掩模版夹持设备制造技术

公开了为图案形成设备提供Z方向的支撑系统的系统和方法，该图案形成设备可以在对X和Y方向的行进和迟滞影响最小的条件下在高加速度和高减速度下工作。掩模版夹持系统包括支撑设备和保持设备。保持设备被配置为可释放地将掩模版耦合到支撑设备。保持设备包括多个突节。掩模版夹持系统还包括被耦合到支撑设备的金属支撑系统。金属支撑系统提供从真空通道到保持设备的真空路径。

Mask clamping equipment

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】掩模版夹持设备相关申请的交叉引用本申请要求于2017年2月10日递交的美国临时专利申请No.62/457,269的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
本公开涉及可以用在例如光刻装置中的掩模版夹持设备。
技术介绍
光刻装置是将期望图案施加到衬底的目标部分的机器。例如，光刻装置可以用于集成电路(IC)的制造。在这种情况下，备选地被称为掩模或掩模版的图案形成设备可以被用来生成与IC的相应层相对应的电路图案，并且该图案可以被成像到具有辐射灵敏材料(抗蚀剂)层的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(包括一个或多个管芯的一部分)上。一般而言，单个衬底将包含成功曝光的相邻目标部分的网络。已知的光刻装置包括所谓的步进器和所谓的扫描器，其中，在步进器中通过一次将整个图案曝光到目标部分上来对每个目标部分进行辐照，并且在扫描器中通过利用给定方向(“扫描”方向)的光束对图案进行扫描，同时与该方向平行或反平行地对衬底进行扫描，来对每个目标部分进行辐照。为了提高扫描图案的生产率，以恒定速度跨投影透镜沿着扫描方向前后扫描图案形成设备。因此，从休息开始，掩模版快速加速以达到扫描速度，然后在扫描结束时，其快速减速到零，反转方向，并且在相反的方向加速以达到扫描速度。例如，加速度/减速度变化率是重力加速度的15倍。在扫描的恒定速度部分期间，掩模版上不存在惯性力。但是，在扫描的加速度和减速度部分期间会遇到的较大惯性力(例如，60牛顿＝0.4kg的掩模版质量x150m/sec2的加速度)会导致掩模版的滑移。这种滑移可能会在衬底上产生未对齐的设备图案。另外，掩模版通过使用多个支撑件来被约束在Z轴方向(即，重力方向)。这些支撑件的功能在于，在不影响X轴和Y轴的移动的同时，在Z方向定位掩模版。在一些配置中，Z支撑件使得必须使用粘合剂代替剩余的支撑结构(例如，卡盘)来固定保持掩模版的夹具。但是，使用粘合剂会导致显著的XY硬度和较大的迟滞问题。当利用粘合剂附接到夹具的Z支撑件经受XY剪应力时，在扫描的加速度和减速度部分期间会出现这种迟滞现象，其中，粘合剂在坚硬状态时展现出在XY方向的一定量的柔韧性和迟滞。另外，当这些Z支撑件具有非零硬度因子时，它们还在周围区域中的夹具和掩模版的界面处生成高压力点，从而导致微滑移和相应的套刻问题。
技术实现思路
因此，需要为图案形成设备提供在Z方向的支撑系统的方法和系统，该图案形成设备在对X和Y方向的行进和迟滞影响最小的条件下，在高加速度和高减速度下工作。根据一个实施例，一种掩模版夹持系统包括支撑设备和保持设备。保持设备被配置为将掩模版可释放地耦合到支撑设备。保持设备包括多个突节。掩模版夹持系统还包括被耦合到支撑设备的金属支撑系统。金属支撑系统提供从真空通道到保持设备的真空路径。在另一实施例中，一种光刻装置包括：照射光学系统，被配置为照射图案形成设备的图案；以及投影系统，被配置为将图案的图像投影到衬底的目标部分。该装置还包括掩模版夹持系统。掩模版夹持系统包括支撑设备和保持设备。保持设备被配置为将掩模版可释放地耦合到支撑设备。保持设备包括多个突节。掩模版夹持系统还包括被耦合到支撑设备的金属支撑系统。金属支撑系统提供从真空通道到保持设备的真空路径。在又一实施例中，一种用于支撑图案形成设备的方法包括：使用多个突节将图案形成设备保持在保持设备上；以及使用支撑设备支撑保持设备。该方法还包括：通过金属支撑系统提供从真空通道到保持设备的真空路径。附图说明并入本文中并且形成本说明书的一部分的附图示出了本公开，并且与本说明书一起进一步用于说明本公开的原理，并且进一步使得本领域技术人员能够做出并使用本公开。图1A是根据本公开的一个实施例的反射光刻装置的示意图。图1B是根据本公开的一个实施例的透射光刻装置的示意图。图2是根据本公开的一个实施例的反射光刻装置的更详细示意图。图3是根据本公开的一个实施例的光刻单元的示意图。图4是根据本公开的一个实施例的掩模版夹持系统的示意图。图5是根据本公开的一个实施例的包括支撑系统的掩模版夹持系统的截面图的示意图。图6A和图6B是根据本公开的一个实施例的保持设备的俯视图的示意图。图6C和图6D是根据本公开的一个实施例的第二支撑设备部分的俯视图的示意图。图7A和图7B分别是根据本公开的一个实施例的外环的俯视图和仰视图的示意图。图8A和图8B分别是根据本公开的一个实施例的保持器的俯视图和侧视图的示意图。图9A和图9B是根据本公开的一个实施例的柱状物的侧视图的示意图。图10A是根据本公开的一个实施例的结合外环、保持器、以及柱状物的支撑系统的示意图。图10B是根据本公开的一个实施例的包括外环、保持器、以及柱状物的支撑系统的侧视图的示意图。