钛合金间歇式低压真空碳氮复合渗的表面处理装置制造方法及图纸

技术编号:14464716 阅读:90 留言:0更新日期:2017-01-20 16:29
本实用新型专利技术公开了一种钛合金间歇式低压真空碳氮复合渗的表面处理装置,该装置包括并联的高纯氮气罐(1)、高纯氩气罐(2)和高纯乙炔罐(3);三个气体罐通过管道连接一个气体缓存罐(11),气体缓存罐(11)通过管道与真空管式加热炉(5)连接,真空管式加热炉(5)与真空系统(4)连接;所述真空管式加热炉(5)内设有两层石英玻璃板(6),并且通道(8)与石英玻璃板(6)之间充填有隔热石棉纤维(7)。本实用新型专利技术的这种装置,能够将气体渗碳和气体氮化结合起来,先进行气体渗碳,这样在工件或试样表面产生的微裂纹或缝隙可以使后期的活性氮原子进一步扩渗。弥补单独气体碳化带来的不足。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种钛合金间歇式低压真空碳氮复合渗的表面处理装置,属于钛合金表面改性

技术介绍
钛合金具有高的比强度、耐腐蚀性好、耐高温以及良好的生物相容性等优点,广泛应用于机械、能源、石油化工、航空航天和生物工程等领域。但钛合金表面硬度不高,耐磨性及耐疲劳性能差,极易和气体的金属材料发生粘着磨损等缺点,因而其使用范围受到了极大的限制。在所有的合金元素中,氮对钛的硬度影响最大,钛的氮化物具有很高的硬度、优良的化学稳定性、低的摩擦系数、优异的生物兼容性及好的导电性等优点,在钛合金表面制备钛的氮化物改性层是提高其表面硬度,改善其耐磨性,延长其使用寿命,扩大其使用范围的有效措施。目前,主要采用磁控溅射、离子渗氮、激光气体氮化及气体渗氮方法在钛合金表面制备钛的氮化物改性层。磁控溅射技术可形成一定厚度的TiN膜层,提高硬度,改善耐磨性,但经磁控溅射法处理膜层和基体间存在明显界面,结合强度差,涂层薄,许多性能指标不是很理想。离子渗氮可明显提高钛合金的表面硬度及耐磨性,但离子渗氮不能对形状复杂的零件进行处理,且成本较高。激光渗氮形成的组织较细,渗氮层与基体结合紧密,但高能密度激光束的快速加热和基体的激冷作用,使熔覆层中产生极大的热应力,极易产生裂纹。同时,在激光快速熔凝的条件下,当熔池中的气体来不及逸出,容易形成气孔,激光处理的裂纹和气孔一直是阻碍该技术应用的难点,实际生产中也较少使用。气体渗氮简单易行,成本低廉,可以在钛合金表面形成氮化物硬质相,显著提高耐磨性能和腐蚀性能。但钛合金常规的气体渗氮随着氮化膜厚度的增加,氮和钛具有很强的亲和力,致密的氮化层将阻碍氮的深入,同时钛合金极易氧化,致密的氧化膜也将阻碍氮的向内扩散,因此现有的气体渗氮技术存在着氮化速度慢、渗层薄、渗层脆及处理时间过长等缺点。所以现有的钛合金表面气体渗氮技术还是不够理想,不能满足使用的需要。钛合金经过渗碳处理后,可获得均匀的渗碳层,能够获得较深的渗碳层深度和较高的硬度。但通常情况下渗碳温度较高,零件容易发生变形,同时气氛中活性碳原子浓度较高,吸附在工件表面,并随着渗碳时间的延长,越靠近工件表面碳浓度越高,出现积碳现象,不仅影响了渗碳速度,还导致渗层深度内碳浓度分布不均匀,只能延长渗碳扩散时间或提高渗碳温度,其结果是工件淬火后时常出现碳化物和马氏体级别超差,获得的碳浓度梯度不理想,影响工件的使用性能。认为沉积在零件表面上的碳黑阻止活性碳原子的渗入,妨碍渗碳过程的进行,使渗层不均匀。附在炉罐壁上的碳黑降低其导热性,降低设备使用寿命等。目前,钛合金单一的渗氮或渗碳的表面改性技术均存在一定的缺陷,对钛合金性能改善还不够理想,不能满足使用的需要。将渗氮和渗碳各自的优点结合起来,在TiN中加入C就会形成Ti(N,C)化合物,当各原子达到适当的化学计量比时,可得到硬度极高、耐高温和耐磨损都很好的Ti(C,N)化合物,研究开发钛合金表面碳氮多层复合梯度改性层具有深远的现实意义和广阔的发展前景。
技术实现思路
本技术的目的是克服传统意义上的钛合金单纯的渗氮或渗碳存在的缺陷,提供一种简单便捷、质量稳定、成本低、短周期的钛合金表面强化装置。本技术是通过以下技术方案实现:一种钛合金间歇式低压真空碳氮复合渗的表面处理装置,该装置包括并联的高纯氮气罐、高纯氩气罐和高纯乙炔罐;三个气体罐通过管道连接一个气体缓存罐,气体缓存罐通过管道与真空管式加热炉连接,真空管式加热炉与真空系统连接;所述真空管式加热炉内设有两层石英玻璃板,并且通道与石英玻璃板之间充填有隔热石棉纤维。进一步的,在气体缓存罐与真空管式加热炉之间设有一个减压阀和一个流量计。装置气体缓存器和减压阀主要为了准确控制气体压力和流量,同时在复合渗对介质进行加热前控制气体的混合比。而真空系统由分子泵机组和真空泵组成。