一种适合于浸液式显微光刻法的纯折射投影物镜设计成单腰部系统，所述系统具有五个透镜组，在这样的情况中，提供了具有负折射能力的第一透镜组、具有正折射能力的第二透镜组、具有负折射能力的第三透镜组、具有正折射能力的第四透镜组以及具有正折射能力的...

特别用于极远紫外光刻、包括以≤１９３ｎｍ的波长制造半导体元件的投影透镜的发光系统，设有光源（１）、物平面（１２）、出射光瞳（１５）、生成光通道的具有第一栅格元件（６）的第一光学元件（５）、具有第二栅格元件（８）的第二光学元件（７），将第...

一种物镜、尤其是用于微印刷投影曝光设备的投影物镜具有至少一个由氟化物晶体制成的透镜。如果这个透镜是一个具有一个透镜轴线的（１００）－透镜，该轴线大约垂直于｛１００｝－晶体面或与其等效的氟化物晶体的晶体面，则可以减小双折射的干扰影响。如果...

一种极高孔径的、纯折射的投影物镜被构造为具有一个物侧凸部、一个像侧凸部和位于这两个凸部之间的腰身（７）的两凸部系统。在像侧凸部内，系统光阑（５）位于像平面前的一定距离处。在腰身和系统光阑之间，在发射光线的区域内布置一个具有有效曲率的负组...

本发明涉及一种投影照明系统（１），所述系统包括照明装置（３）、分划板（５）、投影透镜（７）和像平面。在各个元件之间的周围区域中设置开放空间。惰性气体或氮气流经的气体分配器（８，８′）被设置在至少一个所述开放空间中。选择气体分配器（８，８...

本发明涉及一种波长≤１９３ｎｍ的照明系统用的光学元件；其中照明系统具有光源、场平面以及出射光瞳。本发明的特征在于，光学元件具有多个棱面，这些棱面这样布置并具有这样的偏转角，从而使每个棱面都接收光源的光并将其偏转向场平面中的离散点，其中离...

一种微光刻投影曝光系统的照明系统，用于以来自原始光源（１１）的光照明一个照度场。所说照明系统具有一个光分配装置（２５），光分配装置用于接收来自原始光源的光并且从这个光产生两维的强度分布，所说两维的强度分布可以在照明系统的光瞳成形表面（３...

一种用于把在投影物镜的物面上提供的图案成像到适合微光刻投影曝光机的投影物镜的图像面的投影物镜，具有多个对于投影物镜的工作波长的辐射是透明的光学单元。至少一个光学单元是由具有在工作波长上折射率ｎ≥１．６的高折射率材料制成的高折射率光学单元。

一种用于光学元件更换设备，所述光学元件安装在光刻物镜（１）内的两个相邻光学元件（２）之间，所述更换设备具有用于要被更换的光学元件（２ａ）的托架（５），所述托架（５）可以通过光刻物镜（１）的壳体（１ａ）内的侧面开口（６）移入到光刻物镜（１...

一种物镜（１）中光学元件（５）的保持器件（６），具有一方面与物镜（１）连接、另一方面至少间接地与光学元件（５）连接的底座（４）。在底座（４）与光学元件（５）之间设置有加固元件（８），它的热膨胀系数大致对应于光学元件（５）的热膨胀系数。

一种反射折射投影物镜（２００），用于将提供在投影物镜的物面（２０１）中的图形成像在投影物镜的像面（２０２）上，包括：第一物镜部分（２１０），用于将提供在物面中的图形成像为第一中间图像；第二物镜部分（２２０），用于将第一中间图像成像为第二...

由旋光晶体材料组成的偏振调制光学元件（１）具有厚度分布，其中正如在光轴方向上所测量的，厚度在光学元件的面积上变化。偏振调制光学元件（１）具有使第一线性偏振光线的振荡平面和第二线性偏振光线的振荡平面分别依照第一旋转角和第二旋转角被旋转的作...

本发明公开了一种微平版印刷投影曝光装置的投影物镜。该微平版印刷投影曝光装置（１１０）的投影物镜是为其中浸渍液（１３４）与感光层（１２６）邻接的浸渍操作而设计的。浸渍液的折射率大于在投影物镜（１２０；１２０’；１２０”）的物体侧与浸渍液相...

本发明涉及一种微平版印刷投影曝光装置，该装置包括为浸渍操作构造的投影透镜（２０）。为此，将浸渍液（３４）引入位于投影透镜（２０）的图像侧的末级透镜（Ｌ５；５４）与待曝光的感光层（２６）之间的浸渍空间（４４）内。为了减小由在浸渍液（３４）...

一种反射折射投影物镜，用于将布置于投影物镜的物面内的离轴有效物场成像至布置于所述投影物镜的像面内的离轴有效像场上，其包括：　　　　光轴；　　　　有效物场，完全位于所述光轴外部，沿第一方向具有长度Ａ，并沿与所述第一方向垂直的第二方向具有宽...

一种用于光学成像系统（１５０）的光学测量的测量系统（１００），提供该光学成像系统以使设置在成像系统的目标表面（１５５）的图案成像到成像系统的图像表面（１５６），该测量系统包括，具有目标侧测量结构（１１１）的目标侧结构载体（１１０），其设...

一种适于在显微光刻投影曝光装置的物镜中使用的传输光学元件（３３，３７）由多晶材料（１００）组成，其中多晶材料（１００）具有立方晶体结构的微晶（１０２），并且这些微晶（１０２）的平均微晶尺寸至少是（０．５）微米和至多是（１００）微米。

本发明涉及一种滤光装置（１００），其用于包括光源的照明系统，特别是用于照明光瞳的照明的校正，照明系统被从光源传播到物平面的照明射线束穿过，该照明射线束射到包括至少一个滤光元件（１０５）的滤光装置（１００）上，所述至少一个滤光元件可以被引...

本发明提供了一种投影光学系统。该投影光学系统包括沿该投影光学系统的光轴布置的多个透镜；其中，所述多个透镜可被分成为四个不重叠的透镜组，使得各个透镜组的总折射力是负折射力或正折射力；并且其中，第四透镜组中的各个透镜的折射力均等于或大于０。...

本发明涉及一种微光刻投影曝光设备的投影物镜，用来将位于物平面的掩模图像投影至位于像平面的光敏涂层上，其中所述投影透镜具有光轴（ＯＡ）。为了能在使用高折射的结晶材料的同时限制本征双折射的消极影响，依据本发明一方面的投影透镜包括至少一个透镜...