用于微光刻的照明光学部件制造技术

一种用于微光刻的照明光学部件，该照明光学部件包括用于将照明光引导到物平面中要照明的物场的光学组件。根据本发明专利技术的第一方面，照明光学部件（２６）将照明光辐射束（３）分成多个辐射子束（２８至３０），该多个辐射子束被分配物场照明的不同照明角。照明光学部件（２６）被配置以使辐射子束（２８至３０）中的至少一些在交叠平面中交叠，该交叠平面与物平面分开且不被成像到其中发生交叠的物平面。该交叠使得交叠辐射子束（２８至３０）的边缘（３２）至少部分地重合。根据本发明专利技术的另一方面，场强度设定装置（２４）包括多个相邻的单独的光阑（２７），当对那里曝光时，该多个相邻的单独的光阑至少减弱照明光（３）。这些单独的光阑（２７）在平行于物移动方向（ｙ）的方向上可插入到照明光辐射束（３）中。场强度设定装置（２４）的所有单独的光阑（２７）可从同一侧插入到照明光辐射束（３）中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于微光刻的照明光学部件本专利技术涉及用于微光刻的照明光学部件。本专利技术还涉及包括该类型的照明光学部 件的照明系统、包括该类型的照明系统的投射曝光设备、生产结构化部件的方法、以及依照 该类型方法生产的结构化部件。本专利技术的一个目的是开发在前面提到的照明光学部件类型，这样可以影响和/或 监视物场上的照明强度分布，以使在至少可能的程度上影响照明角分布而同时确保照明光 学部件尺寸尽可能小。根据本专利技术，通过用于微光刻的照明光学部件实现该目的，该照明光学部件包 括_光学组件，用于将照明光引导到物平面中要照明的物场；-其中，该照明光学部件将照明光辐射束分成多个辐射子束，该多个辐射子束分配 给物场照明的不同照明角；其中，照明光学部件被配置以使辐射子束中的至少一些在交叠平面中交叠，该交 叠平面与物平面分开且不被成像到其中发生交叠的物平面，从而交叠的辐射子束的边缘至 少部分地重合。根据本专利技术，物平面空间上与照明光的辐射子束的交叠平面分开。物平面和交叠 平面不构成彼此成像的平面；物平面因此可以直接接着交叠平面布置。物平面和交叠平面 之间不需要光学部件来引导照明光。在交叠平面中，可以布置用于设定物场上的照明强度 分布或用于例如通过传感器监测物场上照明强度分布的装置。这个布置使得该装置在辐射子束的重合位置点与照明光相互作用，从而可同时可 探测所有交叠辐射子束，换句话说，来自一些或所有照明角的辐射子束。如所期望，照明光 因此在与物平面分开的交叠平面中可探测。根据本专利技术的照明光学部件可以但不是必须包 括多面镜(facet mirror)。也可以设想使用例如蜂窝聚光器，S卩，分成多个单个通道的透射 光学元件，和/或用于将照明光辐射束分成辐射子束的至少一个衍射元件。根据本专利技术，辐 射子束的子束边缘部分的部分叠加(换句话说，重合叠加)就足够了。交叠辐射子束的其 余子束边缘部分不需要重合；在这些部分中，像差是可容许的。在近似矩形辐射子束的情况 中，例如，四个子束边缘之一处的交叠就足够了。交叠平面中辐射子束的交叠点处，例如，可 以为不受照明角影响的附加传感器系统来解耦辐射，该不受照明角影响的附加传感系统则 能够提供关于物场照明的、有价值的、不受照明角影响的信息。交叠辐射子束的重合边缘部 分形成公共子束边缘部分，该公共子束边缘部分通常垂直于物的物移动方面，该物在微光 刻投射过程中移动。该类型的移动发生在设计为扫描曝光机的投射曝光设备中。通过本发 明的照明光学部件，辐射子束在交叠平面中交叠。根据本专利技术，前面所称的目的也通过用于微光刻的照明光学部件来实现，该照明 光学部件包括-光学组件，用于将照明光引导到物平面中要照明的物场；-其中，该照明光学部件包括具有多个场小平面的场多面镜，该多个场小平面成像 到交叠平面中，从而场小平面的像的边缘在交叠平面中至少部分地重合；以及其中交叠平面与物平面分开且不成像到物平面中。其优势于上面已经描述的那些一样。借助场强度设定装置的辐射子束的交叠提供场强度设定装置的实际照明角无关 效应，该强度设定装置布置在交叠平面中并用于调整物场上照明光的强度分布，该交叠平 面用作强度设定平面，其中交叠辐射子束的边缘在它们可受场强度设定装置影响的点处重 合。在该情况中，交叠平面用作强度设定平面。场强度设定装置在照明光辐射束的交叠的 辐射子束的交叠点影响它们。因而，场强度设定装置在这个点以相同的方式影响所有辐射 子束；换句话说，场强度设定装置具有与这些辐射子束无关并因而与分配给这些辐射子束 的照明角无关的效应。至少在辐射强度设定装置影响照明光辐射束的点处发生辐射子束的 交叠。