一种折反射投射物镜具有沿光轴布置以将投射物镜物面中的图案成像 到投射物镜的像面上的多个光学元件。所述光学元件包括：凹面镜；绕第一 倾斜轴相对光轴倾斜第一倾斜角t1的第一偏转镜，用于将来自物面的光朝向 凹面镜偏转或将来自凹面镜的光朝向像面...

本发明提供一种用于微光刻的折反射投射物镜，将物面中的物场成像到像面中的像场上，且包括：第一分物镜，将物场成像到实的第一中间像上；第二分物镜，将第一中间像成像到实的第二中间像上；以及第三分物镜，将第二中间像成像到像场上。第二分物镜是恰具有...

本发明涉及一种微光刻投射系统，用于将物体平面中的物体投射成像平面中的图像。所述微光刻投射系统包括：第一镜、第二镜、第三镜、第四镜、第五镜、第六镜、第七镜和第八镜，这些镜位于从所述物体平面到所述像平面的光路中，其中所述投射系统具有清楚的出...

一种光学系统包括所布置的用以将波长λ的辐射从物面中的物场成像到像面中的像场的多个元件。所述多个元件包括布置在辐射路径中的多个镜元件，镜元件具有由反射涂层形成的反射表面。至少一个镜元件具有在一个或多个位置从最佳拟合旋转对称反射表面偏离约λ...

扫描微光刻投射曝光设备（１０）中用于照明掩模（１６）的照明系统具有物镜（５２；１５２；２５２；３５２；４５２），该物镜具有物平面（５０；１５０；２５０；３５０；４５０）、至少一个光瞳面（６０；１６０；３６０；４６０）和其中能布置掩模（１...

本发明涉及一种光学系统，具体而言一种微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物镜，其包括至少一影响偏振的光学布置（２００、４００、５５０），所述光学布置具有至少两个、光学活性材料的影响偏振的光学元件（２１０、２２０），其中至少一所述影响偏振的...

一种微光刻投射曝光设备，包括用来照明物平面中的物场的数个物场点的照明光学部件。就该物场的每一物场点而言，该照明光学部件具有与该物点相关的出射光瞳，其中ｓｉｎ（γ）为该出射光瞳的最大边缘角值（ａｎｇｌｅ?ｖａｌｕｅ），且其中该照明光学部件...

微光刻投射曝光设备的照明系统表现了布置为多镜阵列且能够经由至少一个驱动器倾斜的镜。此外，照明系统表现了用于该镜的驱动电子装置，该驱动电子装置表现了具有第一分辨率的粗数模转换器（６８）、具有第二分辨率的精数模转换器（７０），以及加法器（７...

本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备，包括用于减小像差的至少一个操纵器（１４），其中操纵器（１４）包括至少一个光学元件（８），该至少一个光学元件（８）由至少一个驱动器（１３）操纵，并且其中该操纵器（１４）连同驱动器（１３）一起以可...

使用了一种照明光学部件，其用于照明用于微光刻的投射曝光设备的物场（１４）。所述照明光学部件包括引导有用光的光束（４）的光学元件的聚光器组（１５）。在所述聚光器组（１５）的下游安排了光束引导元件的物镜组（１８）。所述聚光器组（１５）的至少...

一种用于将来自布置在投影物镜（１００）的物体表面（０５）中的物场（０７）的图案成像到布置在投影物镜的图像表面（ＩＳ）中的像场（ＩＦ）上的反射折射投影物镜（１００）具有：第一物镜部分（ＬＧ１），该第一物镜部分（ＬＧ１）配置成将来自物体表面...

一种用于微光刻的照明光学部件，该照明光学部件包括用于将照明光引导到物平面中要照明的物场的光学组件。根据本发明的第一方面，照明光学部件（２６）将照明光辐射束（３）分成多个辐射子束（２８至３０），该多个辐射子束被分配物场照明的不同照明角。照...

在一种投影曝光的方法中，具有中心波长λ的初级辐射被产生并 且被引导沿照明路径通过照明系统并且沿投影路径通过投影系统。该 中心波长在波长的变化范围Δλ内变化，该波长变化范围Δλ具有下 限λMIN≤λ和上限λMAX＞λ。至少一个气体吸收物的...

本发明涉及一种光学系统，该光学系统具有光轴（ＯＡ）并包括偏振器（１００，２００）和驱动器（１５０，２５０），该偏振器具有第一子元件（１１０，２１０）和第二子元件（１２０，２２０），该第一子元件具有非平面的光学有效表面，其中由该第一子元件...

本发明涉及微光刻投射曝光设备的照明系统，其中该照明系统（２００、７００）在所述投射曝光设备的操作中对投射曝光设备的投射物镜（４０）的物面（ＯＰ）进行照明，并且所述照明系统（２００、７００）被调整为使得在所述照明系统的操作中产生的并仅在所...

本发明涉及用于浸入式光刻的光学装置，其包含：施加了疏水性涂层（６，７）的至少一个组件（１），该疏水性涂层（６，７）在操作投影镜期间暴露于紫外辐射，而该至少一个组件（１）在操作投影镜期间至少部分地被浸渍液润湿。该疏水性涂层（６，７）包含至...

折反射物镜包括沿光轴布置的多个光学元件，用以像方数值孔径ＮＡ，利用来自中心波长λ附近的波带的电磁辐射，将来自物镜的物面中的物场的图案成像到物镜的像面区域中的像场。光学元件包括凹镜和多个透镜。投射物镜对于波带的各个波长λ在各自的匹兹伐表面...

本发明涉及一种用于补偿光学系统中、特别是微光刻系统的投影透镜阵列（３）中强度分布所致成像误差的方法，该方法包括以下步骤：确定光学系统的至少一个光学元件中与位置和时间有关的强度分布；确定已经为之确定强度分布的至少光学元件中与位置和／或时间...

成像光学系统（７）具有多个镜（Ｍ１至Ｍ６）。这些镜将物平面（５）中的物场（４）成像到像平面（９）中的像场（８）。在成像光学系统（７）中，镜（Ｍ１至Ｍ６）的反射表面上的成像光（１５）的最大入射角和成像系统（７）的像方数值孔径的比小于３３．...

成像光学系统（８）的一个实施例仅具有镜作为光束引导光学部件。该成像光学系统（８）将至少一个物平面（６）中的至少一个物场（４、５）成像到至少一个像平面（１１）中的至少一个像场（９、１０）。在该成像光学系统（８）中，存在空间上彼此分离的两个...