【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术 一般涉及在微光刻工艺中使用的光刻投影曝光设备的投影 物镜。更具体而言，本专利技术涉及一种用来修正/修复光刻投影曝光设备的 投影物镜的方法。光刻投影曝光设备中的投影物镜用来将精密电路图案印到涂有感 光材料的衬底上，例如晶片、平板等。待印刷的电路图案由称作掩膜 板的物提供，该物由投影物镜投影到衬底上。用于这种应用的投影物 镜需具有非常高的光学性能。光刻投影曝光设备中的投影物镜通常包括多个设置在物平面和像 平面之间的光学元件。此处的术语"之间"应该理解为，将多个光学 元件按照来自于物平面并到达像平面的投影光至少到达每个光学元件 一次的方式来设置。同样，术语"之前"和"以后"等应该理解为投 影光的传播顺序。实际中存在不同类型的投影物镜，即，折射投影物 镜、反射投影物镜和反折射投影物镜。折射投影物镜只包括折射光学 元件。反射投影物镜只包括反射光学元件。折反射投影物镜既包括折 射光学元件也包括反射光学元件。此处针对折射和反折射投影物镜对 本专利技术进行描述，其中的多个光学元件至少包括一个折射光学元件。 如果在投影物镜的最后的光学元件和像平面之间存在浸液，那么...
【技术保护点】
一种修正／修复光刻投影曝光设备的投影物镜的方法，所述投影物镜包括多个位于物平面和像平面之间的光学元件，所述多个光学元件包括至少一个具有屈光力的第一光学元件，所述方法包括在不更换全部光学元件的情况下： 在现场将所述至少一个第一光学元件从 所述投影物镜中移走， 将至少一个第一备用光学元件插入所述投影物镜的所述至少一个第一光学元件的位置，以及 将所述投影物镜的图像质量调整到期望的质量。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：奥拉夫罗格尔斯基，鲍里斯比特纳，乔辰海乌斯勒，托马斯皮塔斯什，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]
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