本发明涉及一种钼板材的加工方法，所述加工方法包括对钼板材侧面进行单向加工，包括依次进行的第一铣削和第二铣削；所述第一铣削中的进给量为0.1

本发明公开了一种客户端靶材声明文件的生成方法、装置、设备及介质。该方法包括：响应于与目标发货单号对应的客户端靶材声明文件获取请求，确定与所述目标发货单号匹配的目标声明文件模板和内部靶材声明文件；根据所述目标声明文件模板，生成与所述内部靶...

本发明提供一种铜靶材的补焊方法，所述补焊方法包括如下步骤：(1)对铜靶材的缺陷部位进行预处理，得到处理后铜靶材；(2)找准所述处理后铜靶材上的待补焊位置，进行激光补焊；(3)对所述激光补焊后的铜靶材进行后处理，完成补焊。本发明所述的铜靶...

本发明提供了一种控制铜溅射靶材加工过程中铜屑长度的方法，所述方法包括通过调整刀具的停顿方式来控制铜溅射靶材在加工过程中所产生铜屑的长度；所述刀具的停顿方式包括每加工0.4

本发明提供一种电子封装用钼铜合金及其轧制方法和应用，所述轧制方法包括以下步骤：(1)对钼铜合金板坯进行磨加工处理，得到磨加工后板坯；(2)对所述磨加工后板坯进行热处理，得到加热后板材；(3)对所述加热后板材进行单方向轧制，退火后得到合金...

本发明提供一种氧化铌靶材的制备方法及用途，所述制备方法包括如下步骤：(1)混合五氧化二铌粉末和聚乙烯醇粘结剂，经喷雾造粒得到混合料；(2)所述混合料经冷压处理，得到生坯；(3)将所述生坯在氢气氛围中进行失氧无压烧结后，经机加工，得到氧化...

本发明提供了一种铬硅靶材及其制备方法和应用，所述制备方法包括以下步骤：(1)将铬粉和硅粉混合后，进行一步真空退火处理得到一烧材料，对所述一烧材料进行二步真空退火处理，得到二烧材料；(2)对步骤(1)所述二烧材料进行研磨处理，装模后进行压...

本发明提供一种大尺寸靶材的壁厚检测方法，所述检测方法包括以下步骤：在被测靶材外侧的至少四个方向上分别独立地取至少四个测试点，使用三坐标测量装置对各测试点进行测试，得到靶材外侧测试结果；在被测靶材内侧的至少四个方向上分别独立地取至少四个测...

本发明提供一种拼接型高纯铝管靶的焊接方法，所述焊接方法包括以下步骤：分别使用焊料对不锈钢内管以及高纯铝外管进行浸润处理；将密封圈套入所述不锈钢内管的密封槽处，将所述高纯铝外管套入所述不锈钢内管，所述高纯铝外管压置于所述密封圈；将焊料倒入...

本发明涉及一种辉光放电质谱镍检测的制样方法，所述制样方法包括：将待测镍样品和氢氟酸混合，之后加入过氧化氢并进行超声清洗，超声清洗过程中每间隔30

本发明涉及一种铜材的表面清洗液及其制备方法和用途，所述表面清洗液以质量百分含量计包括：月桂醇聚氧乙烯醚3

本发明涉及一种微观检测铬样品的表面处理方法，所述表面处理方法包括如下步骤：(1)对微观检测铬样品的表面依次进行第一抛光处理、第二抛光处理以及第三抛光处理，得到预处理铬样品；(2)对步骤(1)所得预处理铬样品的表面进行辉光放电溅射处理，得...

本发明涉及一种钛铌合金靶材及其制备方法与应用，所述钛铌合金靶材的制备方法包括如下步骤：(1)混合钛粉与铌粉，得到混合粉；(2)步骤(1)所得混合粉依次经压实处理、真空热压烧结处理以及机加工处理，得到所述钛铌合金靶材；步骤(2)所述真空热...

本发明公开了一种靶材声明文件的自动生成方法、装置、设备及介质。该方法包括：响应于与目标发货单号对应的靶材声明文件获取请求，确定与所述目标发货单号对应的目标声明文件模板；基于所述目标声明文件模板中的定位识别单元，对所述目标声明文件模板中的...

本发明提供了一种管靶包套和制造管靶的方法及应用，所述管靶包套包括由内至外依次嵌套的内管和外管，所述外管和内管之间形成环形空腔，所述环形空腔的两端敞口处分别设置有环形端盖；所述内管的两端分别设置有固定环，所述固定环的外周面贴合所述内管的内...

本发明提供一种防漏液管靶冷等静压胶套及其用途，所述防漏液管靶冷等静压胶套包括从内至外依次设置的内芯管和外胶套，所述内芯管和外胶套之间形成环形内腔；所述环形内腔的顶部设置有上胶塞，所述环形内腔的底部设置有下胶塞；所述外胶套的两端分别插入上...

本发明公开了一种靶材背板信息的查找方法、装置、设备及存储介质。该方法包括：响应于与目标发货单号对应的靶材背板信息查找请求，获取与目标发货单号匹配的目标产品编号；根据目标产品编号，查询符合背板信息选择条件的目标背板号；目标背板号包括：客户...

本发明提供了一种电子束焊接方法，所述电子束焊接方法包括：对曲线焊缝进行一道次的电子束焊接；电子束焊接时的焦点深度≥10mm，线速度≤15mm/s，束流≥55mA。所述电子束焊接方法通过对电子束焊接时的焦点深度、线速度以及束流的调节，在对...

本发明涉及半导体技术领域，公开一种三角形铝靶材及其制造方法。其中三角形铝靶材包括溅射区和附着区，溅射区沿三角形铝靶材的周向边缘设置；附着区设置于溅射区的内侧，附着区的粗糙度大于溅射区的粗糙度。本发明的溅射区用于对应溅射过程中的磁场强度，...

本发明提供一种LCD用一体式高纯铝靶材制造方法，所述制造方法包括依次进行的第一锻打处理、第一热处理、第二锻打处理、热轧处理以及第二热处理。所述制造方法制备得到的铝靶坯平均晶粒90μm以下且分布均匀，可用于LCD制造用溅射靶材，具有优良的...