一种量测系统，包括：辐射源，所述辐射源被配置成产生多个光束，每个光束以不同波长为中心；动态偏振控制器，所述动态偏振控制器被配置成动态地交替所述多个光束中的每个光束的偏振取向；偏振多路复用器，所述偏振多路复用器被配置成将具有动态交替的偏振...

一种对准方法，包括：将具有变化的波长或频率的照射束引向对准目标，从对准目标收集衍射束并引向干涉仪。对准方法还包括通过干涉仪从衍射束产生两个衍射子束，其中衍射子束被正交偏振、围绕对准轴相对于彼此旋转180度，并且在空间上重叠。对准方法还包...

本发明提供一种传感器设备，所述传感器设备包括照射系统、检测器系统和处理器。所述照射系统被配置成沿照射路径传输照射束，并且包括可调式光学器件。所述可调式光学器件被配置成朝向被设置为与所述照射系统相邻的衬底上的衍射目标传输所述照射束。所述传...

公开了一种图案形成装置和使用该图案形成装置进行图案化的辅助衬底，该图案形成装置用于将产品结构图案化到衬底上。该图案形成装置包括目标图案化元件，其用于图案化至少一个目标，从至少一个目标能够推断感兴趣参数。目标图案化元件和用于图案化产品结构...

一种图案形成装置对准系统，包括多路径感测阵列，该多路径感测阵列包括第一准直光路和一个或多个其他光路，第一检测器位于第一准直光路的第一端处，第二检测器位于一个或多个其他光路第一端处。第一检测器从被照射的图案形成装置接收经反射的照射束并且对...

一种用于对准传感器设备的自参考干涉仪(SRI)系统，包括第一棱镜和第二棱镜。所述第一棱镜具有用于入射束的输入表面。所述第二棱镜被耦合至所述第一棱镜并且具有用于经重新组合的束的输出表面。所述经重新组合的束包括第一图像和相对于所述第一图像被...

公开了一种静电夹具及其制造方法。静电夹具包括第一堆叠和第二堆叠，其中第一堆叠与第二堆叠接合。第一堆叠和第二堆叠中的每个堆叠包括：夹具主体；一个或多个电极，设置在夹具主体上；电介质板，设置在一个或多个电极上；以及在夹具主体的内部的多个通道...

本公开涉及一种用于操纵沿光学路径行进的辐射束的补偿器。补偿器包括保持第一光楔的固定支撑件和保持第二光楔的可调节支撑件。可调节支撑件包括基座、保持第二光楔的平台、第一挠性件和第二挠性件以及驱动块。平台限定腔体并且相对于基座和固定支撑件可移...

一种用于保护掩模版的缓冲器装置包括基础结构、第一细长元件和第二细长元件、接触件和恢复元件。第一细长元件和第二细长元件每个包括远端和近端。第一元件和第二元件的近端附接到基础结构。接触件设置在第一细长元件和第二细长元件的远端的端部处。第一细...

本文中的实施例描述了用于为物体提供支撑的方法和安全装置。一种安全装置包括具有驱动电机的驱动侧、以及从动侧。安全装置的从动侧包括外壳和安全闩锁，该外壳具有沿着外壳的长度延伸的旋转轴。从动侧经由旋转轴的第一端处的非接触式磁耦合装置被耦合到驱...

一种制作衬底台的方法包括：支撑台座，以接收涂层，并且将所述涂层设置在台座的表面上。台座的表面是实质上平坦的。涂层具有不均匀的厚度。涂层在台上施加应力以使台座弯曲。所述不均匀厚度使涂层的表面在弯曲之后变得实质上平坦。实质上平坦。实质上平坦。

用于测量衬底上的对准标记的参数的装置和方法，其中光学系统被布置为接收来自对准标记的至少一个衍射阶次并且衍射阶次在光学系统的光瞳、晶片共轭平面处被调制，固态光学设备被布置为接收调制的衍射阶次，并且光谱仪被布置为从固态光学设备接收调制的衍射...

一种用于去除物体的一部分的装置包括平台、量测设备、材料去除装置和致动器。量测设备包括辐射源、光学系统和检测器。材料去除装置包括细长元件和在细长元件的端部处的尖锐元件。平台支撑物体。辐射源生成辐射。光学系统将辐射指向物体的该部分。检测器接...

一种光刻设备，包括照射系统、投影系统、平台、电机、热控制系统和控制器。所述照射系统照射图案形成装置的图案。所述投影系统将所述图案的图像投影至衬底上。所述平台支撑所述图案形成装置或所述衬底。所述电机移动所述平台。所述热控制系统调节所述电机...

一种用以降低被布置成测量衬底的高度的水平传感器对于所述水平传感器中的光学部件的性质的变化的灵敏度的方法，包括：朝向衍射元件引导辐射的束；和经由光学系统，以第一入射角将所述束引导至第一反射元件。所述束具有第一偏振和垂直于所述第一偏振的第二...

一种用于支撑衬底的静电夹具包括衬底区域、在衬底区域的边缘处的电极区域、支撑层、导电层、接触层和电极。支撑层具有本体，该本体具有基本上彼此平行并且设置在本体的相对侧的第一表面和第二表面。通孔被设置在电极区域中并且在第一表面与第二表面之间提...

一种对准方法，包括：引导具有第一偏振态的照射束以形成来自对准目标的、具有第二偏振态的衍射束；和使所述衍射束传递通过偏振分析器。所述对准方法还包括：测量所述衍射束的偏振态；和根据所测量的偏振态，相对于其初始偏振态来确定所述对准目标的部位。...

一种设备，包括第一基板、第二基板和设置在所述第一基板与所述第二基板之间的中间层。所述中间层被配置成作为在所述设备受到外力的情况下的第一失效点或破损点。所述设备还可以包括设置在所述第一基板与所述第二基板之间的结合层。所述结合层被配置成将所...

一种量测系统(400)包括：被配置为生成辐射(413)的辐射源(412)、被配置为将辐射(415)导向包括非恒定节距的光栅结构(418)的光学元件(414)，以及被配置为接收由光栅结构散射的辐射(429)并且基于所接收的辐射生成测量的检...

一种光刻装置，包括：照射系统，用以产生辐射光束；支撑件，用以支撑图案形成设备以在所述光束上赋予图案；投影系统，用以将图案化的光束投影到衬底(520)上；以及，量测系统(500)，其包括：辐射源(512)，用以产生辐射(513)；光学元件...