化合物制造技术

技术编号:7139948 阅读:235 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及取代嘧啶衍生物及其N-氧化物和农业上可接受的盐、以及它们在控制尤其有用植物作物中的不希望有的植物生长中的用途。本发明专利技术还涉及除草组合物,其包含此类化合物、其N-氧化物和/或盐、和其与一种或多种其它活性成分(例如除草剂、杀真菌剂、杀虫剂和/或植物生长调节剂)和/或安全剂的混合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化合物本专利技术涉及新颖的取代嘧啶衍生物及其N-氧化物和农业上可接受的盐、以及它 们在控制尤其有用植物作物中的不希望有(imdesired)的植物生长中的用途。本专利技术还涉 及除草组合物,其包含此类化合物、其N-氧化物和/或盐、和其与一种或多种其它活性成分 (例如除草剂、杀真菌剂、杀虫剂和/或植物生长调节剂)和/或安全剂的混合物。大量的取代的嘧啶衍生物为本领域所已知。例如,WO 2007/083692公开氨基嘧啶 衍生物,其中尤其嘧啶环的2位被任选取代的咪唑环取代。此类化合物是杀真菌剂,并用 作植物病害控制剂。另外,国际专利出版物NO.W02005/063721中公开了取代嘧啶衍生物 及其作为除草剂的用途,所述取代嘧啶衍生物在嘧啶环的2位上包含任选取代的环丙基或 任选取代的苯基,且尤其在嘧啶环的6位上包含硝基或任选取代的氨基。国际专利出版物 No. W02007/082076公开了许多2-(多取代的芳基)-6-氨基-5-卤代-4-嘧啶羧酸及其作 为除草剂的用途,而国际专利出版物No. WO 2007/092184公开了作为能够改进作物的收成 的化合物的某些取代嘧啶羧酸衍生物。部分地,由于耐受除草剂的杂草种群的进化以及耐受除草剂的作物变成自生杂 草,对于尤其在有用植物的作物中的此类不希望有的植物生长的控制存在着持续需求。其 它因素,例如对更便宜、更有效的除草剂以及具有改进的环境特性(profile)(例如更安 全、毒性更低等)的除草剂的需求也驱动了对鉴定新颖除草化合物的需求。本专利技术以如下发现为基础某些取代嘧啶衍生物,尤其在嘧啶环的2位上包含5-6 元杂芳族环作为取代基的那些取代嘧啶衍生物是特别良好的除草化合物。因此在第一方面,本专利技术提供了控制植物生长(尤其不希望有的植物生长)的方 法,其包括将式(I)化合物施用于所述植物(尤其所述不希望有的植物) 其中A是含有1-4个杂原子且任选被1-4个基团R1取代的5元或6元杂芳族环,其中所述一个或多个杂原子选自0、N和S,条件是所述杂芳族环含有仅仅一个0或一 个S原子;各R1独立地是卤素、氰基、硝基、叠氮基、羟基、任选被一个或多个Ra取代的烷 基、任选被一个或多个Rb取代的烯基、任选被一个或多个Re取代的炔基、任选被一个或多 个 Rd 取代的环烷基、0Raa、S (0) aRbb、C (0) Rcc, NRddRee, SiRffRggRhh, P (0) RiiRjj 或 B (ORkk) (ORll);或者2个相邻的R1基团与它们所连接的原子一起形成5-7元环,所述环任选含有1或2个 选自0、S和N的杂原子,且任选被1-4个基团R3取代;各R3独立地是卤素;氰基;硝基; 羟基;任选被一个或多个Ra取代的烷基;任选被一个或多个Rb取代的烯基;任选被一个或多个Re取代的炔基;任选被一个或多个Rd取代的环烷基;ORaa ;S(O)aRbb ;C(O) Rcc ;NRddRee ;SiRffRggRhh ;P (0) RiiRjj ;或 B (ORkk) (ORll);或者任何两个偕位基团(geminal groups) R3 一起形成选自氧代、=CRmmRnn, = NOR00和=NNRppRqq的基团;各Ra独立地是卤素、氰基、硝基、 羟基、环烷基、0『\3(0)乂1\((0)扩或NRddRee ;各Rb独立地是滷素、氰基、硝基、羟基、烷氧 基、S (0) 2Rbb、C (0) Rcc 或 P (0) RiiRjj ;各 Rc 独立地是卤素、氰基、烷氧基、S (0) 2Rbb、C (0) Rcc 或 SiRffRggRhh ;各Rd独立地是卤素、氰基、硝基、羟基、烷基、烯基、炔基、环烷基、烷氧基、S (0) ^^或C (O)IT ;各Raa独立地是烷基、商代烷基、烷氧基烷基、环烷基烷基、烯基、商代烯基、 炔基、商代炔基、环烷基、烷基羰基、商代烷基羰基、烷氧基羰基、商代烷氧基羰基、烷基磺酰 基、卤代烷基磺酰基、氨基羰基、烷基氨基羰基、二烷基氨基羰基、烷基亚氨基或二烷基亚氨 基;a是选自0、1和2的整数;各Rbb独立地是烧基、卤代烷基、烷氧基烷基、烯基、卤代烯 基、炔基、商代炔基、环烷基或烷基羰基氨基;Rcx是氢、羟基、烷基、商代烷基、烷氧基烷基、 烯基、商代烯基、炔基、商代炔基、环烷基、烷氧基、商代烷氧基、烷氧基烷氧基、芳基烷氧基、 环烷氧基、氨基、烷基氨基、二烷基氨基或烷基磺酰基氨基;Rdd是氢、烷基、商代烷基、烷氧 基烷基、烯基、商代烯基、炔基、商代炔基、环烷基、烷基羰基、商代烷基羰基、烷氧基羰基、卤 代烷氧基羰基、烷基磺酰基、商代烷基磺酰基、氨基羰基、烷基氨基羰基或二烷基氨基羰基; Ree是氢、烷基、商代烷基、烷氧基烷基、烯基、商代烯基、炔基、商代炔基或环烷基;或者Rdd 和IT与它们所连接的N原子一起形成任选含有一个选自0、N和S的其它杂原子的4-6元 环,所述环任选被1-4个选自以下的基团取代商素、烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基 和氧代;Rff、Rgg和Rhh各自独立地是烷基或卤代烷基;Rii是烷基、卤代烷基、烷氧基或卤代烷 氧基;沪是烷氧基或卤代烷氧基;Rkk和俨各自独立地是氢或烷基;或者Rkk和俨与它们所 连接的0原子和B原子一起形成任选被1-4个烷基取代的5元杂环或6元杂环;Rnm是氢、 卤素、氰基、硝基、烷基、商代烷基、烷氧基烷基、环烷基、烷基羰基、商代烷基羰基、烷氧基羰 基、卤代烷氧基羰基、烷基磺酰基、商代烷基磺酰基、氨基羰基、烷基氨基羰基或二烷基氨基 羰基;Rm是氢、商素、氰基、硝基、烷基、商代烷基、烷基羰基、商代烷基羰基、烷氧基羰基、 卤代烷氧基羰基、烷基磺酰基、商代烷基磺酰基、氨基羰基、烷基氨基羰基或二烷基氨基羰 基;R°°是氢、烷基、商代烷基、烷氧基烷基、环烷基、烷基羰基、商代烷基羰基、烷氧基羰基、 卤代烷氧基羰基、氨基羰基、烷基氨基羰基或二烷基氨基羰基;Rpp是氢、烷基、商代烷基、 烷氧基烷基或环烷基;Rm是氢、烷基、商代烷基、烷基羰基、商代烷基羰基、烷氧基羰基、氨 基羰基、烷基氨基羰基或二烷基氨基羰基;或者Rpp和Rtw与它们所连接的氮一起形成5元 或6元任选取代的环,所述环任选含有选自0、S和N的其它杂原子,所述一个或多个取代 (substitution (s))选自卤素和烷基;X是硝基、叠氮基、卤素、任选取代的烷氧基、任选取 代的氨氧基或NR5R6,其中R5是氢;任选取代的烷基,条件是所述取代(substitution)不包 括环体系;甲酰基;任选取代的烷基羰基,条件是所述取代不包括芳基结构部分(moiety); 任选取代的环烷基羰基;任选取代的烯基羰基;任选取代的炔基羰基;任选取代的苯基羰 基;任选取代的杂芳基羰基;任选取代的氨基羰基;任选取代的烷氧基羰基;任选取代的烷 基磺酰基;任选取代的环烷基磺酰基;任选取代的烯基磺酰基;任选取代的炔基磺酰基;任 选取代的苯基磺酰基;任选取代的氨基;羟基;任选取代的烷氧基;任选取代的环烷氧基; 任选取代的烷基羰基氧基;任选取代的烷氧基羰基氧基;任选取代的氨基羰基氧基;任选 取代的苯氧基;任选取代的烯基,条件是所述取代不包括环体系;任选取代的炔基,条件是 所述取代不包括环体系;N本文档来自技高网...

