科磊股份有限公司专利技术

科磊股份有限公司共有982项专利

  • 本发明公开用于确定筛选系统的诊断的系统及方法。此类系统及方法包含:基于在线特性化工具数据来识别缺陷结果;基于电性测试数据来识别电性测试结果;基于所述缺陷结果及所述电性测试结果来产生一或多个相关性度量;及基于所述一或多个相关性度量来确定所...
  • 作为衬底检验的部分,可将光致发光材料施加到衬底的部分。所述光致发光材料包含具有盘绕宏观分子形状及间键或邻键的共轭聚合物。使用检验系统来使所述衬底成像。所述共轭聚合物可为(例如)聚(间伸苯[伸]乙炔)(PPE)或聚(对位苯基乙烯)(PPV)。
  • 公开一种基于上下文的检验系统。所述系统可包含光学成像子系统。所述系统可进一步包含通信地耦合到所述光学成像系统的一或多个控制器。所述一或多个控制器可经配置以:接收一或多个参考图像;接收样本的一或多个测试图像;在检验运行时间期间使用非监督式...
  • 双聚焦离子束及扫描电子束系统包含产生电子束的电子源及产生离子束的离子源。电子束柱将电子束以相对于载物台的顶表面的法线角进行引导。离子束柱将所述离子束引向所述载物台。所述离子束相对于所述电子束成某个角度。检测器接收从所述载物台上的晶片反射...
  • 使用具有变迹器的系统对半导体晶片执行计量。在所述半导体晶片上形成具有从2nm到5nm的直径的光斑。相关联光束具有从400nm到800nm的波长。小目标测量可在光学波长范围下执行。
  • 一种检验系统可在第一过程步骤之后产生多个样本区的第一步骤图像且在第二过程步骤之后产生所述样本区的第二步骤图像,其中所述第二过程步骤在所述样本区中的至少一者中修改样本。所述系统可进一步将所述样本区中的一者识别为测试区且将剩余样本区中的至少...
  • 一种用于电子显微镜或类似装置的电子枪包含具有从单晶硅衬底的输出表面延伸的场发射体突部的场发射体阴极及经配置以增强来自所述场发射体突部的尖端部分的电子的发射以产生初级电子束的电极。连续TiN层使用最小化所述TiN层中的氧化及缺陷的工艺至少...
  • 一种半导体计量方法包含:图案化半导体衬底上的膜层以界定所述半导体衬底上的第一场,所述第一场具有包括沿所述第一场的第一边缘的第一边际内的至少一第一目标特征的第一图案,且界定邻接所述第一场的第二场,所述第二场具有包括沿所述第二场的第二边缘的...
  • 一种叠对度量衡系统可包含:照明,用于产生照明光束的照明源;一或多个照明光学器件,其用于在沿着扫描方向相对于所述照明光束扫描样本时将所述照明光束引导到所述样本上的叠对目标,所述目标包含具有摩尔结构的一或多个单元。所述系统还可包含在光瞳平面...
  • 一种检验系统可通过以下者开发检验配方:使用与N种不同光学检验模式相关联的一或多个光学检验子系统来产生初步样本的N个检验图像;使用分类器运用来自数目M种所述光学检验模式的至少一些组合的所述检验图像来产生所述初步样本的位置中的每一者在背景或...
  • 一种叠对计量系统可包含照明源及照明光学器件以根据测量配方在样本相对于来自所述照明源的照明运动时,用来自所述照明源的所述照明照射所述样本上的叠对目标。所述叠对目标可包含一或多个胞元,其中单胞元适合于沿着特定方向测量。此胞元可包含具有不同节...
  • 一种叠加计量系统可包含控制器,所述控制器:用于接收与一或多个样本上的多个叠加目标相关联的计量数据;基于所述计量数据产生所述多个叠加目标中的至少一些的参考度量,其中所述参考度量与促成叠加误差的所述相应叠加目标的一或多个性质相关联;基于针对...
  • 本公开涉及一种叠加计量系统,其可包含:照明源,其经配置以产生一或多对相互相干照明光束;及照明光学器件,其用以将所述照明光束对以共同高度入射角及对称相对方位入射角引导到叠加目标,其中所述叠加目标包含沿着一或多个测量方向分布的两个或更多个光...
  • 一种系统包含经配置以产生照明光束的照明源及包含物镜、经定位于集光瞳平面处的一或多个检测器、光调制器及控制器的集光子系统。所述光调制器经配置以将测量光的一或多个选定部分引导到所述一或多个检测器。所述控制器包含一或多个处理器,其经配置以执行...
  • 公开用于产生缺陷关键程度的系统及方法。此类系统及方法可包含识别包含缺陷及缺陷位置的缺陷结果。此类系统及方法可包含接收经配置以在多个测试位置处测试潜在瑕疵的瑕疵测试配方。此类系统及方法可包含基于所述瑕疵测试配方经配置以测试潜在瑕疵的可计数...
  • 本公开提供用于确定水溶液,如镀金溶液中各种痕量金属离子的浓度的方法。在特定的固定还原电位下,在痕量金属离子(例如Tl(I))存在下经过一定时间(例如培育时间)后,阴极电流的幅度可突然增加,其中所述培育时间与电解质中痕量金属的浓度成反比。...
  • 一种用于半导体计量的方法包含在衬底上沉积第一及第二膜层,图案化所述层以界定:第一目标,其包含所述第一层中的第一特征及相邻于所述第一特征的所述第二层中的第二特征;及第二目标,其位于所述衬底上,所述第二目标包含与所述第一目标相同的第一部分及...
  • 本发明公开一种方法。所述方法可包含利用第一检验子系统产生样本的第一光学图像。所述第一光学图像可在第一时间区间在第一组光致发光标记正发射光致发光照明时产生。所述方法可包含利用额外检验子系统产生额外光学图像。所述额外光学图像可在额外时间区间...
  • 本发明涉及具有涂覆于圆柱形对称元件(例如,滚筒)的外表面上的靶材料(例如氙)的激光产生的等离子体光源。实施例包含可经优化以减少对所述滚筒的照射损坏的预脉冲布置及可用来减少对所述滚筒的照射损坏的脉冲修整单元。另外,揭示实施例,其中圆柱形对...
  • 本公开提供一种检验系统及一种杂散场减轻的方法。所述系统包含电子束柱阵列、第一永久磁铁阵列及多个屏蔽板。所述电子束柱阵列各自包含经配置以朝向载物台发射电子的电子源。所述第一永久磁铁阵列经配置以将来自每一电子源的所述电子会聚成电子束阵列。所...
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