光散射盘、其用途以及波阵面测量设备制造技术

１．光学散射盘、用途以及波阵面测量设备。２．１．本发明专利技术涉及一种光学散射盘，包括透明基底（１）和邻接基底的表面并具有光散射活性颗粒（３）的光散射层（２），该散射盘的用途以及装配了该散射盘的波阵面测量设备。２．２．依据本发明专利技术，光散射层具有较空气更为光密集的并邻接基底的衬面的包埋介质（４），并且该包埋介质将包围光散射活性颗粒。２．３．借助横向切变干涉仪将其用于例如用来测量大孔径显微光刻投影物镜的波阵面的设备中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光散射盘、其用途以及波阵面测量设备本专利技术涉及一种光娜盘，包括透明基底和与基底表面邻接的光娜 层，所述光Mt层包括光t^t活',粒，还涉及该种娜盘的用途以及包括该TO"盘的波阵面测量设备。本申请要求US临时申请号60/684977的优 先权，该申请公开的内M此全部引入作为参考。光散射盘通常被认为是由透明固体材料制成的一面或两面均是粗糙的 平面盘或一定皿的表面。它们起到例如磨砂玻璃盘以在屏幕上产生真实 图像的作用。由于散射盘的,作用，可从不同的视角观，影的图像。 在照明技术中，磨砂玻璃盘起到使物体的照明均匀的作用。在光学计量学 中，,盘还起到相混合器(phase mixer)作用以破坏空间相干性。尤其 在干涉仪测量设备中，这种散射盘元件还可进行额外的旋转和/或摆动运动 以改变以及混^^王纹的相，使得它们最终平均为零，与相关的探测器的曝 光时间相反，并因而不再干扰测量信号，参见例如公开专利申请DE 103 20 520 Al以及其中指定的现有iW。在现在的情况中，出于简洁的目的，术语"光散射盘"不仅仅包括单 纯的光,类型的，其中在M1"过程中不改鄉射的频率或波长，还包括 荧光 频类型的，即其中入射光被光t^t活1ffi粒吸收并以不同的频 率或波长均匀地发出。这类散射盘还可称为量子转换器型(quantum coiwertertype)。这种变频散射盘还可用来例如将成像辐射从不可视的波长范围转换至可视的波长范围或转换至可M:常规的探测器例如CCD摄像丰腿于检测的波长范围。为了实现变频舰盘，在透明固体基底上具有一 由量子转换材料制成的变频表面涂层；執崃说，具有P43涂层的石英基 底将UV光转换成縁色光，或者基底本身包括这种材料，这些材料中常规 地是,的玻璃材料、铈掺杂石英材料和Lumilas。在想要实现变频和产生高质量的二次图像的应用中，也就是说具有很 小的损失(washing out)，必须尽可能地在一个尽可能薄的层上实现转换步 骤。在JOTUV、 DUV或VUY辐射的应用中，,U来说出于这个目的需使用石英板形式的,盘，其中石英板上具有若干微米厚的P43材料层。 这种^M微镜下可视的变频光t^层通常包括沉积在相应基底表面上的变 频材料的晶粒或粉末颗粒的堆积物。这些颗粒本身不与旨面积的基底表 面相接触，而是具有相对较小的接触面积，因此保留了相邻颗粒之间的间 隙，其中环境介质(通常为空气)而不是变频材料直接与基底表面相邻接。 这意味着相对于基敏光散射层界面的光学性能来说全反射角度的变化是 可在显微镜下可视的。换句话说，穿^S底入射到缝隙区域中的界面也就 是基敏空气界面区#的辐射被认为是界面上的全皿，如果入射角大于 全反射的相关角的话将不会至哒光娜活性颗粒上。在这种情况中，词语 全反射角应理解为指的是简纟訪式表达的全础的临界角。因此，这种常 规的t^盘仅仅适于孔径小于基敏空气界面的全反射角的应用。近来，具有例如大于0.9駄于1.0的非常高数值孔径的投,镜舰 越多地用于显微光刻技术中用来在半导体晶片上形成图案，例如将所谓浸 没,(immersion objective)与具有例如仅仅是若干nm的日益变小的波 长的UV辐射组合使用的形式。需要测量设备，例如能处理相对^:入射 角的这种大孔径待检样品的波阵面测量类型的来确定这种大 L径物镜的成 《象色差或成4象质量。因此，本专利技术要解决的技术问题是要提供一种在介绍中蹈啲类型的 光学TO盘，以及其用途和配备有这种舰盘的波阵面测量设备，该波阵 面观懂设备甚至适用于相当大孔径以及尤其适用于显微光亥啦术中大孔径 浸没物镜的测量。