通过相应地将处理步骤再分成在串联式接续处理站中执行的子步骤来使通过串联式技术制造薄膜太阳能板的生产量与不同的表面处理步骤的时间长度基本上无关。接续处理站的每个处理站中的处理持续时间相等(τ)。

为了制作例如带有恒定标称方向性的方向层，比如带优选磁性方向的低保持层，或者由阴极溅射在衬底表面（４）上形成的支承层，进行涂覆工艺使得从靶表面（６）发射的颗粒主要从其投影位于围绕标称方向的优选角度范围内的方向撞击。其实现例如是通过定位围绕...

本发明提供了一种用于以磁控管阴极上的０．１与１０Ａ／ｃｍ↑［２］之间的电流密度产生靶溅射以在衬底上生成涂层的设备。所述设备包括可操作地连接到磁控管的电源以及可操作地连接到电源的至少一个电容器。还提供了第一开关。第一开关可操作地将电源连接...

提供了一种用于生成靶溅射以在衬底上产生涂层的设备。设备包括带阴极和阳极的磁控管。电源可操作连接到磁控管，并且至少一个电容器可操作连接到电源。设备也包括可操作连接到该至少一个电容器的电感。也提供了第一开关和第二开关。第一开关将电源可操作连...

本发明提供了用于将绝缘层溅射沉积到形成在衬底中并且具有高的深宽比的腔体的表面上的方法及设备。至少部分地由要被包括在所述绝缘层中的材料形成的靶以及所述衬底被提供在由外壳限定的大体上封闭的室中。等离子体在所述大体上封闭的室内被点燃并且磁场紧...

一种由钢构成的、用于带锯机的锯片带钢，具有带钢背部（Ｂｒ）和设置在所述带钢背部上的齿列，所述锯片带钢具有多个齿（２０），其中初始齿形状（１０）为三角形，该三角的齿底边具有齿宽度（ｂ），其齿尖端（１）具有第一齿高度（ｈ１），从而所述齿尖端...

一种磁控溅射方法包括：以角频率ω来转动磁控管的磁铁；以及当由所述磁控管的溅射源来溅射材料于基材上时，周期性的以至少一组成单元来调制功率位准，此功率位准是施加于溅射源，所述组成单元包括频率ｆ，其是在第一谐波以外，且为转动所述磁铁的所述角频...

磁增强溅射导电材料到在本文中描述的槽的内表面上的方法包括提供与至少部分由导电材料形成的靶相邻的磁场，以及在阳极和靶之间作为多个脉冲施加ＤＣ电压。高频信号施加到支撑半导体衬底的底座以产生与半导体衬底相邻的自偏置场。在与施加电压脉冲期间的时...

对于由多个不同的加工工位（Ｐ１１－Ｐ１ｎ，Ｐ２１－Ｐ２ｍ）对工件进行真空处理，加工工位被分组为两组（Ｉ和ＩＩ）。工件被同时向着第一组（Ｉ）的加工工位搬运或从第一组（Ｉ）的加工工位搬运，从而由第二组（ＩＩ）的加工工位以可选则的单个的顺序处...

一种磁力驱动装置使用了仅一个永磁体和两个动圈，以便让镜面相对静止位置在两个角位置之间交替。磁场构件使磁通作用于动圈。一个上板和一个下板通过永磁体保持，从而每个板形成了一个磁极。借助于通过线匝的电流来激活动圈，引起围绕线圈的磁场。于是线圈...

提供了一种用于处理基底的加工设备，其包括用于装载基底的装载腔、用于加工基底的加工腔、使加工腔与装载腔隔开的密封面，以及用于使基底从装载腔垂直地移动至加工腔的器件，且还提供了用于处理基底的方法。装载腔定位在加工设备的下部和上部中的一个中，...

提供用于溅射的设备和方法，其对于溅射高磁化强度饱和度材料是有用的。在一个实施例中，多个溅射靶布置（１ａ，１ｂ，２，３ａ，３ｂ）同心排列，其中可以产生至少部分位地于各个靶布置之上的独立磁场。一个或多个靶布置可包括相应的上部（１ａ，３ａ）和...

在真空处理工艺中用于控制气相上升模式的设备中，气体入口（１）与质量流量控制器ＭＦＣ（２）的一端可操作地连接；所述ＭＦＣ（２）的另一端经由第一阀（５）与真空室（３）可操作地连接，并且经由第二阀（６）与排气管（４）连接，第一阀（５）和第二阀...

根据本发明的大尺寸基片ＰＥＣＶ０处理的等离子体反应器，包括作为外室的真空处理室和带有电极喷头作为ＲＦ天线的至少一个内部反应器，所述内部反应器还包括反应器底部和反应器顶部，由此加强件支撑反应器顶部和／或反应器底部，加强件经由补偿隔件（４）...

一包括一对电极的等离子反应发生器，电极由分开并互相面对的两个金属面（４２，３８）组成并在两个金属面之间形成等离子放电腔。一个金属面（３８）成为带有许多输气孔（４４）的金属板的表面。这些输气孔与沿着面对等离子放电腔的金属板延伸的配气室（４...

一种光束制备装置，包括光隧道、可旋转单元和驱动单元。一方面，固定件将光隧道刚性地直接连接在驱动单元上。另一方面，对光隧道的温度进行控制。另一方面，可旋转单元与光隧道间隔开一段距离，并且对该距离进行控制。另一方面，对光隧道与可旋转单元之间...

本发明涉及一种用于组合和用于分裂至少三个不同波长间隔的基本非极化的光的光路的方法。在此，如果两个其他波长间隔的光的光路已经或者还要被组合，那么对位于其他波长间隔之间的该波长间隔的光的光路进行分裂或组合。本发明还涉及一种照明单元，该照明单...

一种用于操纵光源的光谱的光学过滤器包括透明的衬底和仅在一侧被涂敷的第一层系统，该第一层系统优选为干涉层系统。衬底和第一层系统构成组合的紫外线和红外线过滤器（ＵＶＩＲ过滤器），以致借助于第一层系统，不仅波长小于４２０ｎｍ、尤其是紫外线区域...

一种表面声波设备包括形成于基底上的换能器电极。在一方面，电极具有多层。至少一层是金属和另一层是通过用Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］沉淀物加强而用于向该金属层提供硬化作用的材料。在另一方面，电极电连接到一金属部件，该部件允许表面声波设备电连接到该...

一种设备、尤其是一种真空处理设备，用于基片（１３０）、尤其是半导体晶片的加工，带有一个加工工位，为了夹持和／或者输送基片（１３０），所述设备包括至少一个带有夹紧的载体（１２０）的框架（１１０），其中基片（１３０）可大面积地固定在载体（１...