一种气体处理方法，其特征在于，在至少表面含镍（Ｎｉ）的高温部件的存在下，利用含有ＮＨ↓［３］气体和Ｈ↓［２］气体的气体对被处理体进行气体处理，　　　　控制Ｈ↓［２］／ＮＨ↓［３］流量比和所述部件的温度而抑制所述部件的镍的反应。

一种薄膜的叠层结构的形成方法，在能够抽真空的处理容器内在被处理体的表面上堆积多层薄膜而形成薄膜的叠层结构，其特征在于，将以下工序分别交替进行１次以上：　　　　使用含有作为合金种的第一金属的原料气体和还原气体，形成由第一金属构成的合金种膜...

本发明公开了在衬底上进行气相沉积的方法、计算机可读介质以及系统：将衬底布置在处理系统的处理空间中，处理空间与处理系统的传递空间真空隔离；在处理空间中的第一位置或第二位置对衬底进行处理，同时保持与传递空间的真空隔离；在第一位置或第二位置在...

本发明提供一种等离子体处理装置，其特征在于，使用如下所述的等离子体处理容器的再生方法进行等离子体处理，该等离子体处理容器的再生方法是：向用稀土族氧化物、聚酰亚胺和聚苯并咪唑中的任何一种喷镀膜覆盖基材表面得到的等离子体处理容器的内部部件的...

本发明提供一种原料供给装置，是向成膜装置供给使固体原料升华的气体原料的原料供给装置，其特征在于，包括：内部保持所述固体原料的原料容器；设置在所述原料容器的第一侧的第一加热单元；设置在所述原料容器的第二侧的第二加热单元；第一温度控制单元，...

本发明提供一种汽化器和半导体处理系统，其是用于从液体原料得到处理气体的汽化器，包括在喷注器的排出口下侧配置在容器内的具有中空的内部空间的下部热交换体。在排出口和下部热交换体之间规定雾状液体原料的助起动空间，在容器的内侧面和下部热交换体之...

本发明涉及一种Ｔｉ系膜的成膜方法，是在收纳晶片（Ｗ）的腔室（３１）内，从至少表面由含有Ｎｉ的材料构成的喷淋头（４０）喷出含有ＴｉＣｌ↓［４］气体的处理气体，在配置在腔室（３１）内的晶片（Ｗ）的表面上形成Ｔｉ系膜时，使喷淋头（４０）的温度...

本发明的成膜装置（１００）具有处理容器（１１），向处理容器（１１）内供给ＴｉＣｌ↓［４］气体和ＮＨ↓［３］气体，利用ＣＶＤ在配置于处理容器（１１）内的基板（Ｗ）上形成ＴｉＮ膜。在处理容器（１１）中设置有排气系统结构（３００）。该排气系统...

本发明的目的是输送基板以使得在玻璃基板上的涂敷膜上不产生不均。在抗蚀剂涂敷处理组件的台的前后，设有第１输送体和第２输送体。第２输送体具有在Ｙ方向上排列的多个辊、支承辊的保持器、和安装保持器的轨道板。在保持器上设有使辊旋转的旋转驱动部、和...

本发明提供一种石英制品，由于半导体制造装置的热处理装置的部件石英制品在加工时被铜污染，因此，在热处理装置运转时，就需要抑制对半导体基板引起的铜污染。在石英制品还没有在半导体基板的热处理中使用的阶段，将石英制品置于加热气氛中，并将含有氯化...

本发明提供一种大幅削减并缩短教学操作时间的教学方法，该方法将具有搬运机构的处理系统中所述搬运机构的移动目标位置存储于控制装置，所述搬运机构以拾取器保持并搬运被处理体，其工序如下：在移动至临时目标位置的移动路径的途中，在所述搬运机构与其它...

一种输送系统的输送位置对准方法，其特征在于，　　　　该输送系统具有：　　　　至少具有１个保持被输送物的拾取器件的第一输送机构；　　　　至少具有１个保持被输送物的拾取器件的第二输送机构；　　　　多个装置，可由所述第一和第二输送机构中的至少...

一种用来在高压处理过程中支托半导体晶片的真空吸盘，包括：　　　　ａ．晶片台板，它包含光滑表面、第一至第三升降销孔和处在光滑表面内的真空开口，该真空开口可对半导体晶片表面施加真空；　　　　ｂ．分别安装在第一至第三升降销孔内的第一至第三升降...

一种探针的研磨方法，使用研磨部件研磨实施被检测体电性能检测的排列在探针板上的多枚探针，其特征在于：　　　　使所述研磨部件与所述探针板的位置发生相对变化，分多次对所述多枚探针进行研磨。

公开了一种清洁物体表面的方法。该物体放在压力腔的支撑区上（１０），然后给压力腔加压（２０），执行清洁工艺（３０），执行一系列的减压循环（４０），然后放空压力腔（５０）。

一种用于将清洗液喷洒在基底上的装置和方法，其中所述清洗液通过一个喷嘴阵列基本喷洒在靠近基底的中心处并且通过第二喷嘴阵列喷洒在穿越所述基底的径向范围。因此，所述装置包括：第一喷嘴阵列，其包括至少一个喷嘴并被构造成将所述清洗液基本喷洒在靠近...

在对基板表面进行旋转清洗时，减少在基板上残留的水滴，抑制例如曝光后的加热处理时的水滴或水印引起的加热斑。使来自清洗液喷嘴的清洗液的供给位置从基板的中央部向周边移动，同时，相对于比供给位置位于基板旋转方向下游侧的区域，向基板的外侧喷出气体...

本发明提供了可以高效率而且充分地洗涤面向狭小空间的结构部件的洗涤装置。洗涤装置（１００）具有主体（１２０）和从主体（１２０）内部弯曲自由地延伸的二层管喷嘴（１１０）。二层管喷嘴（１１０）具有喷出管（１１４）和包围该喷出管（１１４）的吸引...

本发明提供一种涂布方法，在长条形涂布喷嘴上经常稳定地得到良好的浸润线，从而在被处理基板上形成一定厚度且没有涂布斑的涂布膜。浸润线打底处理部（１２５），由多功能单元（１７２）内的抗蚀液供给部将抗蚀液或稀释抗蚀液供给至从前面渗出抗蚀液那样构...

本发明描述了用于衬底温度的多区控制的方法和系统。该温度控制系统包括热交换器，该热交换器耦合到被构造来支撑衬底的衬底夹持器中的两个或更多个流体通道。热交换器被构造来调节流经所述两个或更多个流体通道的传热流体的温度。温度控制系统还包括传热单...