真空蒸镀装置和真空蒸镀方法制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种真空蒸镀装置和真空蒸镀方法，该真空蒸镀装置包括：用于吸附金属掩模板的磁板，磁板包括中心磁板单元和位于中心磁板单元外周的至少一个周边磁板单元，其中，中心磁板单元和周边磁板单元相对于金属掩模板分别独立地可移动设置。本发明专利技术的技术方案利用分别独立地可移动设置的中心磁板单元和周边磁板单元先后吸附金属掩模板，可保证金属掩模板的平整性，从而有利于提高蒸镀良率。

【技术实现步骤摘要】
真空蒸镀装置和真空蒸镀方法
本专利技术实施例涉及显示面板的制备
，尤其涉及一种真空蒸镀装置和真空蒸镀方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)显示装置由于其自发光、结构简单、易实现轻薄化设计、响应速度快、视角宽、功耗低等特点，成为平板显示技术的主要产品方向之一。有机发光二极管的生产制程中，通常采用掩模蒸镀的方法在衬底基板上形成有机发光功能层(包括阴极、阳极、电子传输层、电子阻挡层、空穴传输层、空穴阻挡层、有机发光层，或者其他功能膜层)。为使衬底基板与金属掩模板之间贴合良好，通常在衬底基板远离金属掩模板的一侧设置磁板。当磁板靠近金属掩模板时，通过磁铁吸附的作用，金属掩模板托举衬底基板，从而保证金属掩模板与衬底基板之间贴合良好。然而，现有的真空蒸镀装置在使用的过程中，磁板对金属掩模板吸附效果不好，容易导致蒸镀良率降低。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种真空蒸镀装置和真空蒸镀方法，有利于优化磁板与金属掩模板的吸附效果，从而提高蒸镀良率。第一方面，本专利技术实施例提供了一种真空蒸镀装置，该真空蒸镀装置与金属掩模板配合使用，该真空蒸镀装置包括：用于吸附所述金属掩模板的磁板，磁板包括中心磁板单元和位于中心磁板单元外周的至少一个周边磁板单元，其中，中心磁板单元和周边磁板单元相对于金属掩模板分别独立地可移动设置。进一步地，至少一个周边磁板单元包括多个相对于金属掩模板分别独立地可移动设置的周边磁板单元。进一步地，至少一个周边磁板单元包括平行设置在所述中心磁板单元两侧的至少两个周边磁板单元；中心磁板单元的延伸方向与金属掩模板中的掩模主体的长边方向垂直；优选地，位于中心磁板单元两侧的周边磁板单元对称设置。进一步地，至少一个周边磁板单元包围环绕中心磁板单元；优选地，中心磁板单元的形状为圆形或矩形，至少一个周边磁板单元的形状为与中心磁板单元的形状对应的圆形环或矩形环；优选地，至少一个周边磁板单元包括由中心磁板单元向外依次排布的多个周边磁板单元。进一步地，磁板包括安装基板以及设置在安装基板上的若干个磁条。进一步地，磁板上设置有多组沿同一方向排布的磁条组，每组磁条组中包括多个磁条；其中，相邻两组磁条组中的磁条的远离安装基板的一端极性不同，且位于同一所述磁条组中的相邻两个磁条的极性相同或不同。进一步地，位于相邻两个磁条组中的各所述磁条交错排布。进一步地，磁条为永磁铁。第二方面，本专利技术实施例还提供了一种真空蒸镀方法，该真空蒸镀方法包括：提供金属掩模板及位于金属掩模板上的待蒸镀基板，形成待蒸镀组件；将待蒸镀组件置于真空蒸镀装置中，真空蒸镀装置中包括磁板，磁板包括中心磁板单元和位于中心磁板单元外周的至少一个周边磁板单元；驱动磁板的中心磁板单元先于周边磁板单元与待蒸镀组件贴合。进一步地，该蒸镀方法还包括：预先调整磁板的结构，使得中心磁板单元和至少一个周边磁板单元面向待蒸镀组件的一侧形成高度差，形成初始状态；驱动具有初始状态的磁板向待蒸镀组件移动，使得中心磁板单元与中心磁板单元贴合；驱动周边磁板单元向待蒸镀组件移动，至磁板整面与待蒸镀组件贴合为止。进一步地，至少一个周边磁板单元包括多个周边磁板单元；在调整磁板的结构形成初始状态的过程中，使得磁板面向待蒸镀组件的一侧由中心磁板单元向磁板的边缘方向形成依次变化的高度差；在驱动周边磁板单元向待蒸镀组件移动的过程中，使得周边磁板单元由中心磁板单元向磁板的边缘方向依次与待蒸镀组件吸附，至磁板整面与待蒸镀组件贴合为止。本专利技术实施例提供的真空蒸镀装置与金属掩模板配合使用，通过将磁板拆分为中心磁板单元和至少一个周边磁板单元，并使得中心磁板单元和周边磁板单元相对于金属掩模板分别独立地可移动设置。这样的磁板结构有利于使得金属掩模板的中心区域率先被中心磁板单元吸附，以托起衬底基板的中心区域；而后再使得周边磁板单元吸附金属掩模板的周边区域，直至金属掩模板将衬底基板托平。