光学系统、投影系统及微结构半导体部件的制造方法技术方案

光学系统、投影系统及微结构半导体部件的制造方法。该光学系统包含光轴或由传过所述光学系统的光束的方向给定的优选方向，所述光学系统包含由坐标系统的坐标描述的偏振调制光学元件，其中所述坐标系统的一个优选坐标平行于所述光轴或平行于所述优选方向，所述偏振调制光学元件包含旋光材料和有效光学厚度的分布，其中所述有效光学厚度至少作为与所述坐标系统的所述优选坐标不同的一个坐标的函数而变化。

【技术实现步骤摘要】
本申请是申请号为200580002241.9(国际申请号PCT/EP2005/000320)、专利技术名称为“偏振调制光学元件”的专利技术专利申请的分案申请。
技术介绍
本专利技术涉及影响光线偏振的光学元件。该光学元件具有厚度分布并且由具有光轴的旋光晶体组成或构成。 在持续努力取得显微光刻领域中更精细分辨率结构的过程中，存在同时对基本上三个指导性构思的追求。其中第一个是提供非常高的数值孔径的投影物镜。第二个是追求更短波长(如248nm、193nm、或157nm)的恒定趋势。最后，存在有通过将高折射率的浸没介质引入到投影物镜的最后一个光学元件和光敏衬底之间的空间而增加可达到的分辨率的构思。后一种技术被称为浸没光刻术。 在利用限定偏振的光照明的光学系统中，依照菲涅耳方程，电场矢量的s-和p-分量在具有不同折射率的两种介质的界面处分别经历不同程度反射和折射。在上下文中，平行于光线入射面振荡的偏振分量被称为p-分量，而垂直于光线入射面振荡的偏振分量被称为s-分量。与p-分量相比，在s-分量中发生的不同程度的反射和折射对成像过程有明显的有害影响。 利用偏振的特定分布可以避免这个问题，其中在光学系统本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学系统，包含光轴或由传过所述光学系统的光束的方向给定的优选方向，所述光学系统包含由坐标系统的坐标描述的偏振调制光学元件，其中所述坐标系统的一个优选坐标平行于所述光轴或平行于所述优选方向，所述偏振调制光学元件包含旋光材料和有效光学厚度的分布，其中所述有效光学厚度至少作为与所述坐标系统的所述优选坐标不同的一个坐标的函数而变化。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：D菲奥尔卡，M德格恩特尔，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]