例如，在近似矩形辐射子束的情况中，场强度设定装置所影响的边缘处的交叠就是足 够的。自然而然，辐射子束或子束边缘部分的交叠也可能在不受场强度设定装置影响的区 域中发生。交叠平面或强度设定平面中、为了减少或实际上避免场强度设定装置的照明角 影响的辐射子束的交叠可在系统中应用，在该系统中场强度设定装置能够从两侧影响交叠 辐射子束。这些可以是具有中间像的照明光学部件或具有透射掩模的照明光学部件。场强 度设定设备定义物平面中的照明光的强度。场强度设定装置影响范围内的点处的辐射子束 的交叠还允许增加要实现的物场照明的稳定性，因为用于产生照明光的光源的移动对场强 度设定装置的效应将仅有较小影响，甚至没有。当使用EUV等离子体源时这尤为有利。包括多个单独的光阑或快门的场强度设定装置提供物场的物场高度(换句话说 垂直于物移动方向的物场大小)上的强度的灵敏调整，该多个光阑或快门一个接着另一个 布置并当照明光对其曝光时至少衰减该照明光，且在平行于物移动方向的方向上可插入到 照明光辐射束中。本专利技术的另一目的是开发前面提到的类型的照明光学部件，以此实现增加场强度 设定装置的可能应用的数量。根据本专利技术，通过用于微光刻的照明光学部件实现该目的，该照明光学部件包 括_光学部件，用于将照明光引导到物平面中要照明的物场；-场强度设定装置，用于利用多个单独的光阑来调整物场上的强度分布，该多个单 独的光阑一个接着另一个布置，并当照明光对其曝光时至少衰减该照明光，且在平行于物 移动方向的方向上可插入到照明光辐射束中；其中，场强度设定装置的所有单独的光阑都从同一侧可插入到照明光辐射束中。根据本专利技术，已经发现，如果场强度设定装置的单独的光阑全都从一侧可插入到 照明光辐射束中，则场强度设定装置甚至也可应用于物场布置在诸如反射掩模母版的反射 物上的情况。场强度设定装置则可以以其不干扰照明光辐射束的反射光路径的方式布置。强度设定平面中场强度设定装置的布置可以再次确保场强度设定装置的照明角 无关效应，该强度设定平面与光学部件的场平面重合。光学部件的场平面描述了其中由于 该光学组件的束引导效应而使得照明光辐射束受限的平面，以及如果照明光辐射束被分成 若干辐射子束则辐射子束交叠的平面。该光学组件的场平面通常是成像光学组件的物场形 成部件的平面。虽然如此，该光学组件的场平面一般与通过微光刻投射曝光设备的下游投 射光学部件成像的且通常称为物平面的平面是位置无关的。在所有现有技术照明光学部件中，光学组件的场平面与物平面重合。在本专利技术的照明光学部件中并非如此。这里，在光学 组件的场平面中所布置的是场强度设定装置而不是要成像的通常为掩模母版的物。现有技 术场强度设定装置通常布置在掩模母版的上游，该掩模母版布置在光学组件的场平面中， 换句话说现有技术场强度设定装置没有布置在该场平面中。因此，现有技术场强度设定装 置相比分配给其他照明角的辐射子束对分配给特定照明角的照明光辐射束的辐射子束具 有更大的影响；现有技术场强度设定装置因此在物场上具有不期望的照明角相关效应。发 明人发现到这个问题并通过在光学组件的场平面中布置场强度设定装置来消除该问题。令 人惊讶地，这允许物被移出光学组件的场平面而没有任何问题。如果包括照明光学部件的 投射曝光设备设计为扫描曝光机设备，则尤为如此。此外，如果物场的照明是利用小于或等 于0. 1的照明光辐射束的数值孔径来进行的，则尤为如此。其中物平面与强度设定平面相邻从而强度设定平面和物平面之间没有光学组件 的光瞳平面的布置特别紧凑。其中强度设定平面和物平面之间的距离在5mm与20mm之间的范围中的布置避本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于微光刻的照明光学部件（２６），包括：－光学组件（２６ａ），用于将照明光引导到物平面（１７）中要照明的物场（１９）；－其中该照明光学部件（２６）将照明光辐射束（３）分成多个辐射子束（２８至３０），该多个辐射子束（２８至３０）分配给物场照明的不同照明角；其中，配置该照明光学部件（２６）以使辐射子束（２８至３０）中的至少一些在交叠平面（１６）中交叠，该交叠平面（１６）与物平面（１７）分开且不被成像到其中发生交叠的物平面（１７），从而交叠的辐射子束（２８至３０）的边缘（３２）至少部分地重合。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：马丁恩德雷斯，拉尔夫施图茨尔，詹斯奥斯曼，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]