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日产化学株式会社专利技术
日产化学株式会社共有988项专利
液晶显示元件及其制造方法技术
本发明提供一种液晶显示元件及其制造方法,即使在将取向膜的一方设为光取向处理、将另一方设为摩擦取向处理的情况下,液晶取向膜面内的液晶分子的扭转角度的偏差(不均匀性)也小,且能抑制AC残影。一种液晶显示元件,其具备夹持液晶层而对置配置的第一...
用于降低环境负荷的抗蚀剂下层膜形成用组合物制造技术
一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其含有第一成分和溶剂,所述第一成分具有芳香族环、通过单键直接键合于所述芳香族环的至少1个氧原子、以及酚性羟基以外的至少1个羟基,所述溶剂包含相对于所述溶剂为50质量%以上的水。
单层相位差材料和相位差膜制造技术
本发明提供一种单层相位差材料,其由通过简单的工艺能够制作在转印时不产生裂纹的单层相位差材料的聚合物组合物得到,所述聚合物组合物含有(A)聚合物,其具有:具有光反应性部位的侧链、具有非光反应氢键性官能团的侧链以及具有自交联性部位的侧链;以...
粘接剂组合物、层叠体以及经加工的半导体基板的制造方法技术
一种粘接剂组合物,其通过氢化硅烷化反应而固化,所述粘接剂组合物含有铂族金属系催化剂以及下述式(1)所示的化合物。(式(1)中,R1和R2各自独立地表示一价基团。)#imgabs0#
粘接剂组合物、层叠体以及经加工的半导体基板的制造方法技术
一种粘接剂组合物,其中,含有两种以上剥离剂成分。
能够湿式去除的含硅抗蚀剂下层膜形成组合物制造技术
本发明提供一种能够形成抗蚀剂下层膜的含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物、由该含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物形成的保存稳定性优异且对药液显示出优异的可溶性的含硅抗蚀剂下层膜、具备该含硅抗蚀剂下层膜的层叠体、以及使用该含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物的...
电极形成用组合物和添加剂制造技术
提供一种电极形成用组合物,其作为通过简便的方法抑制增稠和凝胶化,保存稳定性提高,并且能进行固体成分的高浓度化的电极形成用组合物,包含稳定化成分、正极活性物质、粘合剂以及溶剂,上述稳定化成分为如下物质:包含如下含杂环的化合物(第一成分)和...
电极形成用组合物、添加剂以及凝胶化抑制剂制造技术
提供一种电极形成用组合物,其通过简便的方法抑制增稠和凝胶化,保存稳定性提高,并且能进行固体成分的高浓度化。例如一种电极形成用组合物,其包含正极活性物质、粘合剂、溶剂以及含杂环的化合物,上述含杂环的化合物具有含氮的五元环,并且该五元环不含...
粘接剂组合物、层叠体、以及经加工的半导体基板的制造方法技术
一种粘接剂组合物,其是用于形成层叠体的粘接剂层的固化性的粘接剂组合物,所述层叠体具有:半导体基板或电子器件层;支承基板;以及所述粘接剂层,设于所述半导体基板或所述电子器件层与所述支承基板之间,所述粘接剂组合物含有:不具有硅氧烷键且具有碳...
液晶取向剂、其制造方法、液晶取向膜和液晶表示元件技术
本发明涉及液晶取向剂、其制造方法、液晶取向膜和液晶表示元件。提供:即使减少基于光取向法的取向处理中的光照射量、IPS驱动方式、FFS驱动方式的液晶表示元件中也得到良好的残影特性的液晶取向剂、其制造方法、由其得到的液晶取向膜、和具备其的液...
聚合物组合物和单层相位差材料制造技术
本发明提供一种聚合物组合物,其为通过简单的工艺能够制作在转印时不产生裂纹的单层相位差材料的包含聚合物的组合物,所述聚合物组合物含有(A)聚合物,其具有:具有光反应性部位的侧链、具有非光反应氢键性官能团的侧链以及式(d)所示的侧链的(B)...
光照射剥离用的剥离剂组合物、层叠体以及经加工的半导体基板或电子器件层的制造方法技术
提供一种剥离剂组合物,其用于形成在如下层叠体中的如下剥离剂层,所述层叠体在半导体基板或电子器件层的加工时,能将支承基板与该半导体基板或该电子器件层牢固地粘接,并且在基板加工后,能通过光照射将支承基板与该半导体基板或该电子器件层容易地分离...
液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件制造技术
本发明提供使液晶的扭转角的偏差变小、抑制闪变的发生且具有高透射率的液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件。液晶取向剂含有:聚合物(A):具有包含式(1T<subgt;a</subgt;)所示的结构单元的源自四羧酸衍生物的结构...
电荷传输性墨组合物制造技术
作为形成具有电荷传输性、同时平坦性优异的膜的电荷传输性墨组合物,提供包含金属氧化物纳米粒子、pH10下的cLogD为‑1.35~‑0.1的醇胺化合物、和有机溶剂的电荷传输性墨组合物。
液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件制造技术
本发明提供即使在由光取向法进行的取向处理中的光照射量少的情况下,也能使液晶取向膜面内的液晶的扭转角的偏差(不均匀性)变小的液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件。液晶取向剂含有聚合物(A):选自由具有源自四羧酸衍生物的结构单元和源自二胺...
液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件制造技术
本发明得到一种以高的水平抑制AC残像并且减少起因于背光的电荷蓄积、闪烁的液晶取向膜。液晶取向剂含有以下的聚合物(A)和聚合物(B)。聚合物(A)选自由具有式(A1)的聚酰亚胺前体和作为该聚酰亚胺前体的酰亚胺化物的聚酰亚胺构成的组中。聚合...
包含有机酸的含氮有机溶剂中分散的二氧化硅溶胶和绝缘性树脂组合物制造技术
提供含有有机酸的在含氮有机溶剂中分散的二氧化硅溶胶、包含该二氧化硅溶胶和含氮聚合物的绝缘性树脂组合物。二氧化硅溶胶,其为具有5~100nm的平均一次粒径的二氧化硅粒子在含氮有机溶剂中分散的二氧化硅溶胶,在二氧化硅溶胶中以80~1500p...
抗蚀剂下层膜形成用组合物制造技术
一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含:具有有机硼酸结构的聚合物(A)、和溶剂(B)。
光照射剥离用的剥离剂组合物和光照射剥离用的粘接剂组合物制造技术
一种剥离剂组合物或粘接剂组合物,其是光照射剥离用的剥离剂组合物或光照射剥离用的粘接剂组合物,所述剥离剂组合物或粘接剂组合物含有:具有与芳香族环直接键合的羟基和与芳香族环直接键合的羧基中的至少任意基团的酚醛清漆树脂、含硅氧烷骨架的环氧树脂...
波长转换膜形成用组合物和稠环噻吩化合物制造技术
作为形成波长转换效率和耐久性优异的波长转换膜的波长转换膜形成用组合物,提供含有(A)由式(1)表示的荧光体和(B)粘结剂的波长转换膜形成用组合物。(Ar1为可具有取代基的芳环或可具有取代基的杂芳环,Ar2为二价的π共轭单元,R1为氢原子...
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