图11是根据本公开的一个实施例的包括可渗漏密封件的掩模版夹持系统的截面图的示意图。结合附图根据下面阐述的详细描述，本公开的特征和优点将变得更加明显，其中，贯穿说明书相同的参考标号标识对应的元件。在附图中，相同的参考标号一般指示等同、功能类似和/或结构类似的元件。元件第一次出现在其中的附图由对应参考标号中最左侧的数字来指示。除非有相反的指示，否则贯穿本公开提供的附图不应该被理解为缩放附图。具体实施方式本说明书公开了合并本公开的特征的一个或多个实施例。所公开的(多个)实施例仅仅例示了本公开。本公开的范围不限于所公开的(多个)实施例。本公开由所附的权利要求限定。所描述的(多个)实施例以及本说明书中对“一个实施例”、“实施例”、“示例实施例”等的引用指示所描述的(多个)实施例可以包括特定特征、结构、或特性，但是并不一定每个实施例都包括该特定特征、结构、或特性。另外，这些短语不一定指代相同的实施例。另外，当结合实施例描述特定特征、结构、或特性时，应该理解的是，结合其他实施例实现这种特征、结构、或特性落在本领域技术人员的认知中(不管是否明确描述)。但是，在更详细地描述这些实施例之前，给出可以实现本公开的实施例的示例环境是有教导意义的。图1A和图1B分别是可以实现本公开的实施例的光刻装置100和光刻装置100’的示意图。光刻装置100和光刻装置100’均包括：照射系统(照射器)IL，被配置为调整辐射束B(例如，深紫外线或极紫外线辐射)；支撑结构(例如，掩模台)MT，被配置为支撑图案形成设备(例如，掩模、掩模版、或动态图案形成设备)MA并且被连接到第一定位器PM，该第一定位器PM被配置为精确定位图案形成设备MA；以及衬底台(例如，晶片台)WT，被配置为保持衬底(例如，抗蚀涂层晶片)W并且被连接到第二定位器PW，该第二定位器PW被配置为精确定位衬底W。光刻装置100和100’还具有投影系统PS，该投影系统PS被配置为通过图案形成设备MA将赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分(例如，包括一个或多个管芯)C。在光刻装置100中，图案形成设备MA和投影系统PS是反射型的。在光刻装置100’中，图案形成设备MA和投影系统PS是透射型的。照射系统IL可以包括各种类型的光学部件，例如，折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型、静电型、或其他类型的光学部件、或它们的任意组合，以用于引导、成形、或控制辐射束B。支撑结构MT以取决于以下的方式来保持图案形成设备MA：图案形成设备MA相对于基准架的取向、光刻装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模版夹持系统，包括：支撑设备；保持设备，被配置为将掩模版可释放地耦合到所述支撑设备，其中所述保持设备包括多个突节；以及金属支撑系统，被耦合到所述支撑设备，并且被配置为提供从真空通道到所述保持设备的真空路径。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.02.10 US 62/457,2691.一种掩模版夹持系统，包括：支撑设备；保持设备，被配置为将掩模版可释放地耦合到所述支撑设备，其中所述保持设备包括多个突节；以及金属支撑系统，被耦合到所述支撑设备，并且被配置为提供从真空通道到所述保持设备的真空路径。2.根据权利要求1所述的掩模版夹持系统，其中所述支撑设备包括：第一支撑设备部分，被耦合到所述保持设备；以及第二支撑设备部分，被耦合到所述第一支撑设备部分。3.根据权利要求2所述的掩模版夹持系统，还包括：支撑传输设备，被耦合到所述第二支撑设备部分，其中所述第二支撑设备部分包括所述真空通道。4.根据权利要求1所述的掩模版夹持系统，还包括：第二保持设备，被配置为将所述掩模版可释放地耦合到第二支撑设备，其中所述第二保持设备包括第二多个突节。5.根据权利要求1所述的掩模版夹持系统，还包括：第二金属支撑系统，被耦合到所述第二支撑设备，并且被配置为提供到所述第二保持设备的真空路径。6.根据权利要求5所述的掩模版夹持系统，还包括：第三金属支撑系统，被耦合到所述第二支撑设备，其中所述第三金属支撑系统与所述第二金属支撑系统间隔开，并且所述第二金属支撑系统和所述第三金属支撑系统中的每个金属支撑系统被配置为提供到所述第二保持设备的所述真空路径。7.根据权利要求1所述的掩模版夹持系统，其中所述金属支撑系统包括保持器和柱状物，所述柱状物被耦合到所述保持器。8.根据权利要求7所述的掩模版夹持系统，其中所述保持器被耦合到所述支撑设备，并且所述柱状物被耦合到所述保持设备。9.根据权利要求1所述的掩模版夹持系统，其中所述保持设备还包括位于所述保持设备的边缘处的密封件。10.根据权利要求9所述的掩模版夹持系统，其中所述密封件的高度小于所述多个突节的高度，使得当所述掩模版接触所述多个突节的上表面时，所述掩模版不接触所述密封件的上表面。11.根据权利要求1所述的掩模版夹持系统，其中所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：E·佐丹，B·A·埃文斯，D·N·伯班克，A·R·巴赫蒂，S·A·内费，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL