用组合物。一种半导体基板的清洗方法，其特征在于，包括使用剥离和溶解用组合物来剥离并溶解半导体基板上的粘接层的工序，所述剥离和溶解用组合物包含：[I]成分：季铵盐、...

提供对主要作为有机溶剂的抗蚀剂溶剂、作为碱性水溶液的抗蚀剂显影液显示良好的耐性、并且对湿蚀刻药液显示良好的除去性(溶解性)的抗蚀剂下层膜。抗蚀剂下层膜形成用组合物，含有：选自具有下述式(1)所示的部分结构的化合物和具有所述式(1)所示的...

采用在包含二亚苄基丙酮的钯0价络合物的催化剂、由下述式(L)表示的配体和碱的存在下使氟化芳族伯胺化合物与氯化、溴化或碘化芳族烃或者拟卤化芳族烃反应的氟化芳族仲胺化合物的制造方法，在没有使用特殊的催化剂的情况下使氟化芳族胺化合物与氯化、溴...

本发明以提供进一步改善了抗蚀剂下层膜的固化性、耐热性、耐蚀刻性、平坦化性、埋入性等特性的抗蚀剂下层膜形成用组合物作为目的。解决手段是包含酚醛清漆树脂和溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，该酚醛清漆树脂具有：具有至少2个氨基的单元结构A，该单...

作为通过用于有机光电转换元件从而可大幅改善得到的元件的暗电流特性的电荷传输性组合物，提供下述电荷传输性组合物，其为用于形成有机光电转换元件中的电荷传输性薄膜的电荷传输性组合物，其包含电荷传输性物质和有机溶剂，所述电荷传输性物质包含选自由...

一种有机膜形成用组合物，其用于形成有机膜，在由含金属的抗蚀剂膜形成的抗蚀剂图案之间形成所述有机膜且之后除去所述有机膜，所述有机膜形成用组合物含有有机膜构成成分和溶剂。

本发明的课题是提供一种在光学部件用途、粘接剂用途中能够使用的阳离子固化性组合物，其在光照射部分能够固化，并且在形状更复杂的模具中在光非照射部分也能固化。作为技术手段，提供一种阳离子固化性组合物，其包含：含芴骨架的环氧化合物(A)，其包含...

本发明涉及一种二胺，其具有下述式(1)所示的结构，式(1)中，A表示碳原子数1～3的烷基、苄基、对甲氧基苄基、乙酰基、苯甲酰基、叔丁氧基羰基、9－芴基甲氧基羰基或R1R2R3Si基，R1、R2以及R3分别独立地表示碳原子数1～3的烷基或...

本发明提供液晶取向性良好、能够赋予87°～88°的预倾角且能够获得高可靠性的液晶取向膜和液晶取向剂。本发明提供一种液晶取向剂，其含有(A)聚合物或低分子化合物、(B)聚合物(P)和溶剂，所述(A)聚合物或低分子化合物具有下述式(pa‑1...

一种下层膜，是下层膜形成用组合物的涂布膜的烧成物，所述下层膜在使用了光致抗蚀剂膜和电子束抗蚀剂膜中的任一抗蚀剂膜以及自组装化膜的光刻中，在作为上述抗蚀剂膜的下层膜而被使用了后，进一步作为上述自组装化膜的下层膜而被使用，上述下层膜形成用组...

本发明涉及液晶取向剂、液晶取向膜、液晶表示元件和二胺。本申请提供聚酰亚胺系液晶取向膜与密封剂、基板的粘接性(密合性)优异的液晶取向膜、能得到该液晶取向膜的液晶取向剂和具备该液晶取向膜的液晶表示元件。具有式(1)所示的结构的二胺、由其得到...