本发明涉及一种微光刻投射曝光装置，其使用的波长≤１００ｎｍ，尤其是用于ＥＵＶ光刻的波长＜５０ｎｍ，优选地＜２０ｎｍ，该微光刻投射曝光装置具有：照明系统，该照明系统使用限定的偏振状态的光来照亮物体平面中的场；以及物镜，其将物体平面中的场投...

１．光学散射盘、用途以及波阵面测量设备。２．１．本发明涉及一种光学散射盘，包括透明基底（１）和邻接基底的表面并具有光散射活性颗粒（３）的光散射层（２），该散射盘的用途以及装配了该散射盘的波阵面测量设备。２．２．依据本发明，光散射层具有较...

一种光学系统具有多个使波长为λ的光从物平面向像平面成像的元件，该多个元件包括在光路上的具有反射表面的多个反射镜元件。多个反射镜元件中的至少一个是光瞳反射镜，其具有设置在或接近光学系统的光瞳表面的位置处的光瞳反射镜表面。剩余反射镜元件中的...

适合于微光刻投影曝光机的投影物镜，其用于将该投影物镜的物平面中提供的图案成像到该投影物镜的像平面上，该投影物镜包括：　　　　多个光学元件，所述光学元件对于在该投影物镜的工作波长处的辐射是透明的；　　　　其中至少一个光学元件是由在工作波长...

根据本发明的一个方面，一种光学系统，特别是微光刻曝光系统的照明系统或投影透镜，具有光学系统轴（ＯＡ）和由三个双折射元件（２１１，２１２，２１３）构成的至少一个元件组（２００），每个双折射元件由光学单轴材料制成并具有非球面，其中所述组的第...

披露的是一种用于微刻的投影曝光设备（１）的成像装置（７），其包括至少一个光学元件（１０、３３、３４）和至少一个操纵装置（９、３６、４１），该操纵装置设置有线性驱动器（１１），用于操纵光学元件（１０、３３、３４）的位置。该线性驱动器（１１...

物镜（１）具有：第一部分物镜（３），其将第一场平面（７）投影到中间图像（１１）上且包括具有第一中央镜孔径（１５）的第一凸面镜（１３）和具有第二中央镜孔径（１９）的第二凹面镜（１７），所述第一镜（１３）具有距所述第二镜（１７）的第一轴上间...

本发明涉及到光学元件（７）操纵仪，其通过至少三个调节装置（９）在相对于结构（８）多达六个自由度上来操纵光学元件（７）。调节装置（９）每个都有至少两个由力控制的调节器，每个调节器沿一个自由度产生作用力，而调节装置（９）的链接点（１１）则直...

本发明涉及一种物镜，尤指一种特别在波长≤１９３ｎｍ中使用的微光刻投影物镜，包括有：第一局部物镜（１００），具有至少一个镜体，其中镜体（Ｓ１）不具有能由光束穿过的孔；第二局部物镜（２００），具有至少一个主凹面镜（ＳＫ１）和副凹面镜（ＳＫ２...

本发明涉及一种装置，涉及带有这样装置的光学成像系统和所属的校准方法，用于偏振特定地研究光学系统，特别是通过光学成像系统的光线的偏振状态影响，所述装置带有检测器部分，所述的检测器部分具有偏振检测器装置，用于测量从光学系统发出的光线（６）的...

本发明涉及一种利用ＵＶ射线在清洁气体中对射束导向透镜的表面进行去污的方法和装置。按照本发明，所用的ＵＶ射线的波长在强吸收氧的区域，清洁气体中的氧浓度低于空气中的氧浓度。