提供一种用于微光刻的投射曝光工具（１０），该投射曝光工具（１０）的光学路径中设置有测量设备（３６），用于局部及角度解析测量辐照强度分布。这里测量设备（３６）包括：测量场，在测量场（４１）的各个点（ｘ↓［ｉ］，ｙ↓［ｊ］）处设置有聚焦光学...

描述一种改善光学系统（１０）的成像特性的方法且也描述了具有改善的成像特性的该类型的光学系统（１０）。所述光学系统（１０）具有多个光学元件。为了至少部分地校正至少一成像像差，所述多个光学元件中的至少第一光学元件（４２）是借助于机械力作用（...

本发明公开了一种微平版印刷投影曝光装置的投影物镜。该微平版印刷投影曝光装置（１１０）的投影物镜是为其中浸渍液（１３４）与感光层（１２６）邻接的浸渍操作而设计的。漫渍液的折射率大于在投影物镜（１２０；１２０’；１２０”）的物体侧与浸渍液相...

微光刻投射曝光设备（１０）的照明系统包括光束偏转阵列（４６），光束偏转阵列（４６）包括大量的例如镜（Ｍｉｊ）的光束偏转单元。每一光束偏转元件（Ｍｉｊ）适于将打入光束偏转一响应于控制信号可变的偏转角。从光束偏转元件反射的光束在系统光瞳表面...

由旋光晶体材料组成的偏振调制光学元件（１）具有厚度分布，其中正如在光轴方向上所测量的，厚度在光学元件的面积上变化。偏振调制光学元件（１）具有使第一线性偏振光线的振荡平面和第二线性偏振光线的振荡平面分别依照第一旋转角和第二旋转角被旋转的作...

本发明涉及一种物镜，尤指一种特别在波长≤１９３ｎｍ中使用的微光刻投影物镜，包括有：第一局部物镜（１００），具有至少一个镜体，其中镜体（Ｓ１）不具有能由光束穿过的孔；第二局部物镜（２００），具有至少一个主凹面镜（ＳＫ１）和副凹面镜（ＳＫ２...

一种用于光学元件更换设备，所述光学元件安装在光刻物镜（１）内的两个相邻光学元件（２）之间，所述更换设备具有用于要被更换的光学元件（２ａ）的托架（５），所述托架（５）可以通过光刻物镜（１）的壳体（１ａ）内的侧面开口（６）移入到光刻物镜（１...

光学系统、投影系统及微结构半导体部件的制造方法。该光学系统包含光轴或由传过所述光学系统的光束的方向给定的优选方向，所述光学系统包含由坐标系统的坐标描述的偏振调制光学元件，其中所述坐标系统的一个优选坐标平行于所述光轴或平行于所述优选方向，...

本发明提供一种照明光学装置、显微光刻投射系统及装置制造方法。该照明光学装置包括：偏振调制光学元件，其由具有旋光性的光学材料制成，且其具有周向变化的厚度；其中所述照明光学装置是用于显微光刻投射系统的照明系统，并被构造以使在使用所述显微光刻...

光学元件、光学布置及系统。该光学元件包括偏振调制光学元件，包含具有光轴的旋光晶体，其中所述偏振调制光学元件具有如在所述光轴方向上测量的变化的厚度分布，其中所述偏振调制光学元件具有基本取向为所述旋光晶体的光轴方向的元件轴，并且其中与所述元...

一种用于微光刻投影曝光系统的投影物镜的光学测量的测量系统，所述投影物镜被配置为将设置于所述投影物镜的物面中的图案成像到所述投影物镜的像面上，所述投影物镜被设计为浸没物镜，用于借助设置在所述投影物镜的物侧和像侧的至少一个上的浸液进行成像；...

披露的是一种用于微刻的投影曝光设备（１）的成像装置（７），其包括至少一个光学元件（１０、３３、３４）和至少一个操纵装置（９、３６、４１），该操纵装置设置有线性驱动器（１１），用于操纵光学元件（１０、３３、３４）的位置。该线性驱动器（１１...

物镜（１）具有：第一部分物镜（３），其将第一场平面（７）投影到中间图像（１１）上且包括具有第一中央镜孔径（１５）的第一凸面镜（１３）和具有第二中央镜孔径（１９）的第二凹面镜（１７），所述第一镜（１３）具有距所述第二镜（１７）的第一轴上间...

一种反射折射投影物镜，用于将布置在投影物镜的物面上的图案成像在投影物镜的像面上，具有用于物场的成像以形成第一真实的中间图像的第一物镜部分，利用来自第一物镜部分的辐射产生第二真实的中间图像的第二物镜部分；以及将第二真实的中间图像成像在像面...

本发明特征在于一种用于微光刻的系统，该系统包括配置成发射多个汞发射谱线处的辐射的汞光源、设置成接收由汞光源发射的辐射的投影物镜以及配置成相对于投影物镜放置晶片的台。在操作期间，投影物镜将来自光源的辐射引导到晶片，其中在晶片处的辐射包括来...

本发明涉及一种用于微光刻－投影曝光设备的照明系统，其中，该照明系统包括：光源，其发射≤１００ｎｍ的波长范围的光，特别是在ＥＵＶ－波长范围内的光，用来照明出射光瞳平面（１２１），以及一种元件，利用该元件在出射光瞳平面（１２１）的至少一个第...

本发明涉及一种微平版印刷投影曝光装置的投影物镜，其具有一折射率大于１．６的高折射率折射光学元件（Ｌ３）。该光学元件（Ｌ３）有一体积和一在该体积上变化的与材料有关的光学特性。该光学特性的变化造成物镜的像差。在一个实施例中，提供布置在与该折...

建议将由氟化钙或氟化钡制成的厘米厚的板片或者透镜作为用于深紫外线的延迟元件，该板片或透镜在〈１１０〉－晶体方向上或者一个与之等同的主轴方向上具有光线传播，它们都无应力地装入。这种特性尤其适合于１５７ｎｍ时的微刻。

本发明涉及用一种晶体材料制造光学坯件（１）的方法，该坯件作为制造透镜或透镜部件用于物镜，特别是用于微光刻技术投影曝光设备的投影物镜的预备阶段。在本方法中首先确定定义在晶体结构内取向的第一晶向（３）的方位。然后这样加工光学坯件（１），使第...

一种光学系统的法兰组件（１），具有第一法兰（２），补偿元件（４）以及第二法兰（２’）。法兰（２，２’）和补偿元件（４）基本轴向对称，两个法兰（２，２’）适用于以非破坏性和非正轴向可分离的方式连接到光学系统的其他元件（１０，１１），两个法...