本发明公开了一种化学机械研磨头，包括研磨部、连接部、进出水部和隔离管，研磨部内设有涡旋槽道，涡旋槽道连接有进水管和出水管，进水管和出水管与进出水部连接，隔离管将进水管和出水管隔开。本发明通过在研磨头内设置冷却水路，可快速、有效的对研磨头...

本发明公开了一种化学机械水冷式研磨头，包括研磨部、连接部、进出水部和隔离管，研磨部内设有涡旋槽道，涡旋槽道连接有进水管和出水管，进水管和出水管与进出水部连接，隔离管将进水管和出水管隔开。本发明通过在研磨头内设置冷却水路，可快速、有效的对...

本发明公开了输送带的带速监控装置及其使用方法，包括输送带的侧支架板和输送带的带体，带体的两端分别套设在驱动辊和传动辊上，驱动辊和伺服电机的转轴相固接，传动辊的两端成型有铰接轴，铰接轴插接在侧支架板上；传动辊上插套固定有摩擦辊套，带体套设...

本发明公开了一种硅片倒角机上的随行清洗槽，包括矩形的水槽，水槽左侧壁的上端成型有进口，水槽内插设有若干纵向的滚轴，滚轴的两端插接固定在水槽上，滚轴由一组呈倾斜分布的进料滚轴和一组呈水平分布的承托滚轴组成，进料滚轴位于水槽的左侧；所述承托...

本发明公开了一种翻转式的半导体清洗槽，包括若干个呈一排排列的水槽，相邻的水槽并靠在一起；水槽上端面的中部固定有横向的齿条，齿条上啮合有齿轮，齿轮插套固定在传动轴上，传动轴的两端伸出水槽前、后两侧插接在轴承座，轴承座固定在无杆气缸的滑块上...

本发明公开了一种节能型硅片倒角机上的进水装置，包括水平的进水管,进水管的前端弯折成型有向上倾斜的延伸管，延伸管的上端弯折成型有水平的输出管，进水管的前端插接有圆柱形的堵头，堵头的前端穿过延伸管成型有竖直的开槽，堵头的开槽内插接有斜置的驱...

本发明公开了一种烘干设备内的沥水防护罩，包括筒形的防护罩，防护罩下端的外壁上成型有向下凸起的集水槽，防护罩的两端均固定有环形的挡水圈，挡水圈的下端成型有盖板，盖板覆盖固定在集水槽的两端；所述防护罩前端下侧的外壁上固定有若干导向套，防护罩...

本发明公开了一种翻转式清洗机上的硅片盒，包括圆筒形的盒体，盒体内插设有抽屉架，抽屉架包括两根呈截面呈T形的弧形支撑板，弧形支撑板的内壁上成型有若干道圆弧形的插槽，弧形支撑板一端的内壁上固定有外端盖，弧形支撑板另一端的内壁上固定有内端盖；...

本发明公开了一种光刻返工去胶用清洗筒，包括清洗筒，清洗筒两侧相对的外壁上成型有竖直的增厚条，清洗筒内插设有圆形的升降台，升降台的上端露出清洗筒并成型有凹台，凹台的底面上成型有若干个吸气孔，升降台内成型有与吸气孔相连通的环形气道，所述升降...

本发明公开了一种圆晶用输送带的带速监控装置，包括输送带的侧支架板和输送带的带体，带体的两端分别套设在驱动辊和传动辊上，驱动辊和伺服电机的转轴相固接，传动辊的两端成型有铰接轴，铰接轴插接在侧支架板上；传动辊上插套固定有摩擦辊套，带体套设并...

本发明公开了一种单晶硅片倒角机上的水槽，包括矩形的水槽，水槽的下端成型有半圆形的底壳，底壳前端的外壁上成型有圆弧形的排水口，排水口下侧的底壳侧边弯折成型有斜置的导流板；所述的底壳内插接有覆盖排水口的圆弧形的盖板,盖板的上、下侧边分别抵靠...

本发明公开了一种带调心装置的单晶硅片倒角设备，包括倒角设备上的下旋转轴和下底盘，下旋转轴通过轴承铰接在下底盘上，下旋转轴的上端露出下底盘的上端面；所述下底盘的外圈成型有挡水圈，挡水圈的前端成型有进刀口，下底盘的上端面上成型有若干个圆弧形...

本发明公开了一种便于精确定位的圆硅片研磨盘，包括研磨底盘，研磨底盘上端面的外圈成型有环形的集水槽，集水槽外侧的磨底盘上成型有挡水环，研磨底盘的中心设有齿轮轴，齿轮轴的上端成型有导向轴，齿轮轴的下端成型有传动轴，传动轴通过轴承和研磨底盘相...

本发明公开了一种半导体烘干设备上的甩水支架，包括若干块扇形的隔板，隔板的两端插接固定有托杆，下托杆两端的隔板的圆心处固定有旋转轴，隔板的圆心处成型有向上延伸的支板，支板的上端成型有凸轮型的卡孔，卡孔一侧孔壁上成型有贯穿支板侧壁的开槽；旋...

本发明公开了一种带状式化学机械研磨装置，包括机架，所述机架上铰接有两个左右方向等高设置的带轮，两个带轮上张紧有顺时针传动的皮带，皮带的外壁上固定有研磨垫；两个带轮的中间上方设有研磨头，晶圆固定在研磨头上且正对研磨垫；所述研磨头的左侧设有...

本发明公开了一种硅片盒输送线上的堆叠装置，包括矩形的底板，底板后侧的中部成型有矩形的槽孔，槽孔内插接有堆叠板，槽孔四周的底板上插接固定有若干杆立柱，立柱的上端插接固定有矩形的顶板，顶板的中部成型有与堆叠板相对的矩形过孔，矩形过孔相对的两...

本发明公开了一种硅晶片清洗装置，包括清洗台，所述清洗台上固定有清洗巾，清洗巾的上方设有硅晶片输送机构，硅晶片输送机构包括三个圆周均布的吸盘，其中一个吸盘正对清洗台；所述清洗台固定在中心芯轴的上端，中心芯轴的下端插套在机架上，机架上设有驱...

本发明公开了一种适用于多种规格化合物半导体圆片吸盘，包括吸盘本体，吸盘本体的下底面上成型有多个圆周均布的径向滑槽，每个径向滑槽内滑动连接有一个吸块；吸块的内部设有气腔，吸块的下底面上成型有多个与气腔相通的细孔；吸盘本体的中部固定有与其同...

本发明公开了一种化学机械研磨装置，包括研磨台，所述研磨台的上方固定有研磨垫，研磨垫的一侧边缘上方设有三个圆周均布的研磨头，三个研磨头设有转动切换机构，转动切换机构固定在机架上；其中一个研磨头正对研磨垫，所述机架上设有驱使正对研磨垫的研磨...

本发明公开了一种防磕碰晶舟单元，包括舟体，所述舟体上成型有左右方向设置的槽道，槽道的内壁上成型有多个线性均布的凸筋，凸筋的上端面上成型有两个对称设置的卡槽，每个凸筋上的两个卡槽内套接有隔板，隔板的左侧壁和右侧壁上各成型有多个凸起；晶圆插...