另外,在高纯氩气瓶、高纯氮气瓶以及高纯乙炔的出气口的管道上都分别安装有压力表,并且在高纯氩气瓶的出气口端装有氩气控制阀门、在高纯氮气和高纯乙炔瓶的出气口端装有气气体控制阀门,在连接真空泵和反应器的排气管道上安装有真空规和排气控制阀门。在碳氮复合渗反应罐两端有密封圈。分子泵机组连接有循环水冷却管。本技术具有以下技术效果:首先,区别于传统意义上的钛合金单纯气体碳化和气体氮化,单纯的气体碳化,渗碳阶段周期较长,气氛中活性碳原子浓度较高,吸附在工件表面,并随着渗碳时间的延长,越靠近工件表面碳浓度越高,产生积碳现象,且易出现裂纹和渗碳不均匀;钛合金常规的气体渗氮随着氮化膜厚度的增加,氮和钛具有很强的亲和力,致密的氮化层将阻碍氮的深入,同时钛合金极易氧化,致密的氧化膜也将阻碍氮的向内扩散,因此现有的气体渗氮技术存在着氮化速度慢、渗层薄、渗层脆及处理时间过长等缺点。本技术的这种装置,能够将气体渗碳和气体氮化结合起来,先进行气体渗碳,这样在工件或试样表面产生的微裂纹或缝隙可以使后期的活性氮原子进一步扩渗。弥补单独气体碳化带来的不足,这样在钛合金表面生成的为钛的氮化物,钛的碳化物以及钛的碳氮化物,更有利于提高其表面性能。其次,本技术这种装置采用间隙式周期反复充气和抽气,具有以下优点:低压下碳/氮具有较高的碳/氮势,能产生较多的活性原子,周期反复间歇式通/抽气。一方面,炉压处于低压时,狭缝及孔内的气氛被强行排出,充气时又强行加入新鲜气体,气体交换可达到任何与炉气相通的部位。另一方面,周期交换炉气,在工件表面的滞留气薄层迅速遭到破坏,新气氛产生新的活性原子,加快了活性原子在工件表面的碰撞,使渗入元素在工件表面的吸附速度和反应速率得到有效提高。再次,本技术复合渗的介质为高纯乙炔气体或高纯乙炔+高纯氩气,高纯氮气或高纯氮气+高纯氩气。气体渗碳时纯在最大的问题是产生大量炭黑和产生氢脆,传统的气体渗碳是以甲烷、乙炔等含有氢的气体为/碳源易引发氢脆。为了进一步提高钛合金表面性能并避免氢脆,采用乙炔气体在钛合金表面进行渗碳,乙炔是烷烃类气体中含氢量少含碳量高的气体,并用氩气进行稀释减少炭黑的产生。附图说明图1为本技术的装置结构示意图;附图1中的标记为:1-高纯氮气罐,2-高纯氩气罐,3-高纯乙炔罐,4-真空系统,5-真空管式加热炉,6-石英玻璃板,7-隔热石棉纤维,8-通道,9-流量计,10-减压阀,11-气体缓存罐。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步的说明。如图1所示,本技术使用的一种钛合金碳氮复合渗的表面处理装置由高纯氮气罐1、高纯氩气罐2、高纯乙炔罐3、气体缓存罐11、减压阀10、真空管式加热炉5和真空系统4组成;高纯氮气罐1、高纯氩气罐2、高纯乙炔罐3通过不锈钢管路分别与气体缓存器11连接,气体缓存器11的另一端连接减压阀10,再连接流量计9,流量计9再连接真空管式加热炉5,真空管式加热炉5的尾端连接真空系统4进行抽真空处理。在真空管式加热炉5内设有两层石英玻璃板6,并且通道8与石英玻璃板6之间充填有隔热石棉纤维7。下面是采用本技术的几个具体实施例:实施例1:乙炔+氮气:对TC4钛合金试样进行渗前预处理(试样的整理、清理及活化等),将经过预处理的试样装入反应器罐中,将反应罐密封、检漏及排空气后通过真空系统4抽真空,通过反应器罐中的真空管式加热炉5将反应本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种钛合金间歇式低压真空碳氮复合渗的表面处理装置,其特征在于:该装置包括并联的高纯氮气罐(1)、高纯氩气罐(2)和高纯乙炔罐(3);三个气体罐通过管道连接一个气体缓存罐(11),气体缓存罐(11)通过管道与真空管式加热炉(5)连接,真空管式加热炉(5)与真空系统(4)连接;所述真空管式加热炉(5)内设有两层石英玻璃板(6),并且通道(8)与石英玻璃板(6)之间充填有隔热石棉纤维(7)。

【技术特征摘要】
1.一种钛合金间歇式低压真空碳氮复合渗的表面处理装置,其特征在于:该装置包括并联的高纯氮气罐(1)、高纯氩气罐(2)和高纯乙炔罐(3);三个气体罐通过管道连接一个气体缓存罐(11),气体缓存罐(11)通过管道与真空管式加热炉(5)连接,真空管式加热炉(5)与真空系统(4)连接;所述真空管式加热炉(5)内设有两层石英玻璃板(6),并且通道(8)...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨闯刘静祝圆圆马亚芹万月红杨文飞陈希和
申请(专利权)人:贵州师范大学
类型:新型
国别省市:贵州;52

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