在磁板吸附金属掩模板的过程中，金属掩模板由中心区域向周边区域逐渐被吸附，以使得磁板对变形了的金属掩模板吸附效果更好，进而可提高蒸镀良率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图做一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的一种真空蒸镀装置的结构示意图；图2是本专利技术实施例提供的一种磁板的结构示意图；图3是本专利技术实施例提供的一种磁板吸附金属掩模板的状态示意图；图4是本专利技术实施例提供的另一种磁板吸附金属掩模板的状态示意图；图5是本专利技术实施例提供的另一种磁板的结构示意图；图6是本专利技术实施例提供的又一种磁板的结构示意图；图7是本专利技术实施例提供的又一种磁板吸附金属掩模板的状态示意图；图8是本专利技术实施例提供的又一种磁板吸附金属掩模板的状态示意图；图9是本专利技术实施例提供的又一种磁板的结构示意图；图10是本专利技术实施例提供的又一种磁板的结构示意图；图11是本专利技术实施例提供的又一种磁板吸附金属掩模板的状态示意图；图12是本专利技术实施例提供的又一种磁板吸附金属掩模板的状态示意图；图13是本专利技术实施例提供的又一种磁板的结构示意图；图14是本专利技术实施例提供的又一种磁板的结构示意图；图15是本专利技术实施例提供的又一种磁板的结构示意图；图16是本专利技术实施例提供的另一种真空蒸镀装置的结构示意图；图17是本专利技术实施例提供的又一种真空蒸镀装置的结构示意图；图18是本专利技术实施例提供的一种真空蒸镀方法的流程示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。在现有技术中的真空蒸镀装置使用过程中，所采用的磁板一般是整块的磁板，在磁板与金属掩模板进行吸附的过程中，由于金属掩模板上方所设置的衬底基板自身重力作用，衬底基板存在下垂向下压金属掩模板的情况，这种情况就容易导致金属掩模板的中心区域下垂，进而导致金属掩模板的四周边缘距离磁板较近，而中心区域距离磁板较远。发生了变形的金属掩模板在蒸镀过程中会导致蒸镀不良，蒸镀良率较低。图1是本专利技术实施例提供的一种真空蒸镀装置的结构示意图，该真空蒸镀装置与金属掩模板配合使用。参照图1，该真空蒸镀装置10包括：用于吸附金属掩模板12的磁板11，磁板11包括中心磁板单元11E和位于中心磁板单元11E外周的至少一个周边磁板单元11S，其中，中心磁板单元11E和周边磁板单元11S相对于金属掩模板12分别独立地可移动设置。其中，真空蒸镀装置10可为溅射装置、蒸发装置或本领域技术人员可知的其他类型的真空蒸镀装置。该真空蒸镀装置10还可包括真空腔室、真空泵以及本领域技术人员可知的其他组件，本专利技术实施例对此不作限定。其中，在执行真空蒸镀之前，利用磁板11吸附将金属掩模板13贴附至衬底基板13的一侧，以便利用金属掩模板12中的掩模图案在衬底基板13的表面形成预设图案，该预设图案可根据工艺需求设置，本专利技术实施例对此不作限定。其中，通过设置磁板11包括中心磁板本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空蒸镀装置，与金属掩模板配合使用，其特征在于，所述真空蒸镀装置包括：用于吸附所述金属掩模板的磁板，所述磁板包括中心磁板单元和位于所述中心磁板单元外周的至少一个周边磁板单元，其中，所述中心磁板单元和所述周边磁板单元相对于所述金属掩模板分别独立地可移动设置。

【技术特征摘要】
1.一种真空蒸镀装置，与金属掩模板配合使用，其特征在于，所述真空蒸镀装置包括：用于吸附所述金属掩模板的磁板，所述磁板包括中心磁板单元和位于所述中心磁板单元外周的至少一个周边磁板单元，其中，所述中心磁板单元和所述周边磁板单元相对于所述金属掩模板分别独立地可移动设置。2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述至少一个周边磁板单元包括多个相对于所述金属掩模板分别独立地可移动设置的周边磁板单元。3.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述至少一个周边磁板单元包括平行设置在所述中心磁板单元两侧的至少两个周边磁板单元；所述中心磁板单元的延伸方向与所述金属掩模板中的掩模主体的长边方向垂直；优选地，位于所述中心磁板单元两侧的周边磁板单元对称设置。4.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述至少一个周边磁板单元包围环绕所述中心磁板单元；优选地，所述中心磁板单元的形状为圆形或矩形，所述至少一个周边磁板单元的形状为与所述中心磁板单元的形状对应的圆形环或矩形环；优选地，所述至少一个周边磁板单元包括由中心磁板单元向外依次排布的多个周边磁板单元。5.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述磁板包括安装基板以及设置在所述安装基板上的若干个磁条。6.根据权利要求5所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述磁板上设置有多组沿同一方向排布的磁条组，每组所述磁条组中包括多个磁条；其中，相邻两组所述磁条组中的所述磁条的远离所述安装基板的一端极性不同，且位于同一所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李文星，李俊峰，甘帅燕，范波涛，彭兆基，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32