本技术公开了一种可快速定位的车规级功率器件加工夹持装置，包括底座、调节机构、第二连接轴和承载台，底座的上侧放置有工作台；所述调节机构设置在底座的内部，且调节机构包括调节板、齿轮、第一连接轴和第一电机，其中调节板左右对称的滑动连接在底座的...

本发明涉及碳化硅MOSFET器件制造领域，公开了一种碳化硅沟槽型MOSFET器件及制备工艺；S1提供具有第一表面和第二表面的半导体衬底；S2在第一表面形成外延层；S3外延层沉积第一氧化层；S4第一氧化层光刻形成凹槽；S5以凹槽为基准进行...

本实用新型公开了一种防偏移的车规级功率器件IGBT模块用检测装置，包括检测装置本体、用于承载的底座和焊接在所述底座左上端且用于支撑的固定柱，安装柱，所述安装柱转动连接在固定柱的上端，且安装柱通过连接柱和连接盘用于对功率器件IGBT模块进...

本实用新型公开了一种避免偏移的车规级功率器件IGBT用输送装置，包括底板、尼龙钩带、收集机构和连接盘，底板的上端固定连接有安装架，并且安装架的上内端转动连接有传送带；所述尼龙钩带呈等间距的固定连接在传送带的外端，且尼龙钩带的外端粘贴连接...

本实用新型涉及半导体芯片加工设备技术领域，且公开了一种半导体芯片加工用夹具，包括两个L形固定板，两个所述L形固定板相对的一侧均开设有圆孔，且圆孔的孔壁固定连接有滚动轴承，其中一个所述滚动轴承的内壁固定连接有转杆，另一个所述滚动轴承的内壁...

本申请涉及半导体加工技术领域，且公开了一种半导体加工用冷却设备，包括底座，所述底座的上端固定连接有多根支撑柱，多根所述支撑柱的上端固定连接有同一个托板，所述托板的上端一侧固定连接有升降机构，所述升降机构上固定套接有固定管，所述固定管的下...

本实用新型公开一种半导体芯片生产用浸蚀装置，包括箱体，所述箱体左端上侧设有用于液体输入的进水管，所述箱体右端下侧设有用于废液排放的控制阀排污管，通过防护盖向下旋转，就会使得缆绳向下移动，也会使得伸缩杆进行伸长工作，从而带动凹槽固定座向下...

本实用新型公开一种半导体生产加工用清洗装置，包括超声波清洗机，所述超声波清洗机的下表面四角固定连接有用于支撑工作和防滑工作的支撑底脚，所述超声波清洗机的排污口安装有用于控制排污工作的控制阀排污管，所述超声波清洗机的进水口安装有用于连接外...

本实用新型涉及高炉技术领域，且公开了一种高炉冷却管组件，包括冷却管，冷却管的左右两侧均设置有壳体，壳体相对的一侧的侧壁均开设有开口，冷却管的两端均延伸至壳体的内部，两个壳体的开口下侧内沿均固定连接有竖直的支撑板，两个壳体的开口上侧内沿均...

本实用新型公开一种半导体生产用切割装置，其包括：外框，所述外框底部固定有U型框，所述U型框的内部开设有传动槽，所述传动槽的内部设置有夹紧机构，当待切割的半导体物体放置于放置台上时，启动第三电动液压器，第三电动液压器中的液压杆伸出，带动第...

本实用新型提供一种半导体芯片高精度测试探针墨水器，包括探针组件，探针组件包括墨管、线圈以及支架，墨管上端向内凹陷有容墨腔，墨管下端设有与容墨腔连通的导管，线圈设于墨管上方，线圈和墨管之间设有便于向容墨腔内加墨的空间，线圈上方设有与线圈配...

本实用新型公开了一种机台防过腐装置，其技术方案要点是：包括工作腔，所述工作腔上部安装有气泵腔和控制器，所述气泵腔上安装有气泵电机，所述气泵电机通过输风管连接有电磁阀，所述工作腔内安装有横杆和竖杆，所述横杆的顶部连接有连接管，所述横杆和所...

本实用新型公开了一种真空吸笔，其技术方案要点是：包括握持部和控制器，所述握持部一端设有外接部，所述握持部的另一端通过连接部和鹅颈管连接吸盘，所述握持部内设有真空气管，所述真空气管的一侧连接有细吸管，所述真空气管内安装有压力传感器，所述细...

本实用新型公开了一种基于光电的片子检测机，其技术方案要点是：包括检测机框架，所述检测机框架上表面安装有控制设备，所述检测机框架的内部上端安装有光电检测器，所述光电检测器的底部安装有第一检测头、第二检测头和第二接收头，所述检测机框架的底部...

本实用新型提供一种硅片用湿法腐蚀装置，硅片由优弧段和直线段组成，所述装置包括支架和壳体，壳体内设有腐蚀药液，所述壳体上设有腐蚀药液循环组件，所述支架浸没于腐蚀药液内，所述支架内沿长度方向间隔设有若干与硅片配合的插槽，所述硅片竖直设于所述...

本实用新型公开一种晶片平边去胶装置，包括清洗仓、清洗液喷头、气体喷头、导轨和驱动机构；导轨的一端转动连接在清洗仓上；清洗液喷头和气体喷头连接在驱动机构上；驱动机构连接在导轨上，且驱动机构用于驱动清洗液喷头和气体喷头沿导轨的长度方向移动；...

本发明公开一种背面金属化金共晶工艺，包括如下步骤：(1)贴膜：在硅片正面贴保护膜；(2)修膜：沿硅片边缘将保护膜修整齐；(3)背面减薄：通过减薄设备将硅片的背面减薄；(4)背面腐蚀：将减薄后的硅片置于腐蚀槽中并加入腐蚀液进行腐蚀，腐蚀后...

本实用新型涉及一种涂胶设备加液装置，包括储存箱、第一输液管、隔板、第二输液管、补料管、螺纹盖、第一胶泵、第一球阀、第一弯管、主管、支撑固定架、第二弯管、第二球阀、第二胶泵、波纹软管、螺纹管、固定圆板、出料嘴、内螺纹管、出料管和橡胶管。本...

本实用新型公开了一种可防漏的光刻机丝杆冷却系统，属于机床配件技术领域，包括一个闭环循环系统，其特征在于，所述闭环循环系统中设有电磁阀，所述电磁阀连有漏液传感器，所述漏液传感器的位置低于所述闭环循环系统。本实用新型能够及时有效检知漏液，警...

本实用新型公开了一种可防止颗粒产生的光刻机版库，属于掩模版盒存放机构包括垂直方向平行设置的若干金属支架，相邻两个金属支架相对方向对应设置若干卡子，所述卡子包括上卡子和下卡子，所述上卡子和下卡子之间形成容纳空间，所述容纳空间两侧对应的金属...