本技术公开了一种重载型可调铰链，属于真空镀膜机设备技术领域，目的在于解决现有传统的铰链在镀膜机门太重时无法适用的问题。其包括室体铰链座、门铰链座、铰链连接块、转动轴、固定轴，所述室体铰链座安装在真空室上，所述门铰链座安装在门上，室体铰链...

本技术公开了一种磁场强度可调节的条形离子源结构，属于真空镀膜机设备技术领域，目的在于解决传统的条形离子源磁场强度不合适的时候很难调整的问题。其包括真空箱体、阴极基板、磁铁组件、绝缘法兰、垫高法兰、冷却铜板、阳极基板，阴极基板安装于真空箱...

本技术公开了一种用于真空镀膜机的水冷式修正挡板结构，属于真空镀膜机设备技术领域，目的在于提供一种用于真空镀膜机的水冷式修正挡板结构，解决传统的修正挡板结构没有对密封位置进行冷却，O型圈会随着温度升高使用寿命降低的问题。其包括气缸、水冷法...

本实用新型公开了一种用于真空镀膜机的新型自公转机构，属于真空镀膜机设备技术领域，目的在于提供一种用于真空镀膜机的新型自公转机构，解决传统的自公转机构无法满足每一个工件在镀膜过程中均能实现自转的问题。其包括挂筒组件、固定组件、转动组件和工...

本实用新型公开了一种用于真空镀膜机的新型供水装置，属于真空镀膜机设备技术领域，目的在于提供一种用于真空镀膜机的新型供水装置，解决现有真空镀膜机采用一根水排集中供水，易导致用水量较小的部件无法得到充分冷却，继而造成产品质量降低的问题。其包...

本发明公开了一种同步调节电子枪高压和磁场强度的系统，属于真空镀膜机设备技术领域，目的在于解决现有真空蒸镀设备中同一坩埚放置超过两种熔点差较大材料时，由于蒸发材料的轰击电压不能随意调整而难以控制某些材料的均匀蒸发，使得材料表面易出现凹凸不...

本实用新型公开了一种同步调节电子枪高压和磁场强度的系统，属于真空镀膜机设备技术领域，目的在于解决现有真空蒸镀设备中同一坩埚放置超过两种熔点差较大材料时，由于蒸发材料的轰击电压不能随意调整而难以控制某些材料的均匀蒸发，使得材料表面易出现凹...

本实用新型公开了一种长度可调的多位晶振片涂层厚度检测装置，属于真空镀膜技术领域，目的在于解决现有多位涂层厚度检测装置长度不可调而带来的制作调试产品工艺时的问题。其包括防污外筒，所述防污外筒内套设有内筒，所述内筒顶端连接有密封法兰，所述密...

本实用新型公开了一种用于真空镀膜机的小功率旋转阻蒸，属于真空镀膜机设备技术领域，目的在于解决传统的阻蒸结构可放置膜料种类较少；但现有的旋转阻蒸结构较为复杂，成本比较高，当用在小型机台上或做小型实验时存在不适用的问题。其包括蒸发组件、转动...

本实用新型公开了一种用于真空镀膜机的快速制冷及回温装置，属于真空镀膜机设备技术领域，目的在于提供一种用于真空镀膜机的快速制冷及回温装置，解决传统的深冷盘管方式需要等待设备整体真空度到达才能启动制冷，深冷盘管回温完成才能开箱取件的情况，造...

本实用新型公开了一种低污染的空心阴极霍尔离子源子源，属于真空镀辅助镀膜技术领域，目的在于提供一种低污染的空心阴极霍尔离子源子源，解决现有设备造成样品成膜品质差的问题。其位于反射板下端面采用高导热金属的气体分配器，与同样采用高导系热系数金...

本发明公开了一种用于离子源的空心阴极辅助启动电路，属于供电技术领域，目的在于解决现有技术引弧效率低，造成钽管损耗严重的问题。其包括维持电源、扼流圈L、二极管D、功率电阻R、阴极组件；所述阴极组件包括外筒，外筒内设置有钽管，所述钽管内设置...

本实用新型公开了一种用于真空镀膜机电子枪的电磁铁偏转结构，属于真空镀膜机设备技术领域，目的在于解决现有设备难以精确调节电子束位置及位置漂移的问题。其包括电子枪主体和电子枪枪头组件，电子枪主体包括电子枪底座，电子枪底座上设有主极靴，电子枪...

本实用新型公开了一种用于真空镀膜机的观察窗结构，属于真空镀膜机设备技术领域，目的在于解决传统的观察窗仅能通过偏光膜或者黑玻璃观察，当光线较弱时，很难看清真空腔内的情况的问题。其包括压紧法兰、翻转法兰、旋转法兰和观察窗把手，压紧法兰安装在...

本发明公开了一种用于真空镀膜机电子枪的电磁铁偏转结构，属于真空镀膜机设备技术领域，目的在于解决现有设备难以精确调节电子束位置及位置漂移的问题。其包括电子枪主体和电子枪枪头组件，电子枪主体包括电子枪底座，电子枪底座上设有主极靴，电子枪底座...

本发明公开了一种长度可调的多位晶振片涂层厚度检测装置，属于真空镀膜技术领域，目的在于解决现有多位涂层厚度检测装置长度不可调而带来的制作调试产品工艺时的问题。其包括防污外筒，所述防污外筒内套设有内筒，所述内筒顶端连接有密封法兰，所述密封法...