基板处理装置具备：载置更换部，其将在覆盖框架的开口部的带上粘接着的芯片从所述带更换载置到搬送板；第一清洗部，其在所述搬送板对所述芯片进行了保持的状态下清洗所述芯片的表面；第一活化部，其在所述搬送板对所述芯片进行了保持的状态下将所述芯片的...

本发明涉及输送模块和半导体制造装置的基板输送方法。在利用移动体向处理模块输送基板的半导体制造装置所使用的输送模块中，在向设置于移动体的电力消耗设备进行供电时，谋求生产率的提高。具备磁体的移动体利用磁力在从底部浮起的状态下移动而向用于处理...

本发明涉及基板处理装置。提供一种使处理容器内的屏蔽构件的温度稳定化的构造。基板处理装置具有：处理容器；温度调整构造，其在所述处理容器的侧壁的内部具有流路；屏蔽构件，其以接近所述流路的方式设于所述处理容器内；导电性构件，其设于所述侧壁的所...

本发明提供能够期待有效利用从基板处理装置得到的数据的信息处理方法、计算机程序以及信息处理装置。本实施方式的信息处理方法由信息处理装置进行如下处理：获取观测基板处理装置的状态所得的时间序列的观测数据，基于获取到的上述时间序列的观测数据通过...

基板处理方法包括以下工序：工序(a)，准备基板，基板包括包含第一材料的第一区域以及包含与第一材料不同的第二材料的第二区域；工序(b)，使用从包含碳和氢中的至少一方、氟以及金属的第一处理气体生成的第一等离子体来在第一区域上形成含金属沉积物...

本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。提供一种能够减小基板间的热历程之差的技术。本公开的一形态的基板处理装置具备：第1处理室，其对呈搁板状保持于基板保持件的多张基板成批地实施第1处理；加载互锁室，其位于所述第1处理室的下方，该加载互锁室...

本发明的基板处理装置具备：处理容器，具有能收容表面被液体润湿的状态的基板的处理空间；处理流体供给部，向处理容器供给超临界状态的处理流体，处理流体供给部具有：流体供给管线，一方与流体供给源连接，另一方与处理容器连接；泵，设置于流体供给管线...

本公开提供一种升降机构和基板处理装置，能够同时实现扬尘的减少和省空间化。本公开的一个方式的升降机构使将多张基板呈层架状地保持的基板保持器具进行升降，所述升降机构具有：支承部，其支承所述基板保持器具；以及多关节臂，所述多关节臂的前端连接于...

本发明提供一种等离子体处理装置，其包括：等离子体处理腔室；天线，其设置在所述等离子体处理腔室的上部或上方；RF电源，其与所述天线电连接，能够控制输出电功率的频率；和控制部，所述RF电源能够输出具有第一频率的第一输出电功率和具有第二频率的...

本发明提供能够容易地使基片处理装置内的流体的流动的分布可视化的系统。基片处理系统(1)包括：基片处理装置(50)，其具有收纳基片(W)的收纳空间(A1)；朝向收纳空间(A1)的摄像机(81)；图案(82)，其被设置成在摄像机(81)的视...

本发明涉及基板处理装置和基板收纳容器保管方法。在使收纳了基板的基板处理容器暂时待机的保管部保管比以往更多的基板收纳容器。用于处理基板的基板处理装置具有：基板收纳容器载置部，其在基板处理装置载置基板收纳容器，该基板收纳容器收纳要处理的基板...

本公开提供一种基板待机部、基板处理系统以及基板处理方法，能够提高生产能力。基板待机部使在上表面和下表面附着有第一液膜的基板等待，所述基板待机部具备：处理液供给部，其对所述基板的上表面供给处理液；质量测定部，其测定所述基板的质量；第一摄像...

本公开提供一种基板处理方法和基板处理系统，能够提高生产率。基板处理方法包括以下工序：工序(A)，准备基板，基板具有多个电极在基板表面配置而成的电极阵列；工序(B)，在电极阵列的整体形成密封层叠体，密封层叠体具有按第一密封层、第二密封层、...

本发明的一个方式的处理流体供给装置(70)包括供给管线(61)、冷却部、泵(75)、返回管线(90)、加热部和流量调节机构。供给管线(61)从供给气体状态的处理流体的处理流体供给源(60)向基片处理装置(1)供给处理流体。冷却部设置于供...

本发明提供一种基片处理方法，包括：使用极性显影材料和非极性显影材料，对形成了负型的含金属抗蚀剂的覆膜、并进行了曝光处理及所述曝光处理后的加热处理的基片进行显影的工序。

本发明提供基板载置台的研磨方法和基板载置台。抑制在基板载置台的加工时因切削负荷的影响使加工工具倾斜导致加工错移而产生台阶，抑制蚀刻斑的产生。基板载置台的研磨方法用于研磨作为基板载置台的上表面的基板载置面，该基板载置台包括基材、设于所述基...

基板处理装置具备：处理容器，在所述处理容器设置有基板的搬入搬出口，所述处理容器收容所述基板；盖体，其对所述搬入搬出口进行打开关闭；闸门开闭部，其使所述盖体移动；基板搬送部，其一边保持所述基板，一边使所述基板通过所述搬入搬出口；第一开闭阀...

本发明提供能够期待修正与基准装置的机械误差来进行对象装置的控制等的信息处理方法、计算机程序以及信息处理装置。信息处理装置获取对象装置的传感器值，将获取到的上述对象装置的传感器值输入到传感器值转换模型来获取由上述传感器值转换模型输出的上述...

本公开的一个方式的流体供给系统向在内部对基板进行处理的处理容器内供给流体，该流体供给系统具有：处理流体供给部，其供给处理流体；流体供给路径，其与所述处理流体供给部以及所述处理容器连接，用于使温度被调整后的处理流体流通到所述处理容器内；第...

基片处理系统包括：处理模块；真空输送模块，其与所述处理模块连接，具有用于输送所述环的输送机器人；能够对所述环进行温度调节的温度调节部；和控制部。所述控制部能够进行控制以使得依次进行：在将所述环送入所述处理模块之前，利用所述温度调节部对所...