本发明的实施方案包括挤压复合在一起的复合材料组合物，包含聚合物、一定量的纳米管和一定量的纵横比大于1且小于约5的细磨碳纤维。获得的复合材料具有高的碳负荷水平和改进的摩擦性能，该摩擦性能包括摩擦系数和磨损率，提供了均匀的表面电阻和最小的加...

本发明涉及用于最优化泵的操作的方法和系统。本公开描述了总体上涉及过滤的系统和方法。更具体地说，在此描述的实施例涉及基于过滤器信息和加工流体信息来最优化泵的操作例程。该过滤器信息可以存储在过滤器上的电子可读标签上。

本发明公开了一种气化方法，该气化方法包括：使气体流入位于膜接触器的多孔元件的气体接触侧上的气体入口中；使液体流入位于膜接触器的多孔元件的液体接触侧上的液体入口中，其中所述液体通过多孔元件和接触器外壳与气体分隔开；向膜接触器的多孔元件的气...

本发明解决了工业上对于一种性能更好的和更持久的用于晶片容器的密封结构的需求，通过提供一种弹性密封件，在分离容器的内部和外部方面具有增强的密封性能，具有增强的在槽中密封件的保持特性，并且通过密封件增强凹槽的密封性，以阻止密封件-凹槽啮合处...

一种用于CMP抛光垫的垫修整器。该垫修整器包括具有带纹理或粗糙表面的特征部，具有超硬磨料晶种，例如散布在粗糙表面上的金刚石。涂层，例如多晶金刚石可应用于表面和磨料晶种上。在一个实施方式中，所述涂层的厚度是较大超硬磨料的50%~100%。

一种适用于例如450毫米晶片等大晶片的前开式晶片容器，使用具有多个单独扣件的组件部分以将该组件部分以一适当方式锁定在一起，进而提供坚固的连接及具有成本效益。容器部具有开口的正面并于底面上容置由多个扭锁连接器固定的基板，该扭锁连接器亦提供...

可在诸如FOUPS的晶片容器内的顶部晶片以上设置一个或多个粒子罩，以防止微粒积聚在晶片上。该粒子罩或屏障可由兼容的材料形成以保持低于5%的RH，特别是不会吸收大量水以及将所吸收的水分带入容器中的材料。在实施方式中，发现合适的特别材料包括...

公开了用于CMP抛光垫的垫修整器，其包括具有第一组突起和第二组突起的基板，第一组突起具有第一平均高度，第二组突起具第二平均高度，第一平均高度不同于第二平均高度，在第一组突起中的每个突起顶部具有非平坦表面，在第二组突起中的每个突起顶部具有...

本发明公开了一种晶片容器，该晶片容器能减少或缓解与因负载所引起的过度容器壁偏斜以及与过量颗粒生成相关联的问题其中的一个或多个，当这种问题出现于用于450毫米直径及更大晶片的容器时尤其如此。该容器具有壳体以及门，该门具有互锁部件以使得能够...

一种使用适用于450毫米直径的晶圆的前开式晶圆容器。前门具有一对闩锁机构，从外部可操作且位于门的侧面，各闩锁机构具有一对闩锁尖端，闩锁尖端从门的顶部及底部周边延伸至位于容器部的正面开口的门框架中的接收器中。门包含用于支撑水平堆积的晶圆的...

本发明介绍了大致关于过滤的系统和方法。更特别是，这里所述的实施例涉及优化基于过滤器的泵的操作例程。这里所述的起动加注例程的实施例能够执行从下游加压过滤器的反向压力步骤以及从下游冲洗过滤器的反向冲洗步骤。

本申请公开了一种用于在半导体制造过程中监测泵的操作的计算机系统，包括：建立用于流体泵的基线型面的装置，其中，在所述流体泵的操作过程中，通过测量在一个或多个点处的参数而产生所述基线型面；在所述流体泵的随后操作过程中，通过测量在一个或多个点...

本发明所披露的系统和方法的实施例利用无刷DC马达（BLDCM）驱动泵系统中的单级或多级泵，用于实时、平滑运动以及极其精确和可重复地对流体运动和分配量进行位置控制，其在半导体制造中非常有用。该BLDCM可以利用位置传感器，来对执行定制场定...

所公开的实施例提供了一种实现模块化架构的可定制分发系统，该可定制分发系统包括智能控制器，该智能控制器被配置成，操作敏感于印刷图案中的缺陷的各种半导体制造工序中的各种气动泵和电动泵。该智能控制器被配置成，当将与第一泵的连通切换至第二泵时，...

一种改进了用于把微环境净化到所需水平的相对湿度、氧气或颗粒物的系统和方法，通过采用可以在微环境内均匀分布吹扫气体的吹扫气体输送装置和方法。一种具有沿塔的长度延伸的流体流动通道的净化塔的衬底容器。在孔和流体流动通道之间具有多孔介质的孔可以...

本发明的实施例包括一个化学机械抛光清洁刷，其具有在刷的内部区域的中央结节和在刷的端部区域的一个或多个边缘结节的组合，其中中央结节和边缘结节相互交错或匹配设置，刷上的各个边缘结节的上表面的接触面积等于或大于中央结节的上表面。各个边缘结节的...

本发明涉及用于最优化泵的操作的方法和系统。本发明描述了总体上涉及过滤的系统和方法。更具体地说，在此描述的实施例涉及基于过滤器信息和加工流体信息来最优化泵的操作例程。该过滤器信息可以存储在过滤器上的电子可读标签上。

本公开描述了总体上涉及过滤的系统和方法。更具体地说，本公开涉及利用过滤器信息来控制泵的操作。可去除过滤器可以包括存储过滤器信息的可电子读取标签。该过滤器信息可以通过标签读取器读取，并且向该过滤器信息应用规则以确定是否或怎样操作泵。

公开了用于补偿可以在泵送装置的各种封闭空间中发生的压力增加的系统和方法。本发明的实施例可以通过移动泵送装置的泵送机构以调节室的体积来补偿泵送装置的室中的压力增加，从而补偿室中的压力增加。更具体而言，在一个实施例中，为了解决分配室中流体的...

公开了一种大体上保持在泵送组件的腔中基准压力的系统和方法。本发明的实施例用来控制马达以补偿或者解决存在于泵送设备的腔中的压力漂移。更具体地说，在基于分配腔中检测到的压力而进行分配过程之前，对分配马达控制以大体上保持在分配腔中的基准压力。...