【技术保护点】
控制不希望有的植物生长的方法,其包括将式(Ⅰ)化合物或其盐或N氧化物施用于所述不希望有的植物:***(Ⅰ)其中:A是含有1-4个杂原子且任选被1-4个基团R↑[1]取代的5元或6元杂芳族环,其中所述一个或多个杂原子选自O、N和S,条件是所述杂芳族环含有仅仅一个O或一个S原子;各R↑[1]独立地是:卤素、氰基、硝基、叠氮基、羟基、任选被一个或多个R↑[a]取代的烷基、任选被一个或多个R↑[b]取代的烯基、任选被一个或多个R↑[c]取代的炔基、任选被一个或多个R↑[d]取代的环烷基、OR↑[aa]、S(O)↑[a]R↑[bb]、C(O)R↑[cc]、NR↑[dd]R↑[ee]、S↑[i]R↑[ff]R↑[gg]R↑[hh]、P(O)R↑[ii]R↑[jj]或B(OR↑[kk])(OR↑[LL]);或者2个相邻的R↑[1]基团与它们所连接的原子一起形成5-7元环,所述环任选含有1或2个选自O、S和N的杂原子,且任选被1-4个基团R↑[3]取代;各R↑[3]独立地是:卤素;氰基;硝基;羟基;任选被一个或多个R↑[a]取代的烷基;任选被一个或多个R↑[b]取代的烯基;任选被一个或多个R↑[c]取代的炔基;任选被一个或多个R↑[d]取代的环烷基;OR↑[aa];S(O)↓[a]R↑[bb];C(O)R↑[cc];NR↑[dd]R↑[ee];S↑[i]R↑[ff]R↑[gg]R↑[hh];P(O)R↑[ii]R↑[jj];B(OR↑[kk])(OR↑[LL]);或者任何两个偕位基团R↑[3]一起形成选自氧代、=CR↑[mm]R↑[nn]、=NOR↑[oo]和=NNR↑[pp]R↑[qq]的基团;各R↑[a]独立地是:卤素、氰基、硝基、羟基、环烷基、OR↑[aa]、S(O)↓[a]R↑[bb]、C(O)R↑[cc]或NR↑[dd]R↑[ee];各R↑[b]独立地是:卤素、氰基、硝基、羟基、烷氧基、S(O)↓[2]R↑[bb]、C(O)R↑[cc]或P(O)R↑[ii]R↑[jj];各R↑[c]独立地是:卤素、氰基、烷氧基、S(O)↓[2]R↑[bb]、C(O)R↑[cc]或S↑[i]R↑[ff]R↑[gg]R↑[hh];各R↑[d]独立地是:卤素、氰基、硝基、羟基、烷基、烯基、炔基、环烷基、烷氧基、S(O)↓[a]R↑[bb]或C(O)R↑[cc];各R↑[aa]独立地是:烷基、卤代烷基、烷氧基烷基、环烷基烷基、烯基、卤代烯基、炔基、卤代炔基、环烷基、烷基羰基、卤代烷基羰基、烷氧基羰基、卤代烷氧基羰基、烷基磺酰基、卤代烷基磺酰基、氨基羰基、烷基氨基羰基、二烷基氨基羰基、烷基亚氨基或二烷基亚氨基;a是选自0、1和2的整数;各R↑[bb]独立地是:烷基、卤代烷基、烷氧基烷基、烯基、卤代烯基、炔基、卤代炔基、环烷基或烷基羰基氨基;R↑[cc]是:氢、羟基、烷基、卤代烷基、烷氧基烷基、烯基、卤代烯基、炔基、卤代炔基、环烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷氧基烷氧基、芳基烷氧基、环烷氧基、氨基、烷基氨基、二烷基氨基或烷基磺酰基氨基;R↑[dd]是:氢、烷基、卤代烷基、烷氧基烷基、烯基、卤代烯基、炔基、卤代炔基、环烷基、烷基羰基、卤代烷基羰基、烷氧基羰基、卤代烷氧基羰基、烷基磺酰基、卤代烷基磺酰基、氨基羰基、烷基氨基羰基或二烷基氨基羰基;R↑[ee]是:氢、烷基、卤代烷基、烷氧基烷基、烯基、卤代烯基、炔基、卤代炔基或环烷基;或者R↑[dd]和R↑[ee]与它们所连接的N原子一起形成任选含有一个选自O、N和S的其它杂原子的4-6元环,所述环任选被1-4个选自以下的基团取代:卤素、烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基和氧代;R↑[ff]、R↑[gg]和R↑[hh]各自独立地是烷基或卤代烷基;R↑[ii]是烷基、卤代烷基、烷氧基或卤代烷氧基;R↑[jj]是烷氧基或卤代烷氧基;R↑[kk]和R↑[LL]各自独立地是氢或烷基;或者R↑[kk]和R↑[LL]与它们所连接的O原子和B原子一起形成任选被1-4个烷基取代的5元杂环或6元杂环;R↑[mm]是:氢、卤素、氰基、硝基、烷基、卤代烷基、烷氧基烷基、环烷基、烷基羰基、卤代烷基羰基、烷氧基羰基、卤代烷氧基羰基、烷基磺酰基、卤代烷基磺酰基、氨基羰基、烷基氨基羰基或二烷基氨基羰基;R↑[nn]是:氢、卤素、氰基、硝基、烷基、卤代烷基、烷基羰基、卤代烷基羰基、烷氧基羰基、卤代烷氧基羰基、烷基磺酰基、卤代烷基磺酰基、氨基羰基、烷基氨基羰基或二烷基氨基羰基;R↑[oo]是:氢、烷基、卤代烷基、烷氧基烷基、环烷基、烷基羰基、卤代烷基羰基、烷氧基羰基、卤代烷氧基羰基、氨基羰基、烷基氨基羰基或二烷基氨基羰基;R↑[pp]是:氢、烷基、卤代烷基、烷氧基烷基或环烷基;R↑[qq]是:氢、烷基、卤代烷基、烷基羰基、卤代烷基羰基、烷氧基羰基、氨基羰基...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:W·G·惠廷厄姆
申请(专利权)人:先正达有限公司
类型:发明
国别省市:GB

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