微光刻的投射曝光设备使用的分面镜制造技术

分面镜用作微光刻的投射曝光设备中的光束引导元件。该分面镜具有多个分立镜（２１）。对于入射照明光的单独偏转，在每种情况下这些分立镜（２１）被连接到驱动器，使得这些分立镜关于至少一个倾斜轴（ｘ，ｙ）分别地可倾斜。连接到驱动器的控制装置被配置，使得给定组的分立镜（２１）能够组合成分立镜组（１９），该分立镜组在每种情况下包括至少两个分立镜（２１）。结果是当分立镜安装在投射曝光设备中时，分立镜增加用于设置由投射曝光设备照明物场的各种照明几何形状的变化性。用于形成分面镜的分立镜的各种实施例被描述。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用作微光刻的投射曝光设备中的光束引导光学元件的分面镜(facet mirror)。另外，本专利技术涉及微光刻的投射曝光设备的包括至少一个这样的分面镜的照明光 学部件、包括这样的照明光学部件的投射曝光设备、使用这样的投射曝光设备制造微结构 或纳米结构元件的方法以及通过这样的方法制造的微结构元件或纳米结构元件。
技术介绍
这种类型的分面镜在US 6，438，299 Bl和US 6，658，084 B2中进行了公开。
技术实现思路
本专利技术的目的是开发一种开始提到的类型的分面镜(facet mirror)，从而通过将 该分面镜安装在投射曝光设备中，增加了设置各种照明几何形状以使用该投射曝光设备对 物场进行照明的变化性。根据本专利技术，该目的通过具有权利要求1或权利要求4中陈述的特征的分面镜而 得以实现。根据本专利技术，由于分面镜被划分成多个彼此独立地可倾斜的分立镜(^parate mirror)，因此分面镜可变地被划分为分立镜组。这可有助于生成具有不同边界的组，用于 适合于将被照明的物场的形状。分立镜单独地可被驱动，这确保物场的多个不同照明，而 不会由于阻挡或遮挡而损失任何本文档来自技高网...

【技术保护点】
在ＥＵＶ微光刻的投射曝光设备（１）中用作光学元件的分面镜（１３，１４；４７；６４；６７，７０），－所述分面镜（１３，１４；４７；６４；６７，７０）包括分立镜（２１；６９），所述分立镜提供分立镜照明通道（ＡＫ），用于将照明光（１０）引导到所述投射曝光设备（１）的物场（５），－所述分立镜（２１；６９）具有镜面，使得所述分立镜照明通道（ＡＫ）照明所述物场（５）内比所述物场（５）小的物场部分（７３；７６）；和－所述分立镜（２１；６９）经由驱动器（２４）能够倾斜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：乌多丁格，马丁恩德雷斯，阿明沃伯，诺伯特米尔伯格，弗洛里安巴赫，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]