根据一个实施例，提供了一种棱镜系统(900)。棱镜系统包括偏振分束器(PBS)表面。所述PBS表面被配置为从接收到的束(917)中产生具有对应的第一偏振信息和第二偏振信息的第一子束(919a)和第二子束(921a)，所述第二偏振信息不同...

在其上表面和/或下表面上没有电绝缘材料的扁平线圈。没有绝缘材料有助于维持线圈温度以及提供其它益处。

一种光刻簇包括轨道单元和光刻设备。该光刻设备包括对准传感器和至少一个控制器。该轨道单元被配置为处理第一批次和第二批次。该光刻设备可操作地耦接到该轨道单元。该对准传感器被配置为测量校准晶片的至少一个对准标记类型的对准。至少一个控制器被配置...

一种光学组件和制造光学组件的方法，其中使用增材制造技术直接在光学元件上形成支撑结构，或直接在载体上形成支撑结构，随后结合至光学元件。

描述了用于在光刻设备中保持物体的各种凸节设计。光刻设备包括照射系统、第一支撑结构、第二支撑结构和投影系统。照射系统被设计成接收辐射并将辐射引导朝向形成图案化辐射的图案形成装置。第一结构被设计成将图案形成装置支撑在第一支撑结构上。第二支撑...

一种检查装置，包括光学系统，其被配置为向待测表面提供辐射的束并且从该表面接收重定向的辐射；以及检测系统，其被配置为测量重定向的辐射，其中光学系统包括用于处理辐射的光学元件，该光学元件包括被配置为产生辐射的减小的色偏的Mac Neille...

一种检查设备，包括：被配置为从具有正衍射级辐射和负衍射级辐射的量测目标接收衍射辐射的物镜；被配置为将衍射辐射分离成分别与多个不同值或类型的一个或多个辐射特性中的每个辐射特性相对应并且分别与正衍射级和负衍射级相对应的部分的光学元件；以及被...

使用研磨工具对物体保持件的支撑表面进行处理的方法，研磨工具包括用于定位在物体保持件上、并与物体保持件接触的基本平坦的表面，其中研磨工具的基本平坦的表面在基本平坦的表面的预定区域内具有选自约1nm Ra至约100nm Ra范围内的粗糙度、...

提供了一种用于光束指向监测和补偿的光学系统。根据实施例，一种光束指向监测和补偿系统包括表面等离激元共振(SPR)光学元件(800)。SPR光学元件包括具有第一表面(806)和第二表面(802)的光学元件(801)。光学元件的第一表面和第...

描述了用于清洁诸如卡盘的夹具的支撑件的方法和系统，卡盘的夹具保持光刻装置中的图案形成设备或晶片。该方法包括将静电清洁衬底装载到光刻装置中。静电清洁衬底包括至少一个电极。该方法还包括使静电清洁衬底靠近要被清洁的夹具表面，并且将电极连接到电...

提供减少污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性的设计，所述污染物粒子具有大范围的尺寸、材料、移动速度和入射角。根据本公开的一方面，提供包括第一腔室(403)和第二腔室(405)的物体平台(400)。所述物体平台还包括具有第一表面(415...

一种设计用于将图案形成装置耦接到具有多个突节的支撑结构的系统，包括照相机模块、致动器和控制器。照相机模块被设计成捕获图案形成装置的背面的图像数据。致动器被耦接到多个突节中的至少一个突节，并且被设计为移动所述至少一个突节。控制器被设计为接...

一种光刻设备包括被配置用于接收物体(402)的夹具(406)。夹具限定被配置用于在第一流体温度传递流体的至少一个通道(408)。光刻设备也包括耦合至夹具的卡盘(404)。卡盘(404)限定配置用于将卡盘与夹具热绝缘的至少一个孔洞(464)。

一种方法包括：使用来自组件的辐射照射产品测试衬底，其中产品测试衬底不具有经蚀刻的器件图案，并且在被照射时，产生非零灵敏度，非零灵敏度表示产品测试衬底的光学响应特性相对于辐射特性的变化的变化；测量由产品测试衬底重定向的辐射的至少一部分来确...

公开了为图案形成设备提供Z方向的支撑系统的系统和方法，该图案形成设备可以在对X和Y方向的行进和迟滞影响最小的条件下在高加速度和高减速度下工作。掩模版夹持系统包括支撑设备和保持设备。保持设备被配置为可释放地将掩模版耦合到支撑设备。保持设备...

一种方法包括：在器件图案化过程的第一器件光刻步骤之后，测量物体上的劣化的量测标记和/或与所述劣化的量测标记相关联的器件图案特征，所述劣化的量测标记至少部分地起因于所述物体上的所述第一器件光刻步骤；和在所述物体上的所述器件图案化过程的第二...

一种方法，包括在至少部分地位于装置内的同时在结构上印刷装置标记。该结构是衬底台的一部分或者位于衬底台上，但是与将由装置保持的衬底分离。使用装置内的传感器系统测量装置标记。

一种光刻设备可以包括具有第一电导体的固定框架和被配置为支撑物体的支撑结构。支撑结构可移动地耦合到框架并且具有第二电导体。光刻设备还可以包括将第一电导体电耦合到第二电导体的导电流体。

颗粒捕集器组件配置成减少具有较大范围的尺寸、材料、行进速度和入射角的污染物颗粒到达颗粒敏感环境的可能性。所述颗粒捕集器可以是位于光刻设备的静止零件与可移动零件之间的间隙几何颗粒捕集器。所述颗粒捕集器也可以是位于光刻或量测设备中的颗粒敏感...

用于量测设备的照射系统可以实现照射空间分布灵活性、高偏振消光比以及高对比度。照射系统包括偏振分束器(PBS)、照射模式选择器(IMS)和反射式空间光调制器(SLM)。PBS将照射束分成子束。IMS具有透射至少一个子束的多个孔径，且可以设...