The irradiation system used for measuring equipment can realize the flexibility of irradiation spatial distribution, high polarization extinction ratio and high contrast. The irradiation system includes polarization beam splitter (PBS), irradiation mode selector (IMS) and reflective spatial light modulator (SLM). PBS divides the irradiation beam into sub-beams. IMS has multiple apertures that transmit at least one sub-beam and can be set in multiple irradiation positions corresponding to the irradiation mode. The pixel array of reflective SLM will be reflected back to IMS and PBS by part of the transmitted beam from IMS. PBS, IMS and SLM together produce the spatial distribution of complex amplitude or intensity of the transmissive beam.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于套刻中光瞳照射的方法和装置以及临界尺寸传感器相关申请的交叉引用本申请要求享有2016年6月30日提交的美国临时专利申请NO.62/357,108的优先权,并且该申请在此通过全文引用的方式并入本文。
本公开涉及用于例如在由光刻技术制造器件中半导体晶片量测的方法和设备。
技术介绍
光刻设备是施加所期望图案至衬底、一般至衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以例如用于集成电路(IC)的制造。在该情形中,备选地称作掩模或刻线板的图案化装置可以用于产生将要形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以转移至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括一个或数个管芯的一部分)上。图案的转移一般是经由成像至提供在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。一般,单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。在光刻工艺(也即包括光刻曝光的显影器件或其他结构的工艺,其可以一般包括一个或多个相关联步骤诸如抗蚀剂的显影、蚀刻等)中,频繁地期望进行所产生结构的测量,例如用于工艺控制和验证。用于进行该测量的各种工具是已知的,包括一般用于测量临界尺寸(CD)的扫描电子显微镜(SEM),以及用以测量重叠(OV)(也即器件中两层的对准精确度)的专用工具。近期,已经发展了各种形式散射仪用于光刻领域。这些装置引导辐射束至目标上并测量被散射的辐射的一个或多个特性—例如取决于波长的、在单个角度或反射角范围处的强度;作为取决于反射角的、在一个或多个波长下的强度;或者取决于反射角的偏振—以获得可以由此确定目标的感兴趣特性的“频谱”。感兴趣特性的确定可以由各种技术执行:例如由迭代方案诸如严格耦合波分析或有限元方法对目 ...
【技术保护点】
1.一种量测系统,包括:偏振分束器(PBS),被配置用于将照射束分成第一子束和第二子束;照射模式选择器(IMS),具有多个孔径,每个孔径被配置用于透射所述第一子束或所述第二子束,并且所述IMS被配置用于被设置在多个照射位置,所述多个照射位置中的每个照射位置对应于照射模式;以及反射式空间光调制器(SLM),具有像素阵列,所述像素阵列被配置用于修改所述第一子束和所述第二子束的空间分辨的束特性,并沿着返回路径将所述第一子束和所述第二子束中的任一子束或两者反射回至所述IMS和所述PBS,其中,沿着所述返回路径,所述PBS、所述IMS和所述SLM协作以控制至少所述第一子束或所述第二子束的复波幅或强度空间分布;物镜投影系统,被配置用于从所述IMS和所述PBS接收所述第一子束和所述第二子束,并且引导所述第一子束和所述第二子束朝向其上具有目标结构的衬底;以及检测器,被配置用于接收所述目标结构的图像或衍射图像。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.06.30 US 62/357,1081.一种量测系统,包括:偏振分束器(PBS),被配置用于将照射束分成第一子束和第二子束;照射模式选择器(IMS),具有多个孔径,每个孔径被配置用于透射所述第一子束或所述第二子束,并且所述IMS被配置用于被设置在多个照射位置,所述多个照射位置中的每个照射位置对应于照射模式;以及反射式空间光调制器(SLM),具有像素阵列,所述像素阵列被配置用于修改所述第一子束和所述第二子束的空间分辨的束特性,并沿着返回路径将所述第一子束和所述第二子束中的任一子束或两者反射回至所述IMS和所述PBS,其中,沿着所述返回路径,所述PBS、所述IMS和所述SLM协作以控制至少所述第一子束或所述第二子束的复波幅或强度空间分布;物镜投影系统,被配置用于从所述IMS和所述PBS接收所述第一子束和所述第二子束,并且引导所述第一子束和所述第二子束朝向其上具有目标结构的衬底;以及检测器,被配置用于接收所述目标结构的图像或衍射图像。2.根据权利要求1所述的量测系统,其中,所述反射式SLM位于照射光瞳面中或其附近。3.根据权利要求2所述的量测系统,其中,所述IMS位于所述照射光瞳面中或其附近。4.根据权利要求2所述的量测系统,其中,所述IMS位于与所述照射光瞳面实质上光学共轭的平面中或其附近。5.根据权利要求1所述的量测系统,其中,所述反射式SLM和所述IMS被设置为使得所述IMS的多个孔径中的至少一个孔径叠置在所述反射式SLM上的对应的空间分布图案之上。6.根据权利要求1所述的量测系统,其中,所述PBS被夹设在两个六面体光学棱镜之间。7.根据权利要求1所述的量测系统,其中,所述PBS被夹设在形成分束立方体的两个光学棱镜之间。8.根据权利要求1所述的量测系统,其中,所述PBS被并入在单体光学棱镜中。9.根据权利要求8所述的量测系统,进一步包括在所述单体光学棱镜的表面处的受抑全内反射(FTIR)元件,所述FTIR元件被配置用于可选地快门开关所述第一子束或所述第二子束。10.根据权利要求1所述的量测系统,进一步包括控制器,所述控制器被配置用于通过将所述IMS定位在所期望位置并且在所述反射式SLM上产生对应的空间分布图案,来设置所述照射模式。11.根据权利要求10所述的量测系统,其中,所述IMS的所述多个孔径具有预定形状,并且所述对应的空间分布图案...
【专利技术属性】
技术研发人员:Y·K·斯玛雷弗,M·F·A·厄尔林斯,
申请(专利权)人:ASML控股股份有限公司,ASML荷兰有限公司,
类型:发明
国别省市:荷兰,NL
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