The invention relates to an evaporation crucible thermal control device, which comprises: evaporation crucible, a heating device; a plurality of temperature detection unit for detecting the evaporation crucible on several test points of temperature; some reflection plate arranged on the periphery of the evaporation crucible, and evaporation crucible used to reflect heat and a control unit; a plurality of temperature detection unit based on the temperature detection, distance control a plurality of reflecting plate moves to adjust each of the reflective plate between the evaporation crucible. The evaporation crucible thermal control device, the control unit according to the measured temperature of each detection point, respectively independent control of each reflection plate, the deposition area near the reflection plate of high temperature evaporation from the crucible crucible, near the reflector near the low temperature evaporation from the crucible, and the thermal field is more uniform thus, the evaporation source is heated uniformly, the final form of the film thickness. The invention also provides a evaporation system.
【技术实现步骤摘要】
蒸镀坩埚热场控制装置及蒸镀系统
本专利技术涉及显示领域,特别是涉及一种在显示面板制造过程中的蒸镀坩埚热场控制装置及蒸镀系统。
技术介绍
在显示面板的制造过程中,特别是OLED显示面板的制造过程中,通常会使用蒸镀工艺来形成膜层。在蒸镀操作时,一般将蒸镀源放置在蒸镀坩埚内,然后对蒸镀坩埚进行加热,使蒸镀源受热,并气化离开蒸镀坩埚,最后蒸镀源镀覆在待蒸镀基材上,从而在待蒸镀基材上形成膜层。但是,目前蒸镀所形成的膜层,一般部分区域较厚,部分区域较薄,即形成的膜层厚度不均,这将严重影响显示面板的品质。
技术实现思路
基于此,有必要针对现有技术中蒸镀所形成的膜层厚度不均的问题,提供一种能够形成厚度均匀的膜层的蒸镀坩埚热场控制装置。一种蒸镀坩埚热场控制装置,包括:蒸镀坩埚;加热装置,用于对所述蒸镀坩埚加热;若干温度检测单元,用于检测所述蒸镀坩埚上若干检测点的温度;若干反射板,设置于所述蒸镀坩埚的外围,且用于向蒸镀坩埚反射热量;以及控制单元,基于若干所述温度检测单元所检测的温度,控制若干所述反射板移动以调整每个所述反射板与所述蒸镀坩埚之间的间距。上述蒸镀坩埚热场控制装置,温度检测单元检测蒸镀坩埚上若干检测点的温度,然后控制单元根据各检测点的实测温度,分别独立控制各个反射板,使蒸镀坩埚温度高的区域附近的反射板远离蒸镀坩埚,温度低的区域附近的反射板靠近蒸镀坩埚,从而使整个热场更加均一,进而使整个蒸镀坩埚各区域的温度尽可能的保持一致,从而蒸镀源受热一致,蒸发速率一致,最终形成的膜层厚度一致。在其中一个实施例中,所述反射板与所述温度检测单元一一对应设置,所述控制单元基于每个所述温度检 ...
【技术保护点】
一种蒸镀坩埚热场控制装置,其特征在于,包括:蒸镀坩埚;加热装置,用于对所述蒸镀坩埚加热;若干温度检测单元,用于检测所述蒸镀坩埚上若干检测点的温度;若干反射板,设置于所述蒸镀坩埚的外围,且用于向蒸镀坩埚反射热量;以及控制单元,基于若干所述温度检测单元所检测的温度,控制若干所述反射板移动以调整每个所述反射板与所述蒸镀坩埚之间的间距。
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀坩埚热场控制装置,其特征在于,包括:蒸镀坩埚;加热装置,用于对所述蒸镀坩埚加热;若干温度检测单元,用于检测所述蒸镀坩埚上若干检测点的温度;若干反射板,设置于所述蒸镀坩埚的外围,且用于向蒸镀坩埚反射热量;以及控制单元,基于若干所述温度检测单元所检测的温度,控制若干所述反射板移动以调整每个所述反射板与所述蒸镀坩埚之间的间距。2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚热场控制装置,其特征在于,所述反射板与所述温度检测单元一一对应设置,所述控制单元基于每个所述温度检测单元所检测的温度,控制其对应的反射板移动以靠近或远离所述蒸镀坩埚。3.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚热场控制装置,其特征在于,所述反射板分别对称分布于所述蒸镀坩埚的两侧。4.根据权利要求1~3任一项所述的蒸镀坩埚热场控制装置,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:宋建华,
申请(专利权)人:昆山国显光电有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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