成像光学系统（７）具有多个镜（Ｍ１至Ｍ８）。这些镜将物平面（５）中的物场（４）成像到像平面（９）中的像场（８）。镜（Ｍ６、Ｍ７、Ｍ８）的至少一个被遮拦，且由此具有供成像光（１５）经过的通孔（２１）。在像场（８）之前的光路中的第四最后镜（...

本发明涉及用于半导体光刻、包括若干光学组件(1)的光学系统。 为控制光学系统不同的操作配置，所述系统包括用于在沿光学系统光 轴的限定位置上定位至少一个光学组件(1)的至少一个控制单元(2)。所 述控制单元(2)与光学组件(1)上的至少一...

一种微光刻投射曝光设备（１０），包括产生投射光的主照明系统（１２）、投射物镜（２０；１２０）和校正光学系统。校正光学系统包括副照明系统（３０；１３０），其在基准表面（４８；１４８）中产生校正光的强度分布；和校正元件（３２；１３２），其包...

一种确定光学表面（１２；１０３）的实际形状偏离理想形状的偏差的方法，包括如下步骤：提供入射电磁测量波（２０；１１３），提供两个衍射结构（４７，４９；１４５，１４６，１４１，１４３），在每种情况下，所述两个衍射结构被设计为重塑入射波的波前...

用于微光刻的投射物镜的组件１１包括若干光学元件和光阑１４。组件１１位于朝向像的最后光学元件之前的光学元件是平凸透镜１２，该平凸透镜的凸表面２ｂ朝向物，其平表面２ａ朝向像。作为组件１１的朝向像的最后光学元件，提供了光学终端元件１７，其包括...

用于微光刻的具有遮挡光瞳的投射物镜（１０）包括：第一光学表面（Ｓ４），其具有提供用于施加有用光的第一区域；和至少一个第二光学表面（Ｓ５），其具有提供用于施加有用光的第二区域，有用光的束包络（ＳＨ）在第一区域和第二区域之间延展。在第一光学...

本发明涉及微光刻投射曝光设备的照明系统，该照明系统包括具有多个镜单元（１４１、１４２、１４３、３４１、３４２、３４３、５４１、５４２、５４３）的镜布置（２１、４３、４５、５２、６３、８４、９３、１４０、２５０、３４０、５４０、９４０），...

一种修正／修复光刻投影曝光设备的投影物镜（１０）的方法，该投影物镜包括位于物平面（１２）和像平面（１６）之间的多个光学元件，该多个光学元件包括至少一个具有屈光力的第一光学元件，该方法包括：在不更换全部的光学元件的情况下，在现场将至少一个...

本发明涉及具有热致动器的光学校正装置（２０８、６００），该热致动器影响光学校正装置（２０８、６００）中的热分布。光学校正装置（２０８、６００）由至少两个传输热的能力不同的局部元件（２０１、２０２、６０４）构建。此外，本发明涉及影响光学元...

一种用于微光刻的投射物镜（７）被用于将物平面（５）中的物场（４）成像为像平面（９）中的像场（８）。所述投射物镜（７）包括至少六个反射镜（Ｍ１至Ｍ６），其中至少一个反射镜具有自由形状反射面。根据本发明的第一方面，投射物镜（７）的总长度（Ｔ...

提供用于微光刻的投射曝光系统（１０）。该投射曝光系统包括：用于支撑于其上布置有掩模结构（２０）的掩模（１８）的掩模支撑装置（１４）；用于支撑基底（３０）的基底支撑装置（３６）；投射光学部件，用于在曝光过程期间将所述掩模结构（２０）成像到...

在微光刻投射曝光设备（１０）的照明系统（１２）的操作方法中，首先确定一组描述光束的属性的照明参数，该光束会聚到被照明系统（１２）照明的掩模（１４）上的点（７２）。另外，确定其对照明参数的光学影响可根据控制指令被修改的光学元件（２６，３６...

分面镜用作微光刻的投射曝光设备中的光束引导元件。该分面镜具有多个分立镜（２１）。对于入射照明光的单独偏转，在每种情况下这些分立镜（２１）被连接到驱动器，使得这些分立镜关于至少一个倾斜轴（ｘ，ｙ）分别地可倾斜。连接到驱动器的控制装置被配置...

本发明涉及微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法。微光刻投射曝光设备的光学系统包括具有镜布置（２００）的照明装置（１０）和至少一个偏振态改变装置，该镜布置（２００）具有可彼此独立调整的多个镜元件（２００ａ、２００ｂ、２００ｃ、……...

本发明涉及投射物镜（１），投射物镜（１）用于将在至少１．５的场纵横比（ｘ／ｙ）的物平面（３）中的物场（２）在像平面（５）中的像场（４）中复制。投射物镜（１）具有至少两个光学有效表面（Ｍ１至Ｍ６），用于在物场（２）和像场（４）之间的光束路...

提供对准至少两个波形整形元件的方法、测量光学表面从目标形状的偏差的方法、以及用于干涉测量光学表面从目标形状的偏差的测量设备。波形整形元件的每一个包括用于将入射光的波前的部分与目标形状的相应部分相适应的衍射测量结构，对准至少两个波形整形元...

当前设计的微光刻的投射物镜具有在曝光场上变化的杂散光成分。通过引入额外的杂散光，该场上杂散光成分的变化能够被减少和／或与另一投射物镜的变化相配。通过预先适配或改变近场表面的表面粗糙度和／或通过安装在光瞳平面中具有指定目标光散射特性的光学...

一种在微光刻曝光装置（１０）中照明掩模的照明系统，其具有光轴（６０；４６０）以及光瞳表面（７０；４７０）。该系统包括诸如镜（Ｍ↓［ｉｊ］）的反射或透明光束偏转元件的光束偏转阵列（４６；４４６）。其中每一偏转元件（Ｍ↓［ｉｊ］）适配成将打...

本发明涉及一种微光刻投射曝光设备（１０）的照明系统（１２），包括光瞳面和由优选地可单独控制、用于光瞳面可变地照明的射束偏转元件（２８）组成的基本上平面状的布置。可以根据施加在射束偏转元件（２８）上的控制信号，通过每个射束偏转元件（２８）...

一种微光刻投射曝光设备的照明系统，包括至少一个透射滤波器（６６；１６６；２６６；３６６；４６６；５６６；６６６；６６６’；７６６，７６６’；８６６，８６６’），其在至少两个位置处具有不同的透射率以及其布置于光瞳平面（４２，６０）与场平面...