本发明提供了N

本实用新型公开了流延机膜带烘干道的水平安装装置，包括壳体和安装板，所述壳体的顶部嵌设有两个螺纹套，所述两个螺纹套的内侧均螺纹连接有螺纹杆，两个所述螺纹杆的外侧均滚动接触有同一传动带。本实用新型中，壳体的上端面设置了螺纹套，螺纹套内侧设置...

本实用新型公开了一种流延机，包括流延机主体，所述流延机主体包括有工作仓、支撑座与基带，所述支撑座底部通过伸缩连杆固定连接有底座，所述支撑座竖直端两侧均固定安装有安装架，所述安装架水平端之间固定安装有第一支杆，所述第一支杆竖直端穿设有转动...

本实用新型公开了一种双面研磨抛光机，包括工作台、安装在工作台底部的支撑腿、上磨盘、下磨盘和驱动电机，所述工作台的顶部中心处固定连接有连接筒，所述连接筒的顶部通过轴承套转动连接有下磨盘，所述下磨盘的内部中心处开设有棘轮内齿，所述工作台的底...

本实用新型公开了一种带有无蜡垫组合夹具的双面研磨器，包括研磨器主体，所述研磨器主体包括有连接座、上磨盘与下磨盘，所述下磨盘顶部固定安装有限位座，所述限位座竖直端两侧内表壁均通过弹簧弹性连接有无蜡垫板。本实用新型中，将待加工物件穿过限位座...

本实用新型公开了N‑Si基板的表面去毛刺设备，包括工作平台，所述工作平台的上端面两侧对称开设有滑槽，所述滑槽的内侧滑动连接有推杆，所述推杆的顶部安装有夹盒，所述夹盒靠近工作平台轴心线的一侧开设有多个夹槽，所述夹盒顶部安装有热风机，所述夹...

本实用新型公开了一种流延机的流延头，包括两个侧板以及两个侧板互相靠近的侧面固定连接的流延头，所述流延头底端开口处设有底膜，所述流延头内腔两侧均开设有第二滑槽，且第二滑槽内滑动连接有滑动浮板，所述流延头顶部连通有料斗，且料斗内滑动连接有挡...

本实用新型公开了一种流延机干燥装置，包括机座以及机座中心处设置的流延膜，所述机座上固定连接有驱动电机，所述机座上转动连接有转动轴，所述转动轴外侧套设有传动辊，所述传动辊外侧套设有传送带，且传送带中心处设置有吸水层，所述机座上固定连接有冷...

本实用新型公开了一种丸状金刚石磨具组件，包括移动杆和固定杆，所述固定杆与机架固定连接，所述固定杆上安装有第二电机，所述第二电机的输出轴贯穿U形收集盒底部后传动连接有第二金刚石磨盘，所述固定杆两侧安装有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的杆部与移...

本实用新型公开了一种能同时研磨出不同粗糙度的研磨装置，包括机架，所述机架的底座上安装有第二电机，所述第二电机的输出轴通过轴承传动连接有多个安装箱，所述安装箱上均匀开设有多个通槽，所述通槽内通过固定装置固定有工件，所述机架的立柱上安装有多...

本实用新型涉及一种研磨装置，具体涉及一种具有主动式修盘功能简易型研磨装置，包括研磨机支架，研磨机支架上表面设有研磨盘；研磨机支架上表面设有支撑机构，支撑机构包括设于研磨机支架表面的第一支撑柱、第二支撑柱和连接第一支撑柱顶端与第二支撑柱顶...

本发明公开了N‑Si基板的抛光工艺，包括如下步骤：A、粗抛光；B、精抛光；C、化学机械抛光；D、对N‑Si基板进行进行切割；E、将基板放置于装有丙酮溶液的烧杯中；F、将基板放置于装有甲醇溶液的烧杯中；G、将N‑Si基板放置于装有去离子水...

本实用新型涉及研磨抛光机，具体涉及一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，包括底座，底座为方体结构，底座上设有抛光槽，抛光槽包括抛光槽环和抛光槽底盘，抛光槽底盘上端表面设有第一研磨纹路，抛光槽环侧壁内侧环绕连续性设有竖直方向的第一齿槽；抛光...

本实用新型涉及一种研磨装置，具体涉及一种快速填装研磨工件的单面研磨机，包括研磨平台和设于研磨平台上表面的研磨盘，研磨平台上设有支撑机构和驱动机构，支撑机构包括设于研磨平台上表面的左支撑体、右支撑体和连接左支撑体与右支撑体的滑轨，驱动机构...

本实用新型涉及陶瓷基片生产装置，具体涉及一种陶瓷基片研磨抛光机，包括基座，基座为“V”字形结构；基座上设有通过电机驱动旋转的旋转下圆盘；基座上左右两端分别设有左支撑架和右支撑架，左支撑架和右支撑架上横跨旋转下圆盘设有导轨和驱动螺杆；导轨...

本实用新型涉及陶瓷基片流延装置，具体涉及一种陶瓷基片流延专用刮刀，包括刮刀底座，所述刮刀底座为长方体结构，所述刮刀底座左右两端分别设有左安装孔和右安装孔，所述刮刀底座前侧面活动固定连接有刮刀；所述刮刀为刀刃为水平延伸面的板式刮刀；所述刮...

本实用新型涉及陶瓷基片生产装置，具体涉及一种陶瓷基片流延槽装置，包括流延槽主体，流延槽主体为框架结构，流延槽主体包括底面、左侧面、右侧面和前侧面，流延槽主体内包括第一流延槽和第二流延槽；第一流延槽由底面、前侧面、左侧面、右侧面和第一隔板...