本专利技术通过皿一种包括权利要求1所述特征的光学散射盘、包括权 利要求11所述特征的用途、包括权利要求12所述特征的波阵面测量设备 以及包括权利要求19所述特征的显微光刻,曝光设备，决了这些技 术问题。在依据本专利技术的光学散射盘的情况中，光散射层的光f(M活性颗粒被 包埋介质(embedding medium)所围绕，包埋介质具有较空气更强的光学 增稠作用并与基底的衬面(facing surface)以表面方式(areally)相邻接。因 此，包埋介质填满了基底与界面上的光散射活性颗粒之间的任意缝隙，并 确保全反射角相较于基敏空气界面的更大，或者如果包埋介质具有与基底 材料相等或更大的折射率时全反射效应将完全消失。这样的话，由于在依据本专利技术的光学娜盘的情况中消除了全础效 应或者在任何情况中和基敏空气缝隙区域相比仅仅在更高的入射角上出 现全目効应，与其中空气构成围绕光散射活'M粒的介质的常规光学散 射盘相比，可能^ffi这种光学散射盘的面积将在允许的更高的入射角上扩展。因此，依据本专利技术的光学娜盘可尤其用于确定大孔^M微光亥般影 物镜例如浸没物镜类的成像色差的观懂设备中。在本专利技术的一种 中，包埋介质的折射率达到基底折射率的至少接近80%或甚至至少接近90%，更具体地，其还可大于或等于后者。另外或 者作为替换地，包埋介质的折射率可保持得比光鹏活',粒的折射率小。最后这种情况只排除了包埋介质和^h^娜活',粒之间的界面上的全在本专利技术的另一种改进中，光散射活性颗粒包括颗粒材料，如果需要 的话，粒材料具有单纯的散射、而不发生变频的特性或量子转换特性。在本专利技术的另一种改迸中，包埋介质是液体材料或固体材料，其中颗 粒被包埋在其中。在液体包埋介质的情况中，颗粒可能以悬浮或溶解在其 中，或者它们可形成固体和/鄉干的和/或多孔复合物，而液條周围流动。 在所有情况中，包埋介质以期望的方式填满了界面上的光散射活'ra粒与 基底之间的任意缝隙区域。在本专利技术的另一种改进中，如此选定包埋介质，这种材料将使得其折 射率将导致在基齢包埋介质界面上获得想要的全反射角。包埋介质可以是例如M粘附固定在基底上的液体，因此可以减少一 个盛放包埋介质的容器。作为可选方案，液体包埋介质是被密封的，也就是说需要一个适当的容器来容纳。在最后提到的情况中，包埋介质可以静态的或流动的形态存在于空腔内。在本专利技术的另一种改进中，颗粒以松散的、可移动的的形式位于包埋 介质中。作为可选地，它们还可以被束缚的形式附着在颗粒载体基底上。在颗粒是松散、可移动的情况中，在本专利技术的一种有利的改进中，具 有一种用来移动颗粒的装置。光tm活',粒的运动可增大Mt辐射的均 匀性。为了实现这种颗粒的运动，该装置可包括使液体包埋介质流动的部件；禾口域j顿粒本身活性运动，也就是相对于液体包埋介质来说的运动的部件；禾口/或使包埋介质中嫩卜的辅助颗粒活性运动的部件。在第一种情况 中，光iClt活1^粒夹带在流动包埋材料中。在第二种情况中，體^顿 粒本身产生原动力，对于包埋介质来说还可能保，态或者包埋介质产生 同样的移动。在最后提到盼瞎况中，为了使光散射活',^iSA包埋介质 这个目的，光舰活',粒的运动被移动的辅助颗粒所激发。辅助颗粒可 以是， 咏说，由特别设计来使移动激活装置以相对直接的方式施加原 动力的材料制成的颗粒-辅助颗粒可以任意地根据需要选择它们的麟和 尺寸。依据本专利技术的干涉测量技术的波阵面测量设备，借助于该^S可M: 横向切变干涉仪测量观懂離，例如，在衍射光栅和检测元件之间^顿依 据本专利技术的tm盘。在这种情况中，衍射光栅可位于散本文档来自技高网...

【技术保护点】
光学散射盘，包括：－透明基底（１）以及－与基底表面相邻接并具有光散射活性颗粒（３）的光散射层（２），其中－光散射层（２），该光散射层（２）具有较空气更为光学密集并表面地邻接基底（１）的衬面的包埋介质（４），并且包埋介质（４）还包围光散射活性颗粒（３）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：U韦格曼，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]